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一種高溫煅燒研磨裝置的制作方法

文檔序號(hào):40579449發(fā)布日期:2025-01-07 20:19閱讀:6來(lái)源:國(guó)知局
一種高溫煅燒研磨裝置的制作方法

本技術(shù)涉及氧化鎂研磨裝置領(lǐng)域,具體為一種高溫煅燒研磨裝置。


背景技術(shù):

1、氧化鎂是一種無(wú)機(jī)化合物,是鎂的氧化物,一種離子化合物,常溫下為一種白色固體,以方鎂石形式存在于自然界中,是冶鎂的原料,它有高度耐火絕緣性能,經(jīng)1000℃以上高溫灼燒可轉(zhuǎn)變?yōu)榫w,升至1500~2000℃則成死燒氧化鎂(鎂砂)或燒結(jié)氧化鎂,通過(guò)研具與工件在一定壓力下的相對(duì)運(yùn)動(dòng),對(duì)氧化鎂完成研磨操作。

2、經(jīng)過(guò)對(duì)所提及的專利申請(qǐng)?zhí)?01821560522.7進(jìn)行深入分析,該專利名為“一種氧化鎂研磨用介質(zhì)攪拌磨”,其核心在于通過(guò)特定的攪拌機(jī)制增強(qiáng)氧化鎂的研磨效果,按照該設(shè)計(jì),氧化鎂通過(guò)進(jìn)料管被送入攪拌桶內(nèi),隨后在控制器的精準(zhǔn)控制下,攪拌電機(jī)啟動(dòng),驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)軸和攪拌軸旋轉(zhuǎn),這種旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)與研磨球的相互作用,理論上能夠產(chǎn)生良好的攪拌效果,確保物料混合均勻。

3、然而,在實(shí)際應(yīng)用中,雖然在一定程度上提高了攪拌的均勻性,但對(duì)于研磨效率的提升卻相對(duì)有限,單純依靠攪拌操作來(lái)增強(qiáng)研磨效果,顯然無(wú)法滿足當(dāng)前對(duì)高效率研磨的需求,因此,為了進(jìn)一步提升氧化鎂的研磨效率和整體加工質(zhì)量,我們迫切需要開發(fā)一款新型的、具有更高研磨效能的氧化鎂研磨裝置,這樣的裝置不僅能夠顯著提高研磨速度,還能在保持均勻性的同時(shí),實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的研磨效果。


技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、基于此,本實(shí)用新型的目的是提供一種高溫煅燒研磨裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中,對(duì)增強(qiáng)研磨效率作用的效果較低的技術(shù)問(wèn)題。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的,本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:一種高溫煅燒研磨裝置,包括裝置主體,所述裝置主體的頂部設(shè)置有研磨筒,所述研磨筒的底部設(shè)置有研磨腔,所述研磨腔的內(nèi)部設(shè)置有介質(zhì),所述研磨筒的內(nèi)部上方設(shè)置有兩個(gè)傳動(dòng)桿,所述傳動(dòng)桿的底部設(shè)置有攪拌桿,所述攪拌桿的頂部設(shè)置有第一電機(jī),所述研磨腔的外側(cè)設(shè)置有加熱基,所述裝置主體的前表面設(shè)置有控制面板。

3、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,加熱為研磨過(guò)程提供了必要的能量,使得氧化鎂分子間的運(yùn)動(dòng)加快,碰撞頻率增加,這種加熱作用促進(jìn)了物理變化和化學(xué)反應(yīng)的速率,有助于更快地達(dá)到所需的研磨效果,通過(guò)增加分子間的活躍性,加熱顯著提高了研磨效率,縮短了達(dá)到理想細(xì)度所需的時(shí)間。

4、進(jìn)一步的,所述介質(zhì)為研磨球,且設(shè)置有多個(gè),所述介質(zhì)為兩種但不限制于兩種尺寸結(jié)構(gòu)表現(xiàn)形式。

5、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,大尺寸的研磨球具有較大的沖擊力和研磨面積,可以迅速將大塊的氧化鎂破碎成較小的顆粒,而小尺寸的研磨球則能夠更精細(xì)地研磨這些較小顆粒,使其達(dá)到所需的細(xì)度,因此,多種尺寸的研磨球相結(jié)合可以覆蓋更廣泛的研磨需求,提高研磨效率和效果。

6、進(jìn)一步的,所述研磨腔的材質(zhì)為陶瓷內(nèi)襯,所述攪拌桿設(shè)置有三個(gè),且呈等距環(huán)形排布,所述第一電機(jī)通過(guò)齒輪箱與傳動(dòng)桿相連接。

7、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,陶瓷內(nèi)襯的研磨腔具有良好的耐磨性和耐腐蝕性,能夠長(zhǎng)時(shí)間保持研磨環(huán)境的穩(wěn)定性和清潔度,陶瓷材質(zhì)還具有較高的硬度和抗沖擊性,能夠有效地抵抗研磨過(guò)程中產(chǎn)生的摩擦力和沖擊力,從而延長(zhǎng)了研磨腔的使用壽命,齒輪箱為三個(gè)齒輪相互嚙合的狀態(tài)。

8、進(jìn)一步的,所述研磨腔的底部設(shè)置有出料腔,所述出料腔的一側(cè)設(shè)置有排料腔,所述排料腔的內(nèi)部設(shè)置有螺旋葉片。

9、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,可以有效地收集研磨完成的物料,研磨完成后的物料在重力作用下自然下落至出料腔,便于集中管理和后續(xù)處理。

10、進(jìn)一步的,所述排料腔的一側(cè)貫穿裝置主體并設(shè)置有出料口,所述出料口的一側(cè)設(shè)置有第二電機(jī),所述第二電機(jī)用于螺旋葉片的運(yùn)作。

11、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,出料口使得研磨完成后的物料能夠順暢地從設(shè)備內(nèi)部排出,不僅簡(jiǎn)化了物料排出的路徑,還有效地減少了物料在排出過(guò)程中的阻力和摩擦,提高了排料效率。

12、進(jìn)一步的,所述研磨筒的頂部一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料口,所述進(jìn)料口為焊接法蘭。

13、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,進(jìn)料口可以方便地將待研磨的物料加入研磨腔內(nèi),這種布局方式使得物料添加過(guò)程更加直觀和便捷,提高了操作效率。

14、進(jìn)一步的,所述排料腔的外側(cè)設(shè)置有冷卻模塊,所述冷卻模塊用于冷卻原料。

15、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,冷卻模塊可以有效地降低原料的溫度,在研磨過(guò)程中,原料由于摩擦和碰撞會(huì)產(chǎn)生熱量以及加熱基的熱傳導(dǎo)操作,導(dǎo)致溫度升高,通過(guò)冷卻模塊的作用,可以迅速將原料的溫度降低到適宜的范圍,確保研磨效果和產(chǎn)品質(zhì)量。

16、進(jìn)一步的,所述冷卻模塊的內(nèi)部設(shè)置與多個(gè)冷水管,所述冷水管通過(guò)液泵與外界儲(chǔ)液裝置相連通。

17、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,可以實(shí)現(xiàn)對(duì)待冷卻原料進(jìn)行均勻且高效的冷卻,冷水在冷水管內(nèi)循環(huán)流動(dòng),持續(xù)吸收并帶走研磨過(guò)程中產(chǎn)生的熱量,從而有效地降低了原料的溫度,確保其在研磨過(guò)程中保持穩(wěn)定的性能。

18、進(jìn)一步的,所述控制面板包括溫控模塊、研磨控制模塊、冷控模塊和出料控制模塊。

19、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,控制面板對(duì)加熱基的精確控制,可以避免氧化鎂在研磨過(guò)程中因溫度過(guò)高而出現(xiàn)的熱分解、相變等不利狀況,這些狀況會(huì)嚴(yán)重影響氧化鎂的物理和化學(xué)性質(zhì),從而降低研磨效果和產(chǎn)品質(zhì)量,通過(guò)精確控制加熱溫度和時(shí)間,可以確保氧化鎂在最佳的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行研磨,保持其穩(wěn)定性和純度。

20、進(jìn)一步的,所述出料腔的內(nèi)部上方設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)。

21、通過(guò)采用上述技術(shù)方案,可以有效地過(guò)濾掉研磨過(guò)程中產(chǎn)生的雜質(zhì)和顆粒較大的未完全研磨物料,這樣可以確保從出料腔排出的物料粒度均勻,提高產(chǎn)品的純度和質(zhì)量。

22、綜上所述,本實(shí)用新型主要具有以下有益效果:

23、1、本實(shí)用新型通過(guò)加熱基,加熱對(duì)研磨過(guò)程產(chǎn)生了顯著的影響,通過(guò)提供能量,加熱使得氧化鎂分子間的運(yùn)動(dòng)加快,碰撞頻率增加,這種分子層面的活躍性促進(jìn)了研磨過(guò)程中的物理變化,使得原料能夠更快地達(dá)到所需的細(xì)度和均勻性,因此,加熱不僅加快了研磨速度,還有助于提高研磨效果,確保最終產(chǎn)品的質(zhì)量,同時(shí),加熱對(duì)氧化鎂的物理性質(zhì)也產(chǎn)生了積極的影響,在加熱條件下,氧化鎂的硬度降低,使其更易于被研磨,這一變化顯著減少了研磨所需的能量和時(shí)間,從而提高了整體研磨效率,此外,加熱還有助于促進(jìn)氧化鎂顆粒的均勻分布,避免了顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象的發(fā)生,這種均勻性不僅提升了產(chǎn)品的細(xì)膩度,還為其在后續(xù)應(yīng)用中的性能穩(wěn)定性奠定了基礎(chǔ),不僅提高了研磨速度,還確保了最終產(chǎn)品的質(zhì)量和均勻性;

24、2、本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置控制面板,能夠有效避免氧化鎂在研磨過(guò)程中可能出現(xiàn)的熱分解、相變等狀況,通過(guò)控制面板對(duì)加熱基的精準(zhǔn)調(diào)節(jié),可以確保氧化鎂在適宜的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行研磨,從而防止其因溫度過(guò)高而發(fā)生化學(xué)或物理性質(zhì)的改變,保證研磨的穩(wěn)定性和產(chǎn)品質(zhì)量,同時(shí),通過(guò)控制面板對(duì)冷卻模塊的精確控制,可以防止氧化鎂在研磨過(guò)程中因溫度過(guò)高而出現(xiàn)的燒結(jié)、熱應(yīng)力開裂等問(wèn)題,這種控制確保了冷卻效果的及時(shí)性和有效性,避免了高溫對(duì)氧化鎂研磨的不利影響,從而提高了研磨的精度和效率。



技術(shù)特征:

1.一種高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:包括裝置主體(1),所述裝置主體(1)的頂部設(shè)置有研磨筒(2),所述研磨筒(2)的底部設(shè)置有研磨腔(4),所述研磨腔(4)的內(nèi)部設(shè)置有介質(zhì)(5),所述研磨筒(2)的內(nèi)部上方設(shè)置有兩個(gè)傳動(dòng)桿(3),所述傳動(dòng)桿(3)的底部設(shè)置有攪拌桿(6),所述攪拌桿(6)的頂部設(shè)置有第一電機(jī)(7),所述研磨腔(4)的外側(cè)設(shè)置有加熱基(8),所述裝置主體(1)的前表面設(shè)置有控制面板(9)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述介質(zhì)(5)為研磨球,且設(shè)置有多個(gè),所述介質(zhì)(5)為兩種但不限制于兩種尺寸結(jié)構(gòu)表現(xiàn)形式。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述研磨腔(4)的材質(zhì)為陶瓷內(nèi)襯,所述攪拌桿(6)設(shè)置有三個(gè),且呈等距環(huán)形排布,所述第一電機(jī)(7)通過(guò)齒輪箱與傳動(dòng)桿(3)相連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述研磨腔(4)的底部設(shè)置有出料腔(11),所述出料腔(11)的一側(cè)設(shè)置有排料腔(12),所述排料腔(12)的內(nèi)部設(shè)置有螺旋葉片(13)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述排料腔(12)的一側(cè)貫穿裝置主體(1)并設(shè)置有出料口(14),所述出料口(14)的一側(cè)設(shè)置有第二電機(jī)(15),所述第二電機(jī)(15)用于螺旋葉片(13)的運(yùn)作。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述研磨筒(2)的頂部一側(cè)設(shè)置有進(jìn)料口(10),所述進(jìn)料口(10)為焊接法蘭。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述排料腔(12)的外側(cè)設(shè)置有冷卻模塊(16),所述冷卻模塊(16)用于冷卻原料。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述冷卻模塊(16)的內(nèi)部設(shè)置與多個(gè)冷水管(17),所述冷水管(17)通過(guò)液泵與外界儲(chǔ)液裝置相連通。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述控制面板(9)包括溫控模塊(901)、研磨控制模塊(902)、冷控模塊(903)和出料控制模塊(904)。

10.根據(jù)權(quán)利要求4所述的高溫煅燒研磨裝置,其特征在于:所述出料腔(11)的內(nèi)部上方設(shè)置有過(guò)濾網(wǎng)(18)。


技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)公開了一種高溫煅燒研磨裝置,涉及氧化鎂研磨裝置領(lǐng)域。本技術(shù)包括裝置主體,所述裝置主體的頂部設(shè)置有研磨筒,所述研磨筒的內(nèi)部上方設(shè)置有兩個(gè)傳動(dòng)桿,所述傳動(dòng)桿的底部設(shè)置有攪拌桿,所述攪拌桿的頂部設(shè)置有第一電機(jī),所述研磨腔的外側(cè)設(shè)置有加熱基,本技術(shù)通過(guò)加熱基,加熱對(duì)研磨過(guò)程產(chǎn)生了顯著的影響,通過(guò)提供能量,加熱使得氧化鎂分子間的運(yùn)動(dòng)加快,碰撞頻率增加,這種分子層面的活躍性促進(jìn)了研磨過(guò)程中的物理變化,使得原料能夠更快地達(dá)到所需的細(xì)度和均勻性,加熱還有助于促進(jìn)氧化鎂顆粒的均勻分布,避免了顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象的發(fā)生,這種均勻性不僅提升了產(chǎn)品的細(xì)膩度,還為其在后續(xù)應(yīng)用中的性能穩(wěn)定性奠定了基礎(chǔ)。

技術(shù)研發(fā)人員:孫春艷
受保護(hù)的技術(shù)使用者:濟(jì)南泰合乾新材料科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日:20240417
技術(shù)公布日:2025/1/6
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