本技術(shù)涉及涂布機(jī)，具體是一種主機(jī)外置的涂布機(jī)。

背景技術(shù)：

1、涂布機(jī)主要用于薄膜、紙張等的表面涂布工藝生產(chǎn)，此機(jī)是將成卷的基材涂上一層特定功能的膠、涂料或油墨等，并烘干后收成卷體。

2、涂布機(jī)在上膠完成后，為了避免未干的膠面粘黏在傳送輥上，需要將膠面朝上并由傳送輥托住物料的底部并將物料送入烘箱中進(jìn)行烘干后再收成卷體，如中國發(fā)明專利“一種薄膜涂布機(jī)”(公告號cn203791126u，公告日2014.08.27)將放卷機(jī)構(gòu)、牽引機(jī)構(gòu)、網(wǎng)輥涂布機(jī)等內(nèi)置于機(jī)體內(nèi)部，以便于在涂膠完成后從機(jī)體的一端送出在折返回到機(jī)體上部的烘箱中，此時物料的膠面朝上，能有效避免粘膠現(xiàn)象。但是，此類涂布機(jī)由于將放卷機(jī)構(gòu)、牽引機(jī)構(gòu)、網(wǎng)輥涂布機(jī)等主機(jī)部分內(nèi)置于機(jī)體中，即需要將機(jī)體整體提高，容易導(dǎo)致機(jī)體整體過高而無法將機(jī)器設(shè)置在一般層高較低的廠房，尤其是上層廠房為了建筑結(jié)構(gòu)安全一般層高不超過5米，為了解決這一問題，本實用新型提供了一種既保證物料的膠面朝上又可降低機(jī)體高度的主機(jī)外置的涂布機(jī)。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本實用新型為克服上述情況不足，旨在提供一種能解決上述問題的技術(shù)方案。

2、一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，包括依次設(shè)置的放卷單元、上膠單元、收卷單元，上膠單元與收卷單元之間設(shè)置有烘箱單元，放卷單元與上膠單元之間設(shè)有基材牽引單元，上膠單元包括直刮涂布單元以及網(wǎng)紋涂布單元，基材牽引單元從放卷單元中拉取基材并將基材送到直刮涂布單元，烘箱單元包括烘箱支架以及排列在烘箱支架上的烘箱組件，烘箱支架上還安裝有涂布折返輥，基材經(jīng)過直刮涂布單元后從網(wǎng)紋涂布單元的底部繞到涂布折返輥并經(jīng)過涂布折返輥繞回網(wǎng)紋涂布單元中完成網(wǎng)紋涂膠，網(wǎng)紋涂布單元上于其出口的上方設(shè)有基材導(dǎo)出輥，基材完成網(wǎng)紋涂膠后繞過基材導(dǎo)出輥折返到烘箱支架的上方并膠面朝上地進(jìn)入烘箱組件中；

3、烘箱單元的出口處設(shè)有復(fù)合單元以及復(fù)合放料單元，復(fù)合放料單元上設(shè)有覆膜卷，復(fù)合單元上設(shè)有從覆膜卷上拉取覆膜的覆膜牽引機(jī)構(gòu)，基材從烘箱單元的出口送出后進(jìn)入復(fù)合單元并經(jīng)過復(fù)合單元將覆膜貼合在基材的膠面上；

4、收卷單元包括儲料單元、中心卷料單元，基材在復(fù)合單元與覆膜貼合后經(jīng)過儲料單元進(jìn)入中心卷料單元中回收成卷。

5、進(jìn)一步的，網(wǎng)紋涂布單元包括網(wǎng)紋涂布機(jī)架以及安裝在網(wǎng)紋涂布機(jī)架上的網(wǎng)紋涂布組件，網(wǎng)紋涂布機(jī)架的底部安裝有過布導(dǎo)輥，從直刮涂布單元送出的基材從下方繞過過布導(dǎo)輥后經(jīng)過涂布折返輥從網(wǎng)紋涂布機(jī)架的上方進(jìn)入網(wǎng)紋涂布組件中，基材導(dǎo)出輥設(shè)于網(wǎng)紋涂布組件出口上方的網(wǎng)紋涂布機(jī)架上，基材繞過基材導(dǎo)出輥后折返到烘箱組件中。

6、進(jìn)一步的，烘箱支架上排列有多組烘箱組件并形成兩端低、中間高的拱形結(jié)構(gòu)。

7、進(jìn)一步的，復(fù)合放料單元的底部設(shè)有出布機(jī)架并在出布機(jī)架上安裝有出布導(dǎo)輥，基材完成覆膜貼合后經(jīng)過出布導(dǎo)輥進(jìn)入儲料單元。

8、進(jìn)一步的，儲料單元上包括儲料倉以及安裝在儲料倉中的儲料牽引輥、儲料架，儲料架包括轉(zhuǎn)動安裝在儲料倉的上部的上導(dǎo)輥、設(shè)于上導(dǎo)輥下方的調(diào)節(jié)支架以及安裝在調(diào)節(jié)支架上的下導(dǎo)輥，下導(dǎo)輥與上導(dǎo)輥錯位排列，儲料倉中還設(shè)置有驅(qū)動調(diào)節(jié)支架升降的升降裝置。

9、進(jìn)一步的，收卷單元還包括復(fù)卷收料單元，復(fù)卷收料單元與中心收卷單元之間設(shè)有將基材導(dǎo)向復(fù)卷收料單元或中心收卷單元的收料換向單元。

10、與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型取得的有益效果為：本實用新型中，放卷單元、上膠單元、收卷單元等均外置于烘箱單元，因此不必加高烘箱支架，有利于降低機(jī)器的整體高度，使之更適用于高度較低的廠房，并且，本實用新型通過設(shè)置涂布折返輥、基材導(dǎo)出輥將基材折返后兩次后再送入到烘箱單元，使基材經(jīng)過網(wǎng)紋涂膠后膠面朝上地進(jìn)入烘箱單元，解決了一般主機(jī)外置的涂布機(jī)基材正向施膠而導(dǎo)致膠面朝下的問題。

11、本實用新型的附加方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本實用新型的實踐了解到。

技術(shù)特征：

1.一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，包括依次設(shè)置的放卷單元、上膠單元、收卷單元，上膠單元與收卷單元之間設(shè)置有烘箱單元，其特征在于，放卷單元與上膠單元之間設(shè)有基材牽引單元，上膠單元包括直刮涂布單元以及網(wǎng)紋涂布單元，基材牽引單元從放卷單元中拉取基材并將基材送到直刮涂布單元，烘箱單元包括烘箱支架以及排列在烘箱支架上的烘箱組件，烘箱支架上還安裝有涂布折返輥，基材經(jīng)過直刮涂布單元后從網(wǎng)紋涂布單元的底部繞到涂布折返輥并經(jīng)過涂布折返輥繞回網(wǎng)紋涂布單元中完成網(wǎng)紋涂膠，網(wǎng)紋涂布單元上于其出口的上方設(shè)有基材導(dǎo)出輥，基材完成網(wǎng)紋涂膠后繞過基材導(dǎo)出輥折返到烘箱支架的上方并膠面朝上地進(jìn)入烘箱組件中；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，其特征在于，網(wǎng)紋涂布單元包括網(wǎng)紋涂布機(jī)架以及安裝在網(wǎng)紋涂布機(jī)架上的網(wǎng)紋涂布組件，網(wǎng)紋涂布機(jī)架的底部安裝有過布導(dǎo)輥，從直刮涂布單元送出的基材從下方繞過過布導(dǎo)輥后經(jīng)過涂布折返輥從網(wǎng)紋涂布機(jī)架的上方進(jìn)入網(wǎng)紋涂布組件中，基材導(dǎo)出輥設(shè)于網(wǎng)紋涂布組件出口上方的網(wǎng)紋涂布機(jī)架上，基材繞過基材導(dǎo)出輥后折返到烘箱組件中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，其特征在于，烘箱支架上排列有多組烘箱組件并形成兩端低、中間高的拱形結(jié)構(gòu)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，其特征在于，復(fù)合放料單元的底部設(shè)有出布機(jī)架并在出布機(jī)架上安裝有出布導(dǎo)輥，基材完成覆膜貼合后經(jīng)過出布導(dǎo)輥進(jìn)入儲料單元。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或4所述一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，其特征在于，儲料單元上包括儲料倉以及安裝在儲料倉中的儲料牽引輥、儲料架，儲料架包括轉(zhuǎn)動安裝在儲料倉的上部的上導(dǎo)輥、設(shè)于上導(dǎo)輥下方的調(diào)節(jié)支架以及安裝在調(diào)節(jié)支架上的下導(dǎo)輥，下導(dǎo)輥與上導(dǎo)輥錯位排列，儲料倉中還設(shè)置有驅(qū)動調(diào)節(jié)支架升降的升降裝置。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，其特征在于，收卷單元還包括復(fù)卷收料單元，復(fù)卷收料單元與中心收卷單元之間設(shè)有將基材導(dǎo)向復(fù)卷收料單元或中心收卷單元的收料換向單元。

技術(shù)總結(jié)
本技術(shù)涉及涂布機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，具體是一種主機(jī)外置的涂布機(jī)。一種主機(jī)外置的涂布機(jī)，包括依次設(shè)置的放卷單元、上膠單元、收卷單元，上膠單元與收卷單元之間設(shè)置有烘箱單元，烘箱支架上還安裝有涂布折返輥，基材經(jīng)過直刮涂布單元后從網(wǎng)紋涂布單元的底部繞到涂布折返輥并經(jīng)過涂布折返輥繞回網(wǎng)紋涂布單元中完成網(wǎng)紋涂膠，網(wǎng)紋涂布單元上于其出口的上方設(shè)有基材導(dǎo)出輥，基材完成網(wǎng)紋涂膠后繞過基材導(dǎo)出輥折返到烘箱支架的上方并膠面朝上地進(jìn)入烘箱組件中。本技術(shù)中，有利于降低機(jī)器的整體高度，使之更適用于高度較低的廠房，解決了一般主機(jī)外置的涂布機(jī)基材正向施膠而導(dǎo)致膠面朝下的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：吳畢杰,畢鑫淼
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東莞市千途智能科技有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240428
技術(shù)公布日：2024/12/30