本發(fā)明涉及靜電噴涂技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備。
背景技術(shù)：
靜電噴涂工藝是利用靜電把粉體吸附在工件的表面，經(jīng)燒烤成膜的涂裝工藝。靜電噴涂法是以接地的被涂物作為陽(yáng)極，設(shè)備高壓電柵作為陰極，接上負(fù)高壓，在兩極間形成高壓靜電場(chǎng)，陰極產(chǎn)生電暈放電，使噴出的涂料粒子帶電，并進(jìn)一步霧化，按同性相斥，異性相吸的原理，使帶電的涂料粒子在靜電場(chǎng)的作用下沿電力線方向吸附被涂物，放電后粘附在被涂物上的一種工藝方法。
目前，靜電噴涂多是通過工人手工握持噴槍完成。在長(zhǎng)時(shí)間從事重復(fù)性工作后，工人容易產(chǎn)生視覺和腦神經(jīng)疲勞，從而，難以保證噴涂質(zhì)量。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
基于背景技術(shù)存在的技術(shù)問題，本發(fā)明提出了一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備。
本發(fā)明提出的一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備，包括：
建模單元，其中設(shè)有三維坐標(biāo)系，且三維坐標(biāo)系中預(yù)設(shè)有噴涂模型；
掃描單元，其與建模單元連接，用于對(duì)修復(fù)目標(biāo)進(jìn)行掃描；
建模單元在三維坐標(biāo)系中根據(jù)掃描數(shù)據(jù)建立實(shí)體模型，并將實(shí)體模型與噴涂模型進(jìn)行對(duì)比，并根據(jù)對(duì)比結(jié)果生成缺失模型，缺失模型包括所有噴涂模型相較于實(shí)體模型多出的點(diǎn)；
建模單元提取缺失模型表面的點(diǎn)建立缺失蒙層，缺失蒙層可配合實(shí)體模型將缺失模型密封包裹；建模單元根據(jù)缺失蒙層走線將其分割為多個(gè)噴射子區(qū)；
光照單元，其與建模單元連接，獲得各噴射子區(qū)定位，并逐一向各噴射子區(qū)投光；
靜電粉末噴射單元，用于向光照中的噴射子區(qū)噴射附著電荷的粉末。
優(yōu)選地，還包括控光按鈕，其與光照單元連接；光照單元接收到按鈕信號(hào)，光照向下一個(gè)待涂粉的噴射子區(qū)轉(zhuǎn)移。
優(yōu)選地，缺失蒙層上任一點(diǎn)最多被兩個(gè)噴射子區(qū)囊括。
優(yōu)選地，各噴射子區(qū)均為圓形。
優(yōu)選地，靜電粉末噴射單元包括第一噴槍和第二噴槍，第二噴槍的槍口孔徑小于第一噴槍的槍口孔徑。
優(yōu)選地，第二噴槍的槍口孔徑為第一噴槍的槍口孔徑的十分之一或者百分之一。
優(yōu)選地，建模單元建立實(shí)體模型后，將實(shí)體模型位移至中心點(diǎn)與噴涂模型中心點(diǎn)重合，然后提取存在于噴涂模型卻不存在于實(shí)體模型的點(diǎn)生成缺失模型。
優(yōu)選地，建模單元建立實(shí)體模型后，提取噴涂模型表面的點(diǎn)生成噴涂蒙層，然后將噴涂蒙層覆蓋到實(shí)體模型上，并建立填充蒙層與實(shí)體模型之間的空隙的缺失模型。
本發(fā)明提出的一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備工作時(shí)，首先開啟設(shè)備，設(shè)備通過建模單元完成準(zhǔn)備工作后，向噴射子區(qū)投光，工作人員通過靜電粉末噴槍向被光線籠罩的噴射子區(qū)噴粉。如此，通過投光區(qū)域的轉(zhuǎn)移，逐一完成對(duì)各噴射子區(qū)的噴粉。在光照指引下，噴粉路徑明確，有利于避免重復(fù)噴粉，還可克服工人在長(zhǎng)期進(jìn)行重復(fù)工作后視覺疲勞導(dǎo)致的失誤，有利于保證修復(fù)工作進(jìn)行的順利，保證修復(fù)質(zhì)量。
本發(fā)明中，建模單元在三維坐標(biāo)系中根據(jù)掃描數(shù)據(jù)建立實(shí)體模型，并將實(shí)體模型與噴涂模型進(jìn)行對(duì)比，并根據(jù)對(duì)比結(jié)果生成缺失模型，缺失模型包括所有噴涂模型相較于實(shí)體模型多出的點(diǎn)。如此，通過三維建模、模型對(duì)比確定修復(fù)目標(biāo)上的缺失部分，實(shí)現(xiàn)了對(duì)于缺失部分的精確定位，為光照的精準(zhǔn)指引提供了基礎(chǔ)。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明提出的一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
參照?qǐng)D1，本發(fā)明提出的一種定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備，包括：建模單元1、掃描單元2、光照單元3、控光按鈕4和靜電粉末噴射單元。
建模單元1中設(shè)有三維坐標(biāo)系，且三維坐標(biāo)系中預(yù)設(shè)有噴涂模型。
掃描單元2與建模單元1連接，用于對(duì)修復(fù)目標(biāo)進(jìn)行掃描。本實(shí)施方式中，掃描單元2采用紅外激光器進(jìn)行掃描，采用紅外掃描的方式可保證掃描效率和精確度。
建模單元1在三維坐標(biāo)系中根據(jù)掃描數(shù)據(jù)建立實(shí)體模型，并將實(shí)體模型與噴涂模型進(jìn)行對(duì)比，并根據(jù)對(duì)比結(jié)果生成缺失模型，缺失模型包括所有噴涂模型相較于實(shí)體模型多出的點(diǎn)。
具體地，建模單元1建立實(shí)體模型后，將實(shí)體模型位移至中心點(diǎn)與噴涂模型中心點(diǎn)重合，然后提取存在于噴涂模型卻不存在于實(shí)體模型的點(diǎn)生成缺失模型?；蛘?，建模單元1建立實(shí)體模型后，提取噴涂模型表面的點(diǎn)生成噴涂蒙層，然后將噴涂蒙層覆蓋到實(shí)體模型上，并建立填充蒙層與實(shí)體模型之間的空隙的缺失模型。
以上提供的兩種缺失模型的建立方式，都是對(duì)修復(fù)目標(biāo)缺失涂層的補(bǔ)充，如此建立的缺失模型為修復(fù)目標(biāo)的修補(bǔ)工作奠定了基礎(chǔ)。
建模單元1提取缺失模型表面的點(diǎn)建立缺失蒙層，缺失蒙層可配合實(shí)體模型將缺失模型密封包裹。建模單元1根據(jù)缺失蒙層走線將其分割為多個(gè)噴射子區(qū)。具體的，各噴射子區(qū)均為圓形，以滿足噴槍槍口設(shè)計(jì)。缺失蒙層上任一點(diǎn)最多被兩個(gè)噴射子區(qū)囊括。靜電噴涂的涂層很薄，缺失蒙層上任一點(diǎn)被噴涂?jī)纱尾粫?huì)導(dǎo)致涂層過厚，而噴射點(diǎn)可被兩個(gè)噴射子區(qū)囊括，為噴射子區(qū)的劃分提供了更大的靈活空間，為噴射子區(qū)的人性化分割提供了基礎(chǔ)。
光照單元3與建模單元1連接，獲得各噴射子區(qū)定位，并逐一向各噴射子區(qū)投光。具體地，光照單元3包括投光面積可調(diào)的投光器件和可驅(qū)動(dòng)投光器件適度運(yùn)動(dòng)以滿足透光角度需求的支撐驅(qū)動(dòng)設(shè)備。光照單元3根據(jù)待投光噴射子區(qū)的面積調(diào)整投光器件的透光面積，并根據(jù)待投光噴射子區(qū)的位置控制支撐驅(qū)動(dòng)設(shè)備調(diào)整投光角度。
控光按鈕4與光照單元3連接。光照單元3接收到按鈕信號(hào)，光照向下一個(gè)待涂粉的噴射子區(qū)轉(zhuǎn)移。
靜電粉末噴射單元，用于向光照中的噴射子區(qū)噴射附著電荷的粉末。具體的，靜電粉末噴射單元包括第一噴槍和第二噴槍，第二噴槍的槍口孔徑小于第一噴槍的槍口孔徑。如此，通過槍口孔徑大小不同的第一噴槍和第二噴槍，可滿足面積大小不同的噴射子區(qū)的要求，尤其是克服了槍口孔徑過大時(shí)，不能將噴粉局限在較小的噴射子區(qū)，容易造成過界的問題。本實(shí)施方式中，第二噴槍的槍口孔徑為第一噴槍的槍口孔徑的十分之一或者百分之一。
利用本實(shí)施方式提供的定位指導(dǎo)型靜電粉末噴涂修正設(shè)備對(duì)工件進(jìn)行噴粉修復(fù)時(shí)，首先開啟設(shè)備，設(shè)備通過建模單元1完成準(zhǔn)備工作后，向噴射子區(qū)投光，工作人員通過靜電粉末噴槍向被光線籠罩的噴射子區(qū)噴粉。如此，通過投光區(qū)域的轉(zhuǎn)移，逐一完成對(duì)各噴射子區(qū)的噴粉。在光照指引下，噴粉路徑明確，有利于避免重復(fù)噴粉，還可克服工人在長(zhǎng)期進(jìn)行重復(fù)工作后視覺疲勞導(dǎo)致的失誤，有利于保證修復(fù)工作進(jìn)行的順利，保證修復(fù)質(zhì)量。
以上所述，僅為本發(fā)明較佳的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案及其發(fā)明構(gòu)思加以等同替換或改變，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。