本發(fā)明涉及無人機技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種霧化盤和具有其的霧化裝置、無人機。

背景技術(shù)：

相關(guān)技術(shù)的無人機在工作時，霧化盤隨電機高速旋轉(zhuǎn)，從而使霧化盤中的藥液在離心力的作用下從霧化盤周面甩出，在空氣中細化成霧滴。而相關(guān)技術(shù)的無人機工作時從霧化盤排出的霧滴的平均粒徑大，從而使霧化盤噴灑的范圍小，影響霧化盤的噴灑效果。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一。為此，本發(fā)明提出一種霧化盤，使排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化盤的噴灑效果。

本發(fā)明還提出一種霧化裝置，包括上述的霧化盤。

本發(fā)明還提出一種包括上述霧化裝置的無人機。

根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的霧化盤，包括：底盤，所述底盤的上表面設(shè)有進液空間；多個凸條，所述多個凸條設(shè)在所述底盤的上表面上且在所述底盤的周向上間隔分布，相鄰的兩個所述凸條與底盤之間限定出與所述進液空間連通的離心流道，所述凸條靠近所述底盤的邊緣的一端設(shè)有貫穿所述凸條的側(cè)部的第一凹槽以切割流經(jīng)所述離心流道的流體。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤，通過在凸條靠近底盤的邊緣的一端設(shè)置貫穿凸條的側(cè)部的第一凹槽，從而使霧化盤排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化盤的噴灑效果。

根據(jù)本發(fā)明的一些實施例，每個所述凸條呈弧形，每個所述第一凹槽貫穿對應(yīng)的所述凸條的遠離所述凸條的曲率中心的一側(cè)。

在本發(fā)明的一些實施例中，所述第一凹槽相對于所述底盤傾斜設(shè)置，由所述第一凹槽的遠離對應(yīng)的所述凸條的曲率中心的一側(cè)指向所述第一凹槽的靠近所述凸條的曲率中心的一側(cè)的方向為遠離所述底盤的方向。

在本發(fā)明的一些實施例中，每個所述凸條呈直線形。

在本發(fā)明的一些實施例中，所述第一凹槽相對于所述底盤傾斜設(shè)置。

在本發(fā)明的一些實施例中，每個所述第一凹槽的靠近所述底盤的一端的開口小于所述第一凹槽的遠離所述底盤的開口。

在本發(fā)明的一些實施例中，每個所述第一凹槽包括相對的第一壁和第二壁，所述第一壁和所述第二壁鄰近對應(yīng)的所述凸條設(shè)有所述第一凹槽的一端，所述第二壁相對于所述第一壁靠近所述底盤的上表面，所述第二壁朝向遠離所述底盤的中心和靠近所述底盤的上表面的方向延伸。

在本發(fā)明的一些實施例中，每個所述第一凹槽貫穿對應(yīng)的所述凸條的相對兩側(cè)。

在本發(fā)明的一些實施例中，每個所述凸條上設(shè)有沿所述凸條的厚度方向依次排布的多個所述第一凹槽。

在本發(fā)明的一些實施例中，所述離心流道的出口端設(shè)有多個第二凹槽，所述多個第二凹槽沿所述底盤的周向方向依次排布，在所述底盤的軸向方向上，所述第二凹槽貫穿所述底盤以切割流經(jīng)所述離心流道的流體。

在本發(fā)明的一些實施例中，所述霧化盤還包括蓋體，所述蓋體與所述底盤配合以覆蓋所述多個離心流道，所述蓋體上設(shè)有與所述進液空間正對的進液口。

根據(jù)本發(fā)明第二方面實施例的霧化裝置，包括：根據(jù)本發(fā)明上述第一方面實施例的霧化盤；驅(qū)動電機，所述驅(qū)動電機的電機軸與所述霧化盤配合以驅(qū)動所述霧化盤轉(zhuǎn)動。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化裝置，通過設(shè)置根據(jù)本發(fā)明上述第一方面實施例的霧化盤，從而使霧化裝置排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化裝置的作業(yè)效果。

根據(jù)本發(fā)明第三方面實施例的無人機，包括根據(jù)本發(fā)明上述第二方面實施例的霧化裝置。

根據(jù)本發(fā)明實施例的無人機，通過設(shè)置根據(jù)本發(fā)明上述第二方面實施例的霧化裝置，從而使無人機排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高無人機的作業(yè)效果。

本發(fā)明的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。

附圖說明

本發(fā)明的上述和/或附加的方面和優(yōu)點從結(jié)合下面附圖對實施例的描述中將變得明顯和容易理解，其中：

圖1是根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的霧化盤的立體圖；

圖2是根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的霧化盤的局部立體圖；

圖3是圖2中霧化盤的主視圖；

圖4是圖2中霧化盤的俯視圖；

圖5是根據(jù)本發(fā)明第一方面實施例的蓋體的主視圖；

圖6是圖5中a-a方向的剖面圖；

圖7是圖3中a部分的局部放大圖。

附圖標記：

霧化盤100；

底盤1；凸條2；擋塊組3；擋塊31；蓋體4；進液口41；第一凹槽5；第一壁51；

第二壁52；第二凹槽6；離心流道a；進液空間b。

具體實施方式

下面詳細描述本發(fā)明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖描述的實施例是示例性的，僅用于解釋本發(fā)明，而不能理解為對本發(fā)明的限制。

在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“中心”、“寬度”、“厚度”、“上”、“下”、“左”、“右”、“底”、“內(nèi)”、“外”、“周向”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發(fā)明的描述中，除非另有說明，“多個”的含義是兩個或兩個以上。

在本發(fā)明的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規(guī)定和限定，術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，可以具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

下面參考圖1-圖7描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100。

如圖1-圖7所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100，包括：底盤1和多個凸條2。

底盤1的上表面設(shè)有進液空間b，多個凸條2設(shè)在底盤1的上表面上且在底盤1的周向上間隔分布，相鄰的兩個凸條2與底盤1之間限定出與進液空間b連通的離心流道a。由此可知，霧化盤100在工作過程中，進液空間b內(nèi)的液體在離心力和自身重力的作用下由進液空間b流向每個離心流道a內(nèi)并在流動過程中分裂霧化，最后形成霧滴并從離心流道a的出口端排出霧化盤100。

凸條2靠近底盤1的邊緣的一端設(shè)有貫穿凸條2的側(cè)部的第一凹槽5以切割流經(jīng)離心流道a的流體。由此可知，當液體從進液空間b流動至離心流道a的出口端時，第一凹槽5對即將排出霧化盤100并沿離心力和重力的合力方向流動的霧滴進行切割分離，從而使霧化盤100排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化盤100的噴灑效果。可以理解的是，第一凹槽5可以貫穿相應(yīng)的凸條2的一側(cè)，第一凹槽5也可以貫穿相應(yīng)的凸條2的兩側(cè)，只要保證第一凹槽5的邊緣可與霧滴接觸，即可實現(xiàn)第一凹槽5對霧滴的切割分離功能。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100，通過在凸條2靠近底盤1的邊緣的一端設(shè)置貫穿凸條2的側(cè)部的第一凹槽5，從而使霧化盤100排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化盤100的噴灑效果。

下面參照圖1-圖7詳細描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100。

如圖1-圖7所示，根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100，包括：底盤1、多個凸條2、蓋體41和多個擋塊組3。

如圖1-圖4所示，底盤1的上表面的中心處設(shè)有進液空間b。多個凸條2設(shè)在底盤1的上表面上且在底盤1的周向上均勻地間隔分布，相鄰的兩個凸條2與底盤1之間限定出與進液空間b連通的離心流道a。每個凸條2呈弧形，具體地每個凸條2形成為三維螺旋狀且多個凸條2的彎曲方向相同。

如圖1-圖3和圖7所示，每個第一凹槽5貫穿對應(yīng)的凸條2的遠離凸條2的曲率中心的相對兩側(cè)。即在底盤1的周向方向上，每個第一凹槽5貫穿對應(yīng)的凸條2。從而使每個第一凹槽5可以切割分離從相應(yīng)的凸條2兩側(cè)的離心流道a排出的霧滴。

如圖1-圖3和圖7所示，第一凹槽5相對于底盤1傾斜設(shè)置，由第一凹槽5的遠離對應(yīng)的凸條2的曲率中心的一側(cè)指向第一凹槽5的靠近凸條2的曲率中心的一側(cè)的方向為遠離底盤1的方向。

例如，如圖3和圖7所示，第一凹槽5的遠離底盤1的方向為由相應(yīng)的凸條2的右下方指向左上方的。

如圖3和圖7，每個第一凹槽5的靠近底盤1的一端的開口小于第一凹槽5的遠離底盤1的開口。從而能夠強化第一凹槽5對霧滴的切割分離效果。

例如，如圖3和圖7所示，第一凹槽5呈v形。

如圖3和圖7所示，每個第一凹槽5包括相對的第一壁51和第二壁52，第一壁51和第二壁52鄰近對應(yīng)的凸條設(shè)有第一凹槽5的一端，第二壁52相對于第一壁51靠近底盤1的上表面，第二壁52朝向遠離底盤1的中心和靠近底盤1的上表面的方向延伸。

如圖1-圖3和圖7所示，每個凸條2上設(shè)有沿凸條2的厚度方向依次排布的三個第一凹槽5。從而能夠使從霧化盤100排出的霧滴的粒徑更小，使霧化盤100噴灑液體更加均勻，進而提高霧化盤100的噴灑效果。

如圖1-圖4和圖7所示，離心流道a的出口端設(shè)有多個第二凹槽6，多個第二凹槽6沿底盤的周向方向依次排布，在底盤1的軸向方向上，第二凹槽6貫穿底盤1以切割流經(jīng)離心流道a的流體。由此可知，當液體從進液空間b流動至離心流道a的出口端時，多個第二凹槽6可對即將排出霧化盤100并下落的霧滴進行切割分離，從而使霧化盤100排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化盤100的噴灑效果。

如圖5和圖6所示，蓋體41與底盤1的外周壁的形狀相同以與底盤1配合以覆蓋多個離心流道a。進而可對離心流道a起到一定的密封作用。當液體在離心流道a內(nèi)流動時，由于蓋體41內(nèi)壁對流動的液體具有一定的阻擋作用，從而使液體的流動方向與蓋體41的內(nèi)壁的母線相切。同時，由柯安達效應(yīng)可知，由于流體黏性作用，霧化盤100內(nèi)的液體會沿著底盤1的表面流動。從而在蓋體41和底盤1的共同作用下能夠提高霧滴從霧化盤100排出時的初速度，使霧滴的流動方向更加一致，進而可以增加霧滴的可控性，減少霧滴下落時由于橫風(fēng)的影響而發(fā)生飄移的現(xiàn)象，提高霧化盤100的噴灑效果。

蓋體41上設(shè)有與進液空間b正對的進液口41。由此可知，用戶可將需要噴灑的液體通過進液口41流入霧化盤100的進液空間b內(nèi)。

如圖3所示，底盤1形成為軸對稱體，底盤1的母線的曲率中心位于底盤1的母線靠近底盤1的中心的一側(cè)，即底盤1的母線形成為圓錐曲線。從而可知，底盤1的結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)定。使進液空間b內(nèi)的液體沿著離心流道a排出霧化盤100時由于離心力的作用而獲得更大的初速度，增大霧化盤100排出的霧滴的噴灑面積，減少霧滴下落時由于橫風(fēng)的影響而發(fā)生飄移的現(xiàn)象，提高霧化盤100的噴灑效果。

如圖1、圖2和圖4所示，多個擋塊組3設(shè)在進液空間b內(nèi)且在底盤1的徑向方向上間隔設(shè)置。每個擋塊組3包括多個擋塊31，每個擋塊組3的多個擋塊31沿底盤1的周向均勻地間隔分布以排列成具有開口的環(huán)形結(jié)構(gòu)，相鄰的兩個擋塊組3的開口在底盤1的周向上錯位設(shè)置。從而使進液空間b內(nèi)的液體首先在霧化盤100提供的離心力的作用下在進液空間b內(nèi)均勻鋪開，然后液體沿著每個擋塊組3限定的開口流向多個離心流道a，從而可以使霧化盤100排出的霧滴粒徑更加均勻，霧滴的粒徑分布更加集中，提高霧化盤100的噴灑效果。

底盤1與多個凸條2及多個擋塊組3形成為一體成型的塑料材質(zhì)件。從而能夠降低霧化盤100的制造成本，使霧化盤100的制造簡單、方便。同時在霧化盤100的制造過程中，橫截面呈u形的離心流道a的設(shè)置使得熔融狀態(tài)的塑料便于流動和成型，因此易于開模。

如圖3和圖7所示，每個離心流道a的橫截面呈u形。從而可知，離心流道a結(jié)構(gòu)簡單，當進液空間b內(nèi)的液體中摻雜有固體顆粒時，橫截面呈u形的離心流道a有利于固體顆粒順利地通過離心流道a并排出霧化盤100，從而能夠在一定程度上提高霧化盤100的工作效率，同時便于用戶對霧化盤100進行清潔，在霧化盤100的制造過程中，易于開模。

如圖2-圖4所示，每個離心流道a形成為弧形流道?；⌒瘟鞯滥軌蚴惯M液空間b內(nèi)的液體擁有長的加速距離，霧化盤100排出的霧滴能獲得大的離心力和初速度，進而使霧化盤100排出的霧滴粒徑分布較為集中、霧滴的平均粒徑小，增大霧化盤100排出的霧滴的噴灑面積，減少霧滴下落時由于橫風(fēng)的影響而發(fā)生飄移的現(xiàn)象，提高霧化盤100的噴灑效果。

如圖2和圖4所示，每個離心流道a的寬度在從底盤1的中心到底盤1的邊緣的方向上逐漸增大。從而能夠在一定程度上增大霧化盤100的噴灑范圍，進而提高霧化盤100的工作效率。

如圖2-圖4所示，在底盤1的周向方向上，多個離心流道a的結(jié)構(gòu)和尺寸相同。從而使霧化盤100的結(jié)構(gòu)簡單、穩(wěn)固。有利于保證沿多個離心流道a排出霧化盤100的霧滴的粒徑相同，初速度相同，進而使霧化盤100排出的霧滴噴灑得更加均勻，有利于提高霧化盤100的噴灑效果。

下面，描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤的裝配過程。

將蓋體4安裝在底盤1上以覆蓋多個離心流道a。

下面，簡要描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100的有益效果。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤100，能夠使霧化盤100制造過程中開模簡單，有利于固體顆粒順利地通過離心流道a并排出霧化盤100，便于用戶對霧化盤100進行清潔。同時使從霧化盤100排出的霧滴粒徑分布集中，平均粒徑小，初速度較大，能夠提高霧化盤100的噴灑面積，減少霧滴下落時由于橫風(fēng)的影響而發(fā)生飄移的現(xiàn)象，提高霧化盤100的噴灑效果。

下面，簡要描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化盤的其他一些變形方案。

1、每個凸條2呈直線形，第一凹槽5相對于底盤1傾斜設(shè)置。

2、每個第一凹槽5貫穿對應(yīng)的凸條2的遠離凸條2的曲率中心的一側(cè)。

下面，描述根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化裝置。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化裝置(圖未示出)包括：根據(jù)本發(fā)明上述實施例的霧化盤100和驅(qū)動電機(圖未示出)。其中驅(qū)動電機的電機軸(圖未示出)與霧化盤100配合以驅(qū)動霧化盤100轉(zhuǎn)動。由此可知，霧化盤100在驅(qū)動電機的驅(qū)動下發(fā)生旋轉(zhuǎn)，從而使進液空間b內(nèi)的液體沿著離心流道a流動并逐漸形成霧滴而排出霧化盤100。

根據(jù)本發(fā)明實施例的霧化裝置，通過設(shè)置根據(jù)本發(fā)明上述實施例的霧化盤100，從而使霧化裝置排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高霧化裝置的作業(yè)效果。

下面，描述根據(jù)本發(fā)明實施例的無人機。

根據(jù)本發(fā)明實施例的無人機，包括根據(jù)本發(fā)明上述實施例的霧化裝置。

根據(jù)本發(fā)明實施例的無人機，通過設(shè)置根據(jù)本發(fā)明上述實施例的霧化裝置，從而使無人機排出的霧滴粒徑更小，噴灑更加均勻，提高無人機的作業(yè)效果。

在本說明書的描述中，參考術(shù)語“一個實施例”、“一些實施例”、“示意性實施例”、“示例”、“具體示例”、或“一些示例”等的描述意指結(jié)合該實施例或示例描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點包含于本發(fā)明的至少一個實施例或示例中。在本說明書中，對上述術(shù)語的示意性表述不一定指的是相同的實施例或示例。而且，描述的具體特征、結(jié)構(gòu)、材料或者特點可以在任何的一個或多個實施例或示例中以合適的方式結(jié)合。

盡管已經(jīng)示出和描述了本發(fā)明的實施例，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員可以理解：在不脫離本發(fā)明的原理和宗旨的情況下可以對這些實施例進行多種變化、修改、替換和變型，本發(fā)明的范圍由權(quán)利要求及其等同物限定。