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流體裝置的制作方法

文檔序號:40563289發(fā)布日期:2025-01-03 11:23閱讀:10來源:國知局
流體裝置的制作方法

本發(fā)明涉及流體裝置。


背景技術(shù):

1、目前,已知有使流體中的微粒聲聚集的流體裝置。例如,非專利文獻(xiàn)1中公開的流體裝置從超聲波元件向流道內(nèi)發(fā)送超聲波而形成駐波。由此,在流道中流動的流體中包含的微粒通過駐波的壓力梯度而在駐波的波節(jié)位置被捕捉。被捕捉的微粒流向流道的一個出口(濃縮流體出口),被稀釋的流體流向另一個出口(稀釋流體出口)。

2、非專利文獻(xiàn)1:e.benes及其他10人、“ultrasonic?separation?of?suspendedparticles”、reprint?proc.of?the?2001ieee?international?ultrasonics?symposium,ajointmeeting?with?the?world?congress?on?ultrasonics,atlanta,georgia,usa,oct.7-10,2001、p649-659

3、然而,在非專利文獻(xiàn)1這樣的現(xiàn)有的流體裝置中,在流體裝置的一側(cè)(-x側(cè))設(shè)置有流體流入口,在另一側(cè)(+x側(cè))設(shè)置有濃縮流體出口和稀釋流體出口雙方。該情況下,從流體流入口朝向+x側(cè)流入流體裝置的流體不僅相對于x方向速度分量變大,而且相對于與x方向正交的z方向、也就是通過超聲波元件形成駐波的方向的速度分量也變大。在此,在作為流體中的微粒涉及的力,由相對于z方向的速度分量引起的力比由駐波的聲輻射力引起的力大的情況下,在駐波的波節(jié)處被捕捉的微??朔曒椛淞Χ苿樱瑥南♂屃黧w出口流出的微粒數(shù)變多。因此,在現(xiàn)有的流體裝置中,需要在稀釋流體出口進(jìn)一步連接流體裝置而形成為多級構(gòu)成,提高微粒的捕捉效率,與此相應(yīng)地,存在成本變高、裝置整體大型化的技術(shù)問題。


技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本公開的第一方式的流體裝置使用超聲波捕捉流體中包含的微粒,具備:主體,具有供所述流體流動的流道;以及超聲波元件,設(shè)置于形成所述主體的所述流道的流道壁,并向第一方向發(fā)送超聲波而在所述流道內(nèi)形成駐波,所述主體將配置有所述超聲波元件的部分作為捕捉部,具有:流入部,使所述流體沿著與所述第一方向交叉的第二方向流入所述捕捉部內(nèi);第一流出部,使包含通過所述駐波捕捉的所述微粒的濃縮流體從所述捕捉部流出;以及第二流出部,使所述微粒的濃度比所述濃縮流體低的稀釋流體從所述捕捉部流出,所述流入部設(shè)置于所述捕捉部的所述第二方向的負(fù)側(cè),所述第一流出部設(shè)置于所述捕捉部的所述第二方向的正側(cè),所述第二流出部設(shè)置于所述捕捉部的所述第二方向的負(fù)側(cè)與所述流入部不同的位置處。



技術(shù)特征:

1.一種流體裝置,其特征在于,

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的流體裝置,其中,

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的流體裝置,其中,

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的流體裝置,其中,


技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供能夠高效率地從流體回收微粒的流體裝置。流體裝置使用超聲波捕捉流體中包含的微粒,具備:主體,具有供流體流動的流道;以及超聲波施加部,設(shè)置于形成主體的流道的流道壁,并向Z方向發(fā)送超聲波而形成駐波,主體將配置有超聲波元件的部分作為捕捉部,具有:流入部,使流體沿著與Z方向交叉的X方向流入捕捉部內(nèi);第一流出部,使包含通過駐波捕捉的微粒的濃縮流體從捕捉部流出;以及第二流出部,使微粒的濃度比濃縮流體低的稀釋流體從捕捉部流出,流入部設(shè)置于捕捉部的X方向的負(fù)側(cè),第一流出部設(shè)置于捕捉部的X方向的正側(cè),第二流出部設(shè)置于捕捉部的X方向的負(fù)側(cè)與流入部不同的位置處。

技術(shù)研發(fā)人員:久保景太,小島力,富岡纮斗,新井義雄
受保護(hù)的技術(shù)使用者:精工愛普生株式會社
技術(shù)研發(fā)日:
技術(shù)公布日:2025/1/2
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