本發(fā)明涉及一種出料均勻的涂布模頭及涂布設(shè)備，屬于涂布設(shè)備領(lǐng)域。

背景技術(shù)：

1、涂布模頭可用于tft光刻、oled（有機(jī)電致發(fā)光二極管）顯示器制造、液晶顯示器彩色濾光膜制造。使涂布模頭均勻出料是涂布模頭的設(shè)計重點(diǎn)。

2、目前現(xiàn)有的涂布模頭使用單腔均勻性設(shè)計，設(shè)置半球形、半圓柱型或半水滴型腔體實(shí)現(xiàn)緩沖和提升均勻性的目的，需要進(jìn)入腔體流體的流速和涂布出口截面積大小配合，才能達(dá)到想要的均勻效果，因此對進(jìn)入腔體流體的流量和速度限制大，單機(jī)適用范圍較窄，緩沖結(jié)構(gòu)仍有待改進(jìn)。

3、此外，目前涂布模頭內(nèi)部結(jié)構(gòu)分布不夠均勻，難以應(yīng)用于大尺寸涂布，內(nèi)部結(jié)構(gòu)分布不均勻?qū)е轮亓颗浔仁Ш?，按現(xiàn)有設(shè)計做成大尺寸模頭時，模頭自重加上流體的重量會使模頭發(fā)生輕微變形，涂布狹縫對這種輕微變形也十分敏感，例如80μm的涂布狹縫局部變窄至50μm，外觀上幾乎看不出來，但會嚴(yán)重影響涂布的均勻性。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供一種出料均勻的涂布模頭及涂布設(shè)備，具有多級緩沖結(jié)構(gòu)，并且優(yōu)化了內(nèi)部結(jié)構(gòu)的分布，出料更加均勻。

2、本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：

3、第一方面，本申請?zhí)峁┮环N出料均勻的涂布模頭，包括支撐構(gòu)件和從上往下依次連通的進(jìn)料口、分流通道、擴(kuò)散通道、緩沖腔、狹縫唇口，所述分流通道的末端分出多個分流口連接所述擴(kuò)散通道的始端，所述擴(kuò)散通道向下傾斜，所述緩沖腔的始端與末端的連線上設(shè)置有緩沖柱；所述擴(kuò)散通道、所述緩沖柱和所述緩沖腔的寬度均與所述狹縫唇口的涂布幅寬相等，所述支撐構(gòu)件包括設(shè)置在所述緩沖柱中的第一支撐柱和設(shè)置在所述緩沖腔之外的第二支撐柱。

4、本申請?zhí)峁┑耐坎寄ｎ^采用了多腔均勻性設(shè)計，流體從進(jìn)料口一處進(jìn)入涂布模頭后，經(jīng)分流通道分流至多處的分流口，流體從多個分流口流到擴(kuò)散通道上，斜向下流到緩沖腔的過程中逐漸鋪滿（在寬度方向上鋪滿）鋪平整個擴(kuò)散通道，然后流入緩沖腔淋在緩沖柱上，再經(jīng)過緩沖柱和緩沖腔之間的縫隙到達(dá)狹縫唇口，整個過程更多地利用了重力作用使流體在寬度方向上鋪滿涂布模頭的內(nèi)部空間，對進(jìn)入腔體流體的流量限制得以減少，經(jīng)過多次緩沖減速，使流體在涂布前更加均勻。支撐構(gòu)件用于連接涂布設(shè)備的龍門或?qū)к?，其中第二支撐柱用于支撐涂布模頭主體，第一支撐柱獨(dú)立支撐緩沖柱并輔助支撐涂布模頭主體，既避免緩沖柱的重量拖累結(jié)構(gòu)上較為薄弱的緩沖腔，又能減少涂布模頭上部自重引發(fā)的拉扯作用傳遞到緩沖腔，抑制狹縫唇口變形，使流體在涂布時更加均勻。

5、進(jìn)一步地，所述擴(kuò)散通道包括交替連接的豎流段和平流段，所述平流段與水平面的夾角為-30°~0°。

6、交替的豎流段和平流段使擴(kuò)散通道構(gòu)成多級階梯，階梯落差使得流體先在重力作用下加速下落，然后又觸底突然減速，不能繼續(xù)豎直下落的流體往左右兩側(cè)及前方（緊接的平流段）擴(kuò)散，有利于流體更快地在寬度方向上鋪滿擴(kuò)散通道。

7、更進(jìn)一步地，所述豎流段上設(shè)置有緩沖槽，所述緩沖槽的徑向截面形狀為圓形、橢圓形或倒水滴形。

8、緩沖槽可增大階梯落差對流體造成的速度差，并使不能繼續(xù)豎直下落的流體更多地往左右兩側(cè)擴(kuò)散，流至此處的流體的均勻性得到迅速提高。

9、進(jìn)一步地，所述擴(kuò)散通道共有兩個，所述分流通道的末端分出兩組所述分流口，一組所述分流口對應(yīng)連接一個所述擴(kuò)散通道的始端，所述分流通道自身、所述緩沖腔自身以第一平面為對稱面，兩個所述擴(kuò)散通道以所述第一平面為對稱面，所述第一平面為所述狹縫唇口所在豎直平面，兩個所述擴(kuò)散通道的末端與所述緩沖腔連通。

10、流體分布到左右兩個擴(kuò)散通道后又重新在緩沖腔匯合，對于單個擴(kuò)散通道而言，流量減半可減慢流速，可提高流體在擴(kuò)散通道中的緩沖效果；并且對稱設(shè)計更有利于減少因結(jié)構(gòu)分布不均勻?qū)е碌闹亓颗浔仁Ш?，減少因重量配比不一致導(dǎo)致的龍門異常振動問題。

11、進(jìn)一步地，兩個所述擴(kuò)散通道的末端匯聚于第二縫隙，所述第二縫隙連接所述緩沖腔的始端，所述第二縫隙與所述狹縫唇口平行，所述第二縫隙位于所述第一平面上；

12、或者，兩個所述擴(kuò)散通道的末端各自獨(dú)立地連接所述緩沖腔，形成兩個擴(kuò)散出口，兩個所述擴(kuò)散出口與所述狹縫唇口平行，兩個所述擴(kuò)散出口之間的距離小于所述緩沖腔最大內(nèi)徑的三分之二。

13、進(jìn)一步地，所述緩沖腔的徑向截面形狀為圓形、橢圓形或倒水滴形，所述緩沖柱為表面是弧面的柱體，所述緩沖柱的幾何重心位于所述第一平面上且低于所述緩沖腔的幾何重心，所述緩沖柱與所述緩沖腔的最小距離大于所述狹縫唇口寬度的0.5倍且小于所述狹縫唇口寬度的2倍，有利于淋過緩沖柱的流體平緩地從狹縫唇口流出。

14、進(jìn)一步地，所述第二支撐柱包括一根中央支撐柱和兩根側(cè)支撐柱，所述中央支撐柱位于所述分流通道、兩個所述擴(kuò)散通道、所述緩沖腔四者的圍合范圍內(nèi)，所述側(cè)支撐柱位于所述分流通道、兩個所述擴(kuò)散通道、所述緩沖腔四者的圍合范圍外，所述中央支撐柱自身以所述第一平面為對稱面，兩根所述側(cè)支撐柱以所述第一平面為對稱面。

15、更多支路的通道有利于涂布模頭重量分布均勻，但更多支路造成了涂布模頭的內(nèi)聚力被削弱，此時分兩部分支撐涂布模頭的主體結(jié)構(gòu)，用側(cè)支撐柱穩(wěn)定涂布模頭兩側(cè)，用中央支撐柱支撐分流通道、兩個擴(kuò)散通道、緩沖腔四者圍合的部分，可減少因部件自重引發(fā)擴(kuò)散通道變形，保證兩個擴(kuò)散通道的容積一致。

16、進(jìn)一步地，所述狹縫唇口的高度大于所述緩沖腔最大內(nèi)徑的三分之一，且小于所述緩沖腔最大內(nèi)徑的五倍，有利于實(shí)際使用中，狹縫唇口穩(wěn)定不易變形，并減少緩沖腔內(nèi)流體波動對出料產(chǎn)生影響，使出料更加平緩。

17、進(jìn)一步地，所述分流通道的始端設(shè)置有緩沖球，在進(jìn)料時起到第一道緩沖作用，并有利于分流通道將流體均量地分到分流通道的各支路上。

18、第二方面，本申請?zhí)峁┮环N涂布設(shè)備，包括第一方面所述的出料均勻的涂布模頭。

19、本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明的涂布模頭采用了多腔均勻性設(shè)計，更多地利用了重力作用使流體在寬度方向上鋪滿涂布模頭的內(nèi)部空間，有利于放寬對進(jìn)入腔體流體的流量要求；第二支撐柱用于支撐涂布模頭主體，第一支撐柱獨(dú)立支撐緩沖柱并輔助支撐涂布模頭主體，有利于抑制因自重引發(fā)的狹縫唇口變形；多腔均勻性設(shè)計和重量分配設(shè)計使流體在涂布前和涂布時更加均勻。

20、本申請的其他特征和優(yōu)點(diǎn)將在隨后的說明書闡述，并且，部分地從說明書中變得顯而易見，或者通過實(shí)施本申請了解。本申請的目的和其他優(yōu)點(diǎn)可通過在所寫的說明書以及附圖中所特別指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。

技術(shù)特征：

1.一種出料均勻的涂布模頭，其特征在于，包括支撐構(gòu)件和從上往下依次連通的進(jìn)料口（1）、分流通道（2）、擴(kuò)散通道（3）、緩沖腔（4）、狹縫唇口（5），所述分流通道（2）的末端分出多個分流口（28）連接所述擴(kuò)散通道（3）的始端，所述擴(kuò)散通道（3）向下傾斜，所述緩沖腔（4）的始端與末端的連線上設(shè)置有緩沖柱（41）；所述擴(kuò)散通道（3）、所述緩沖柱（41）和所述緩沖腔（4）的寬度均與所述狹縫唇口（5）的涂布幅寬相等，所述支撐構(gòu)件包括設(shè)置在所述緩沖柱（41）中的第一支撐柱（61）和設(shè)置在所述緩沖腔（4）之外的第二支撐柱。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述擴(kuò)散通道（3）包括交替連接的豎流段（31）和平流段（32），所述平流段（32）與水平面的夾角為-30°~0°。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述豎流段（31）上設(shè)置有緩沖槽（311），所述緩沖槽（311）的徑向截面形狀為圓形、橢圓形或倒水滴形。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述擴(kuò)散通道（3）共有兩個，所述分流通道（2）的末端分出兩組所述分流口（28），一組所述分流口（28）對應(yīng)連接一個所述擴(kuò)散通道（3）的始端，所述分流通道（2）自身、所述緩沖腔（4）自身以第一平面為對稱面，兩個所述擴(kuò)散通道（3）以所述第一平面為對稱面，所述第一平面為所述狹縫唇口（5）所在豎直平面，兩個所述擴(kuò)散通道（3）的末端與所述緩沖腔（4）連通。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，兩個所述擴(kuò)散通道（3）的末端匯聚于第二縫隙（38），所述第二縫隙（38）連接所述緩沖腔（4）的始端，所述第二縫隙（38）與所述狹縫唇口（5）平行，所述第二縫隙（38）位于所述第一平面上；

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述緩沖腔（4）的徑向截面形狀為圓形、橢圓形或倒水滴形，所述緩沖柱（41）為表面是弧面的柱體，所述緩沖柱（41）的幾何重心位于所述第一平面上且低于所述緩沖腔（4）的幾何重心，所述緩沖柱（41）與所述緩沖腔（4）的最小距離大于所述狹縫唇口（5）寬度的0.5倍且小于所述狹縫唇口（5）寬度的2倍。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述第二支撐柱包括一根中央支撐柱（62）和兩根側(cè)支撐柱（63），所述中央支撐柱（62）位于所述分流通道（2）、兩個所述擴(kuò)散通道（3）、所述緩沖腔（4）四者的圍合范圍內(nèi)，所述側(cè)支撐柱（63）位于所述分流通道（2）、兩個所述擴(kuò)散通道（3）、所述緩沖腔（4）四者的圍合范圍外，所述中央支撐柱（62）自身以所述第一平面為對稱面，兩根所述側(cè)支撐柱（63）以所述第一平面為對稱面。

8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述狹縫唇口（5）的高度大于所述緩沖腔（4）最大內(nèi)徑的三分之一，且小于所述緩沖腔（4）最大內(nèi)徑的五倍。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的出料均勻的涂布模頭，其特征在于，所述分流通道（2）的始端設(shè)置有緩沖球（29）。

10.一種涂布設(shè)備，其特征在于，包括權(quán)利要求1至9任一項(xiàng)所述的出料均勻的涂布模頭。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種出料均勻的涂布模頭及涂布設(shè)備，屬于涂布設(shè)備領(lǐng)域，涂布模頭中，分流通道的末端分出多個分流口連接擴(kuò)散通道的始端，擴(kuò)散通道向下傾斜，緩沖腔的始端與末端的連線上設(shè)置有緩沖柱，擴(kuò)散通道、緩沖柱和緩沖腔的寬度均與狹縫唇口的涂布幅寬相等，支撐構(gòu)件包括設(shè)置在緩沖柱中的第一支撐柱和設(shè)置在緩沖腔之外的第二支撐柱。該涂布模頭更多地利用了重力作用使流體在寬度方向上鋪滿涂布模頭的內(nèi)部空間，有利于放寬對進(jìn)入腔體流體的流量要求；第二支撐柱用于支撐涂布模頭主體，第一支撐柱獨(dú)立支撐緩沖柱并輔助支撐涂布模頭主體，有利于抑制因自重引發(fā)的狹縫唇口變形；多腔均勻性設(shè)計和重量分配設(shè)計使流體在涂布前和涂布時更加均勻。

技術(shù)研發(fā)人員：馬寶真,蔡煒,楊一新,文享龍,鄔全兵
受保護(hù)的技術(shù)使用者：季華實(shí)驗(yàn)室
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/6