本發(fā)明涉及氫氣處理系統(tǒng)。
背景技術：
臭氧的生產(chǎn)一般采用電解的方式進行制備。
cn2830421公開了一種電解臭氧發(fā)生裝置，它包括純水箱、電解式臭氧發(fā)生器、反滲透膜處理裝置、離子交換樹脂處理裝置。
通過反滲透膜處理裝置、反滲透膜處理裝置對原水進行處理得到純水，純水進入純水箱之后進入、電解式臭氧發(fā)生器進行電解。
在電解反應過程中，陰極會產(chǎn)生氫氣。
根據(jù)氫氣的化學性質，當空氣中氫氣濃度超過4％時，就可能發(fā)生輕微的閃光燃燒，當超過8.5％時，就可能引起爆炸和火焰，當達到29％時，就可能發(fā)生劇烈爆炸。因此，在密閉的空間中，如果存在氫氣產(chǎn)生的情況，就必須監(jiān)測氫氣的濃度，采取必要的氫氣消除措施，將氫氣的濃度控制在安全范圍之內(nèi)，以確保安全。
技術實現(xiàn)要素：
本發(fā)明的目的是提供一種氫氣處理系統(tǒng)，實現(xiàn)對氫氣的快速處理，將氫氣的濃度控制在安全范圍之內(nèi)。
本發(fā)明的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現(xiàn)的：一種氫氣處理系統(tǒng)，包括
混合系統(tǒng)：包括混合室、同時與混合室連通的氫氣進口管道、空氣進口管道和混合氣體出氣管道；
催化系統(tǒng)：包括與混合出氣管道連通的催化室、與催化室連通的出風管道、安裝在催化室內(nèi)位于混合出氣管道和出風管道之間的pd—pt/a12o3催化床，pd—pt/a12o3催化床的催化溫度為35℃；
所述氫氣進口管道、空氣進口管道、出風管道處均設置有引風機；
所述pd—pt/a12o3催化床的制備過程如下：
1)用王水分別溶解pt和pd，蒸干冷卻，再加入稀鹽酸加熱溶解，配制成規(guī)定濃度為0.02g/ml的h2ptcl6溶液和濃度為0.02g/ml的h2pdcl6溶液；
2)選取外觀整齊、無疤痕的直徑10mm，長30mm的管狀γ-a12o3載體，放入蒸發(fā)皿中置于馬弗爐內(nèi)，在300℃-350℃下焙燒6h，降溫至250℃時保溫1小時，之后冷卻至常溫待用；
3)將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝2.5:1配制成混合溶液，將經(jīng)過2)后的管狀γ-a12o3載體放入混合溶液后靜置10min后取出，在110℃-120℃溫度下干燥2小時后形成半成品；
4)半成品轉移到馬福爐內(nèi)逐步升溫煅燒，500℃煅燒1小時后停止加熱，在爐內(nèi)自然降溫至室溫后取出；
5)將煅燒后的半成品放入還原管內(nèi)，通氫氣還原，還原溫度300℃-400℃，還原時間4小時。
本方案通過特定的方法制備催化床，使得氫氣在較低的溫度下被氧化。
進一步的，將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝1:2配制成混合溶液，將經(jīng)過步驟3)后的半成品放入該混合溶液靜置30min后取出，在150℃下干燥10min，之后直接將干燥好后的半成品放入60℃環(huán)境下干燥1小時，冷卻至常溫后再進行步驟4)。
載體經(jīng)過步驟3)后再經(jīng)過上述步驟的再靜置，可提高催化床的催化性能。
進一步的，在3)中混合溶液內(nèi)加入助劑tio2，tio2質量占混合溶液總質量的7％。
助劑tio2的加入可提高催化床的催化性能，且在加入助劑tio2的情況下進行二次處理(在混合溶液內(nèi)靜置后干燥)，可顯著提高催化床的催化性能。
進一步的，2)中的焙燒溫度為337℃。
進一步的，5)中的還原溫度為300℃。
綜上所述，本發(fā)明具有以下有益效果：可有效對氫氣進行氧化處理。
附圖說明
圖1是實施例1的結構示意圖。
具體實施方式
以下結合附圖對本發(fā)明作進一步詳細說明。
本具體實施例僅僅是對本發(fā)明的解釋，其并不是對本發(fā)明的限制，本領域技術人員在閱讀完本說明書后可以根據(jù)需要對本實施例做出沒有創(chuàng)造性貢獻的修改，但只要在本發(fā)明的權利要求范圍內(nèi)都受到專利法的保護。
實施例1：一種氫氣處理系統(tǒng)，包括混合系統(tǒng)：包括混合室、同時與混合室連通的氫氣進口管道、空氣進口管道和混合氣體出氣管道；
催化系統(tǒng)：包括與混合出氣管道連通的催化室、與催化室連通的出風管道、安裝在催化室內(nèi)位于混合出氣管道和出風管道之間的pd—pt/a12o3催化床，pd—pt/a12o3催化床的催化溫度為35℃；
所述氫氣進口管道、空氣進口管道、出風管道處均設置有引風機；
所述pd—pt/a12o3催化床的制備過程如下：
1)用王水分別溶解pt和pd，蒸干冷卻，再加入稀鹽酸加熱溶解，配制成規(guī)定濃度為0.02g/ml的h2ptcl6溶液和濃度為0.02g/ml的h2pdcl6溶液；
2)選取外觀整齊、無疤痕的直徑10mm，長30mm的管狀γ-a12o3載體，放入蒸發(fā)皿中置于馬弗爐內(nèi)，在337℃下焙燒6h，降溫至250℃時保溫1小時，之后冷卻至常溫待用；
3)將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝2.5:1配制成混合溶液，將經(jīng)過2)后的管狀γ-a12o3載體放入混合溶液后靜置10min后取出，在110℃-120℃溫度下干燥2小時后形成半成品；
4)半成品轉移到馬福爐內(nèi)逐步升溫煅燒，500℃煅燒1小時后停止加熱，在爐內(nèi)自然降溫至室溫后取出；
5)將煅燒后的半成品放入還原管內(nèi)，通氫氣還原，還原溫度300℃，還原時間4小時。
實施例2：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝1:2配制成混合溶液，將經(jīng)過步驟3)后的半成品放入該混合溶液靜置30min后取出，在150℃下干燥10min，之后直接將干燥好后的半成品放入60℃環(huán)境下干燥1小時，冷卻至常溫后再進行步驟4)。
實施例3：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：在3)中混合溶液內(nèi)加入助劑tio2，tio2質量占混合溶液總質量的7％。
實施例4：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例2的區(qū)別在于：在3)中混合溶液內(nèi)加入助劑tio2，tio2質量占混合溶液總質量的7％。
實施例5：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：5)中的還原溫度為350℃。
實施例6：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：5)中的還原溫度為400℃。
對比例1：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：5)中的還原溫度為500℃。
對比例2：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：5)中的還原溫度為200℃。
對比例3：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：γ-a12o3載體為顆粒狀，其總的質量與管狀一樣，顆粒直徑為10mm。
對比例4：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝1:1配制成混合溶液，將經(jīng)過步驟3)后的半成品放入該混合溶液靜置30min后取出，在150℃下干燥10min，之后直接將干燥好后的半成品放入60℃環(huán)境下干燥1小時，冷卻至常溫后再進行步驟4)。
對比例5：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝1:4配制成混合溶液，將經(jīng)過步驟3)后的半成品放入該混合溶液靜置30min后取出，在150℃下干燥10min，之后直接將干燥好后的半成品放入60℃環(huán)境下干燥1小時，冷卻至常溫后再進行步驟4)。
對比例6：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝2:1配制成混合溶液，將經(jīng)過步驟3)后的半成品放入該混合溶液靜置30min后取出，在150℃下干燥10min，之后直接將干燥好后的半成品放入60℃環(huán)境下干燥1小時，冷卻至常溫后再進行步驟4)。
對比例7：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：3)將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝4:1配制成混合溶液，將經(jīng)過2)后的管狀γ-a12o3載體放入混合溶液后靜置10min后取出，在110℃-120℃溫度下干燥2小時后形成半成品。
對比例8：一種氫氣處理系統(tǒng)，與實施例1的區(qū)別在于：3)將h2ptcl6溶液和h2pdcl6溶液按pt：pd的質量比＝1:2配制成混合溶液，將經(jīng)過2)后的管狀γ-a12o3載體放入混合溶液后靜置10min后取出，在110℃-120℃溫度下干燥2小時后形成半成品。
對實施例1-6，對比例1-8進行測試，測試過程中除過濾床的制備方法改變外，其余均相同。
從上述表格中發(fā)現(xiàn)，pt：pd的質量比控制、助劑tio2的加入有利于提升氫氣處理效果、對載體進行二次處理(在混合溶液內(nèi)靜置后干燥)均有利于提升氫氣處理效果；實施例3的氫氣處理效果最佳，助劑tio2和對載體進行二次處理使得催化床具有更好的氫氣處理效果；管狀載體的氫氣處理效果比顆粒狀載體更好。