本公開總體上涉及用于內燃發(fā)動機的排氣后處理系統(tǒng)的配給器安裝件。

背景技術：

0、背景

1、對于內燃發(fā)動機系統(tǒng)，可能期望減少由燃料燃燒產生的排氣中某些組分的排放?？梢詫嵤┮詼p少排放物的一種方法是使用后處理系統(tǒng)處理排氣。通常期望將排氣與用于處理排氣的還原劑混合。然而，來自排氣系統(tǒng)的熱量可能傳遞到配給模塊，這可能會損壞配給模塊。

技術實現思路

0、發(fā)明概述

1、在一個實施例中，配給器安裝件包括限定中心空間的環(huán)形主體部分。配給器安裝件包括從環(huán)形主體部分的下表面突出的多個支腿。多個支腿配置為聯(lián)接到排氣導管的外表面。配給器安裝件包括在環(huán)形主體的上表面的多個圓周位置處從環(huán)形主體的上表面延伸的多個突起。

2、在一個實施例中，排氣后處理系統(tǒng)包括配給器，該配給器包括注入器。排氣后處理系統(tǒng)包括配給器安裝件。配給器安裝件包括限定中心空間的環(huán)形主體部分。配給器安裝件包括從環(huán)形主體部分的下表面突出的多個支腿。多個支腿配置為聯(lián)接到排氣導管的外表面。配給器安裝件包括在環(huán)形主體的上表面的多個圓周位置處從環(huán)形主體的上表面延伸的多個突起。配給器聯(lián)接到配給器安裝件，使得注入器被接納在中心空間內。

3、在一個實施例中，排氣后處理系統(tǒng)包括排氣導管主體。排氣后處理系統(tǒng)包括配給器安裝件。配給器安裝件包括限定中心空間的環(huán)形主體部分。配給器安裝件包括從環(huán)形主體部分的下表面突出的多個支腿。多個支腿配置為聯(lián)接到排氣導管的外表面。配給器安裝件包括在環(huán)形主體的上表面的多個圓周位置處從環(huán)形主體的上表面延伸的多個突起。多個支腿與排氣導管主體配合以在下表面與排氣導管主體之間限定多個下部通道。

技術特征：

1.一種配給器安裝件，包括：

2.?根據權利要求1所述的配給器安裝件，還包括：

3.根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中：

4.根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中：

5.?根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中：

6.?根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中：

7.根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中，所述多個突起中的至少一個突起包括階梯構型，其中所述至少一個突起的內部部分比所述至少一個突起的外部部分從所述上表面延伸得更遠。

8.根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中：

9.根據權利要求1所述的配給器安裝件，其中，所述多個支腿具有非線性形狀。

10.?一種排氣后處理系統(tǒng)，包括：

11.根據權利要求10所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括：

12.?根據權利要求11所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括：

13.根據權利要求11所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述配給器包括凸緣，所述凸緣配置成與所述配給器安裝件的所述多個突起對接且同時所述配給器的一部分設置在所述中心空間中，所述凸緣和所述多個突起配置成使所述配給器定位成離開所述環(huán)形主體部分的內壁。

14.根據權利要求13所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中：

15.根據權利要求14所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中：

16.根據權利要求15所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中：

17.?根據權利要求11所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中：

18.根據權利要求11所述的配給器安裝件，其中，所述配給器安裝件相對于所述排氣導管主體以一定角度定位，以將還原劑以期望角度引入到所述排氣導管主體內的排氣中。

19.?一種排氣后處理系統(tǒng)，包括：

20.根據權利要求6所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括：

技術總結
一種配給器安裝件包括環(huán)形主體部分、多個支腿和多個突起。環(huán)形主體部分限定中心空間。多個支腿從環(huán)形主體部分的下表面突出并且配置成聯(lián)接到排氣導管的外表面。多個突起在環(huán)形主體的上表面的多個圓周位置處從環(huán)形主體的上表面延伸。

技術研發(fā)人員：拉爾夫·羅爾米勒,托馬斯·柯萊瑟爾,博拉吉·蘇貝魯,馬蘇德·齊亞巴赫什戴拉米,朱利安·尼古拉斯·阿優(yōu)沙·勞普,魯茲貝·哈基基,奧姆卡·坦多爾卡,凱·亨寧·施密特,弗雷德里?！ぜs翰·察普夫
受保護的技術使用者：康明斯排放處理公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/9