本實(shí)用新型涉及萃取槽應(yīng)用領(lǐng)域，尤其涉及一種防旋渦萃取槽。

背景技術(shù)：

萃取槽通常由混合室和澄清室兩部分組成，屬于逐級(jí)接觸式液液傳質(zhì)設(shè)備。混合室中裝有攪拌器，用以促進(jìn)液滴破碎和均勻混合。澄清室是腔體容積較大的空室，用以混合后的液液靜止分層，在生物制藥及化學(xué)領(lǐng)域有較為廣泛的應(yīng)用。

現(xiàn)有的萃取槽的澄清室設(shè)置有放料管，在放料的過程中，液位、料液黏度經(jīng)常變化，在不同的應(yīng)用過程中，容易產(chǎn)生旋渦或者紊流，嚴(yán)重影響萃取質(zhì)量，甚至導(dǎo)致萃取失敗。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種防旋渦萃取槽。

本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：一種防旋渦萃取槽，包括混合室，所述混合室內(nèi)靠近中心位置設(shè)置有攪拌裝置，所述混合室的最低位置連通有帶有閥門的第一卸料管，所述第一卸料管一端與混合室連通，另一端連通有澄清室，所述澄清室的最低位置處連通有帶有閥門的第二卸料管，所述第二卸料管的進(jìn)口處上方設(shè)置有擋板，所述擋板的邊緣與澄清室底部之間設(shè)置有網(wǎng)孔板，所述澄清室內(nèi)側(cè)壁之間還設(shè)置有至少一層?xùn)虐濉?/p>

優(yōu)選地，所述澄清室底面為平面，所述第二卸料管設(shè)置于澄清室底面靠近中心位置處。

優(yōu)選地，所述的擋板與澄清室底面相平，所述的網(wǎng)孔板與澄清室底面垂直。

優(yōu)選地，所述的柵板設(shè)置為與底面相平行的兩層，其中上層?xùn)虐寰喑吻迨业酌娴木嚯x為澄清室深度的1/3～1/2，下層?xùn)虐寰喑吻迨业酌娴木嚯x為澄清室深度的1/5～1/4。

優(yōu)選地，所述的網(wǎng)孔板其截面為向外的弧形。

本實(shí)用新型的有益效果在于：在第二卸料管進(jìn)口處設(shè)置網(wǎng)孔板，能夠?qū)⒁毫鞣珠_，避免角動(dòng)量累計(jì)，從而降低旋渦產(chǎn)生的概率；在澄清室內(nèi)設(shè)置柵板，能夠?qū)σ毫鬟M(jìn)行隔斷，從而有效的防止旋渦產(chǎn)生。

附圖說明

圖1為防旋渦萃取槽組裝示意圖。

具體實(shí)施方式

如圖1所示的防旋渦萃取槽，包括混合室1，混合室內(nèi)1靠近中心位置設(shè)置有攪拌裝置2，混合室1的最低位置連通有帶有閥門的第一卸料管3，第一卸料管3一端與混合室1連通，另一端連通有澄清室4，澄清室4的底面設(shè)置為平面，這樣能夠方便測(cè)量或者觀察有機(jī)相層與水相層之間分離的狀況，澄清室4的底面靠近中心位置設(shè)置有帶有閥門的第二卸料管5，第二卸料管5的進(jìn)口處上方設(shè)置有與澄清室4底面相平的擋板6，擋板6邊緣與澄清室4底面之間設(shè)置有與其垂直的網(wǎng)孔板7，網(wǎng)孔板7的截面為向外的弧形，不僅能夠起到防止旋渦的作用，還能夠有效的避免氣泡的產(chǎn)生。

澄清室4的側(cè)壁之間設(shè)置有兩層與其底面相平行的柵板，分別為上層?xùn)虐?和下層?xùn)虐?，其中上層?xùn)虐?距澄清室4底面的距離為澄清室深度的1/2，下層?xùn)虐?距澄清室底面的距離為澄清室深度的1/4，這樣能夠有效對(duì)液流進(jìn)行隔斷，同時(shí)不會(huì)形成紊流。

對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，具體實(shí)施例只是對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了示例性描述，顯然本實(shí)用新型具體實(shí)現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本實(shí)用新型的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進(jìn)行的各種非實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)，或未經(jīng)改進(jìn)將本實(shí)用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其它場(chǎng)合的，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。