1.一種制氫用碳化硅除沫器，其特征在于，包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述攔截層（2）為碳化硅泡沫層，所述攔截層（2）的開孔率為70%-76%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述罐體（1）內(nèi)設(shè)置有聚凝層組（3），所述聚凝層組（3）位于所述攔截層（2）的下方，所述聚凝層組（3）用于加快液滴的匯聚和流動。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述聚凝層組（3）包括第一聚凝層（31）和第二聚凝層（32），所述第一聚凝層（31）、所述第二聚凝層（32）從上到下依次設(shè)置在所述罐體（1）內(nèi)，所述第一聚凝層（31）位于所述攔截層（2）的下方，所述進氣口（13）位于所述第一聚凝層（31）和所述第二聚凝層（32）之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述第一聚凝層（31）與所述攔截層（2）之間形成有沉降區(qū)（14）。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述第一聚凝層（31）、所述第二聚凝層（32）均為碳化硅燒結(jié)層，所述碳化硅燒結(jié)層采用有序排列的碳化硅燒結(jié)材料顆粒制成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述第一聚凝層（31）內(nèi)的間隙小于所述第二聚凝層（32）內(nèi)的間隙。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述碳化硅燒結(jié)材料顆粒的形狀為倒置的等腰三角形。
9.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述罐體（1）底部呈錐形設(shè)計，所述第二聚凝層（32）位于所述罐體（1）底部并適配所述罐體（1）底部的形狀設(shè)計。
10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的制氫用碳化硅除沫器，其特征在于：所述第一聚凝層（31）、所述第二聚凝層（32）及所述攔截層（2）的厚度比為1:1.5:3。