本發(fā)明屬于容器清洗設備，特別涉及一種用于反應釜的防泄露清洗設備及反應釜。

背景技術：

1、反應釜的有機溶劑泄露問題是一個在化學工業(yè)中常見的安全隱患，它不僅可能導致環(huán)境污染，還可能對工作人員的健康構成威脅。然而在反應釜的運行后，反應釜中的殘留物不利于下一次反應的進行，所以需要對反應釜進行清洗，以防交叉污染。目前反應釜主要的清洗方式是采用人工手持長桿高壓噴槍清洗，如中國專利公告號為cn118045833a公開的一種手持式反應釜清洗設備，這種清洗設備其應用成本低，在清洗過程中需要完全敞開人孔，在整個清洗過程中需要操作人員全程手持清洗設備對反應釜的內壁進行清洗，在這個期間反應釜內部的有害氣體會大量涌出，有些氣體易燃易爆，有些氣體有毒污染環(huán)境，會造成安全與健康的重大隱患。

2、因此，針對現有技術不足，提供一種用于反應釜的防泄露清洗設備及反應釜以解決現有技術不足甚為必要。

技術實現思路

1、本發(fā)明的目的在于避免現有技術的不足之處而提供一種用于反應釜的防泄露清洗設備。該用于反應釜的防泄露清洗設備自動伸入反應釜的內部進行清洗減少人工投入，而且該防泄露清洗設備通過無接觸的磁吸驅動清洗臂伸縮，可以保證密封性，有效防止有害氣體泄露。

2、本發(fā)明的上述目的通過以下技術措施實現：

3、提供一種用于反應釜的防泄露清洗設備，設置有與外部反應釜清洗孔密封裝配的密封殼、磁驅動機構和清洗臂，所述磁驅動機構固定裝配于所述密封殼的外部，所述清洗臂可伸縮裝配于所述密封殼的內部，所述磁驅動機構與所述清洗臂磁吸連接。

4、在清洗前，所述磁驅動機構向下移動，所述磁驅動機構通過磁吸帶動所述清洗臂向下移動，并使所述清洗臂從外部反應釜清洗孔伸入至外部反應釜的內部。

5、在清洗完畢后，所述磁驅動機構向上移動，所述磁驅動機構通過磁吸帶動所述清洗臂向上移動，并使所述清洗臂整體收縮至所述密封殼的內部。

6、優(yōu)選的，上述磁驅動機構設置有磁導向部、磁性滑塊和直線驅動組件，所述直線驅動組件裝配于所述密封殼的外部，所述磁性滑塊傳動裝配于所述直線驅動組件，所述磁性滑塊與所述磁導向部磁吸連接，所述磁導向部所述清洗臂磁吸連接。

7、優(yōu)選的，上述清洗臂設置有管體和第一磁性件，所述第一磁性件固定套裝于所述管體的末端外部，所述第一磁性件與所述磁導向部磁吸連接。

8、優(yōu)選的，上述磁導向部設置有導向件和第二磁性件，所述第二磁性件固定裝配于所述導向件的內部，且所述導向件和所述第二磁性件整體可滑動套裝配于所述密封殼，所述第二磁性件與所述第一磁性件磁吸連接。

9、優(yōu)選的，上述密封殼設置有外套管，所述清洗臂的一端位于所述外套管的內部，所述清洗臂的另一端凸出于所述外套管，所述磁導向部可滑動套裝于所述外套管的外表面，且所述直線驅動組件與所述外套管平行設置。

10、優(yōu)選的，上述密封殼還設置有視孔管和與外部反應釜清洗孔密封裝配的閥體，所述外套管、所述視孔管和所述閥體從上而下密封裝配，所述清洗臂的一端位于所述外套管的內部，所述清洗臂的另一端可活動依次所述外套管、所述視孔管和所述閥體。

11、在清洗前，所述閥體開啟，所述清洗臂的噴淋頭從所述視孔管的內部進入所述閥體，然后再從外部反應釜清洗孔伸入至外部反應釜的內部。

12、在清洗完畢后，所述清洗臂的噴淋頭位于所述視孔管的內部，所述閥體關閉。

13、本發(fā)明的用于反應釜的防泄露清洗設備，還設置有進液硬管，所述進液硬管與所述外套管的進液口固定密封連通，所述清洗臂的管體側壁設置有第一進液孔，所述第一進液孔位于所述清洗臂的第一磁性件的下方。

14、優(yōu)選的，上述進液硬管、所述進液口和所述第一進液孔之間形成清洗液通道。

15、在清洗前、清洗中或清洗完畢后，所述第一進液孔始終位于所述外套管的內部區(qū)域內。

16、優(yōu)選的，上述密封殼還設置有限位管和密封板，所述限位管裝配于所述外套管的內部并套裝配于所述清洗臂的外部，所述限位管還與所述視孔管固定，所述密封板固定裝配于所述視孔管的上部，所述外套管密封裝于所述密封板的上表面，所述清洗臂密封貫穿于所述密封板，且沿所述密封板的裝配孔內部進行上下滑動。

17、優(yōu)選的，上述限位管的側壁設置有多個第二進液孔，清洗液的流向為從前至后經過所述進液硬管、所述進液口、所述第二進液孔和所述第一進液孔。

18、本發(fā)明的用于反應釜的防泄露清洗設備，還設置有用于鎖定所述磁導向部的鎖定機構，所述鎖定機構固定裝配于所述密封殼的上部，所述鎖定機構與所述磁導向部可拆卸裝配。

19、進水通道鎖定機構設置有驅動電機和插銷，所述驅動電機固定裝配于所述密封殼的上部，所述插銷與所述驅動電機傳動連接。

20、在清洗前，所述插銷向內收縮，與所述磁導向部的固定孔分離，從而對所述磁驅動機構解鎖。

21、在清洗完畢后，所述磁驅動機構向上移動至所述密封殼最上端時，所述插銷向外伸出并插入所述固定孔的內部，從而對所述磁驅動機構鎖定。

22、本發(fā)明的目的在于避免現有技術的不足之處而提供一種反應釜。該反應釜通過用于反應釜的防泄露清洗設備可自動伸入反應釜的內部進行清洗減少人工投入，而且避免完全敞開人孔能有效防止有害氣體泄露。

23、本發(fā)明的上述目的通過以下技術措施實現：

24、提供一種反應釜，設置有釜體和一對如上述用于反應釜的防泄露清洗設備，一對所述用于反應釜的防泄露清洗設備分別裝配于所述釜體的兩個清洗孔，且一對所述用于反應釜的防泄露清洗設備分別位于所述釜體的攪拌漿的兩側。

25、本發(fā)明的一種用于反應釜的防泄露清洗設備及反應釜，其中設置有與外部反應釜清洗孔密封裝配的密封殼、磁驅動機構和清洗臂，所述磁驅動機構固定裝配于所述密封殼的外部，所述清洗臂可活動裝配于所述密封殼的內部，所述磁驅動機構與所述清洗臂磁吸連接；在清洗前，所述磁驅動機構向下移動，所述磁驅動機構通過磁吸帶動所述清洗臂向下移動，并使所述清洗臂從外部反應釜清洗孔伸入至外部反應釜的內部；在清洗完畢后，所述磁驅動機構向上移動，所述磁驅動機構通過磁吸帶動所述清洗臂向上移動，并使所述清洗臂整體收縮至所述密封殼的內部。本發(fā)明的用于反應釜的防泄露清洗設備可以自動伸入反應釜的內部進入清洗，從而減少人工投入，而且還可避免完全敞開人孔，能有效防止有害氣體泄露。更重要的是，本發(fā)明密封殼內部清洗臂與磁驅動機構之間沒有機械連接，而是通過無接觸的磁吸驅動清洗臂，從而保證了密封殼的密封性，有效防止反應釜內部氣體泄露并具有較高的防爆性能。

技術特征：

1.一種用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：設置有與外部反應釜清洗孔密封裝配的密封殼、磁驅動機構和清洗臂，所述磁驅動機構固定裝配于所述密封殼的外部，所述清洗臂可活動裝配于所述密封殼的內部，所述磁驅動機構與所述清洗臂磁吸連接；

2.根據權利要求1所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述磁驅動機構設置有磁導向部、磁性滑塊和直線驅動組件，所述直線驅動組件裝配于所述密封殼的外部，所述磁性滑塊傳動裝配于所述直線驅動組件，所述磁性滑塊與所述磁導向部磁吸連接，所述磁導向部所述清洗臂磁吸連接。

3.根據權利要求2所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述清洗臂設置有管體和第一磁性件，所述第一磁性件固定套裝于所述管體的末端外部，所述第一磁性件與所述磁導向部磁吸連接。

4.根據權利要求3所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述磁導向部設置有導向件和第二磁性件，所述第二磁性件固定裝配于所述導向件的內部，且所述導向件和所述第二磁性件整體可滑動套裝配于所述密封殼的外部，所述第二磁性件與所述第一磁性件磁吸連接。

5.根據權利要求2至4任意一項所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述密封殼設置有外套管，所述清洗臂的一端位于所述外套管的內部，所述清洗臂的另一端凸出于所述外套管，所述磁導向部可滑動套裝于所述外套管的外表面，且所述直線驅動組件與所述外套管平行設置。

6.根據權利要求5所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述密封殼還設置有視孔管和與外部反應釜清洗孔密封裝配的閥體，所述外套管、所述視孔管和所述閥體從上而下密封裝配，所述清洗臂的一端位于所述外套管的內部，所述清洗臂的另一端可沿所述外套管的內部、所述視孔管的內部和所述閥體的內部進行上下運動；

7.根據權利要求6所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：還設置有進液硬管，所述進液硬管與所述外套管的進液口固定密封連通，所述清洗臂的管體側壁設置有第一進液孔，所述第一進液孔位于所述清洗臂的第一磁性件的下方；

8.根據權利要求7所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：所述密封殼還設置有限位管和密封板，所述限位管裝配于所述外套管的內部并套裝配于所述清洗臂的外部，所述限位管還與所述視孔管固定，所述密封板固定裝配于所述視孔管的上部，所述外套管密封裝于所述密封板的上表面，所述清洗臂密封貫穿于所述密封板，且沿所述密封板的裝配孔內部進行上下滑動；

9.根據權利要求2至4任意一項所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，其特征在于：還設置有用于鎖定所述磁導向部的鎖定機構，所述鎖定機構固定裝配于所述密封殼的上部，所述鎖定機構與所述磁導向部可拆卸裝配；

10.一種反應釜，其特征在于：設置有釜體和一對如權利要求1至9任意一項所述的用于反應釜的防泄露清洗設備，一對所述用于反應釜的防泄露清洗設備分別裝配于所述釜體的兩個清洗孔，且一對所述用于反應釜的防泄露清洗設備分別位于所述釜體的攪拌漿的兩側。

技術總結
一種用于反應釜的防泄露清洗設備及反應釜，其中設置有與外部反應釜清洗孔密封裝配的密封殼、磁驅動機構和清洗臂，所述磁驅動機構固定裝配于所述密封殼的外部，所述清洗臂可活動裝配于所述密封殼的內部，所述磁驅動機構與所述清洗臂磁吸連接。本發(fā)明的用于反應釜的防泄露清洗設備可以自動伸入反應釜的內部進入清洗，從而減少人工投入，而且還可避免完全敞開人孔，能有效防止有害氣體泄露。更重要的是，本發(fā)明密封殼內部清洗臂與磁驅動機構之間沒有機械連接，而是通過無接觸的磁吸驅動清洗臂，從而保證了密封殼的密封性，有效防止反應釜內部氣體泄露并具有較高的防爆性能。

技術研發(fā)人員：李高飛
受保護的技術使用者：科立盈智能裝備科技（廣州）有限公司
技術研發(fā)日：
技術公布日：2025/1/2