一種用于離心轉(zhuǎn)盤式噴霧干燥裝置的霧化盤的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種噴霧干燥裝置的部件，更具體地說，涉及一種離心轉(zhuǎn)盤式噴霧干 燥裝置的霧化盤；采用該部件的噴霧干燥裝置進行聚乙烯催化劑制備時，具有防止?jié){液提 前干燥堵塞噴口的效果。
【背景技術(shù)】
[0002] 當前國內(nèi)廠家已經(jīng)越來越多地使用乳液干燥法制備聚乙烯催化劑，霧化盤是乳液 干燥法裝置中的關(guān)鍵部件，霧化盤的霧化性能直接影響到催化劑產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0003] 離心轉(zhuǎn)盤式霧化盤在結(jié)構(gòu)形式上一般分為光滑盤、葉片盤、噴嘴盤三種。由于液體 容易在高速旋轉(zhuǎn)的光滑盤上打滑，因此光滑盤的霧化能力一般是不夠的，所以除對產(chǎn)品粒 徑有特殊要求的場合外，光滑盤較少被應用。葉片盤是指為了防止液體在盤上打滑，在光滑 盤上設置隔柵，而形成的類似"葉片狀"的霧化盤，同時，可以在隔柵上覆以蓋板防止液體濺 射。在遇到某些腐蝕性物料時，葉片盤的隔柵處很容易被腐蝕，導致其霧化能力大大降低。 為了解決這一問題，將葉片盤的矩形出口改為圓形，同時在噴口鑲襯上耐蝕的材料，這種型 式的霧化盤稱之為噴嘴盤。
[0004] 在制備聚乙烯催化劑的工藝過程中，由于對樣品粒徑要求達到30 以下，因此 噴嘴盤選用的噴嘴內(nèi)徑較小，為(p4mm。在操作過程中，若液體中夾有熱風，則液體在高速 通過噴嘴時很容易在噴嘴中提前干燥，形成固體干粉，附著在噴嘴流道中，造成堵塞。目前， 國內(nèi)的霧化盤普遍存在漿液提前干燥堵塞噴嘴、霧化效率偏低等問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 為了解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的易堵塞、霧化效率低等問題，本發(fā)明提供了一種采用 不銹鋼鍛件制造的、外表面噴涂熱障涂層、同時內(nèi)部有使?jié){液二次分布構(gòu)造的霧化盤。
[0006]本發(fā)明的一種用于離心轉(zhuǎn)盤式噴霧干燥裝置的霧化盤，是這樣實現(xiàn)的：
[0007]所述霧化盤包括上盤2和下盤5 ;所述上盤2設有噴嘴3、進料口 1 ;所述上盤2和 下盤5嚙合后，通過緊固螺栓連接，并在上盤2和下盤5的縫隙處設有橡膠密封圈4;在所 述上盤2處設有環(huán)形凸臺6,所述環(huán)形凸臺6邊緣與上盤2外側(cè)壁的距離大于噴嘴相對于上 盤2外側(cè)壁內(nèi)伸的距離；在所述下盤5對應所述環(huán)形凸臺6邊緣的正下方設有環(huán)形凹槽7 ; 在所述上盤2和下盤5的外表面采用等離子噴涂方法噴涂熱障涂層。
[0008]在具體實施時，所述熱障涂層為利用等離子噴涂工藝噴涂的氧化物陶瓷，噴涂兩 層，底層為金屬涂層：Cr20Ni80 ;面層為陶瓷涂層，牌號為：YSZ。
[0009] 在具體實施時，所述環(huán)形凸臺6的高度為1.0?1.5mm;所述環(huán)形凹槽7的寬 5. 0mm、深1. 5mm。所述環(huán)形凸臺6邊緣與噴嘴3入口的水平距離為1. 5mm。
[0010]在具體實施時，所述環(huán)形凹槽7為兩段圓滑過渡的弧面；靠內(nèi)側(cè)的所述弧面朝上， 弧面半徑為1. 5mm ;靠外側(cè)的所述弧面朝下，弧面半徑為6. 0mm。
[0011]在具體實施時，所述上盤2設有4個噴嘴3,所述噴嘴3的材質(zhì)為陶瓷、噴嘴內(nèi)徑為 q>4mm。所述上盤2和下盤5的材料均選擇不銹鋼鍛件制作，平均壁厚為8mm。所述霧化盤 設有頂出螺栓8,用于拆卸所述上盤2和下盤5。
[0012] 本發(fā)明提供了一種新型的由不銹鋼鍛件制造的、外表面噴涂熱障涂層、同時內(nèi)部 有使乳液二次分布構(gòu)造的霧化盤。前兩種措施可以有效降低霧化盤內(nèi)部的溫度，防止?jié){液 在霧化盤內(nèi)部因溫度過高而提前干燥；第三種措施可以降低因漿液未充滿噴嘴而與熱風接 觸，在噴嘴中提前干燥而堵塞噴嘴的可能。
[0013] 在霧化盤的上盤2頂部加工出環(huán)形凸臺6,環(huán)形凸臺6邊緣相對于霧化盤外側(cè)壁 的距離稍大于噴嘴3內(nèi)伸的距離。在霧化盤的下盤5對應上盤環(huán)形凸臺6邊緣的位置，力口 工出一道環(huán)形凹槽7。由于霧化盤高速旋轉(zhuǎn)的速度至少需保持lxl0 4rpm,在這樣的高速下， 漿液在流入霧化盤后，會在離心力的作用下緊貼側(cè)壁形成一道液體墻。液體墻的厚度隨著 漿液的流入而增大，同時，液體墻的厚度也更加均勻。直到液體墻內(nèi)壁接觸到上盤環(huán)形凸臺 6以及下盤的環(huán)形凹槽7邊緣，與此同時，液體墻內(nèi)壁表面已經(jīng)高于噴嘴3,這樣就可以連續(xù) 且均勻地從噴嘴里甩出，達到均勻分布漿液的目的。同時，漿液充滿了噴嘴3,避免霧化輪外 側(cè)的熱風進入噴嘴流道，使?jié){液在噴嘴3中提前干燥，堵塞噴嘴3。
[0014] 本發(fā)明通過增加霧化盤的壁厚、在霧化盤外表面噴涂熱障涂層，有效地降低了霧 化盤內(nèi)溫度，防止?jié){液在霧化盤內(nèi)提前干燥；通過改變霧化盤內(nèi)部結(jié)構(gòu)，使?jié){液均勻噴出霧 化盤，有效的降低了漿液提前干燥堵塞噴嘴的可能性，提高了霧化效率。
【附圖說明】
[0015] 圖1為本發(fā)明霧化盤的裝配圖；
[0016] 圖2為本發(fā)明霧化盤的上盤俯視圖；
[0017] 圖3為本發(fā)明霧化盤的上盤剖視圖；
[0018] 圖4為本發(fā)明霧化盤的下盤剖視圖；
[0019] 圖5為本發(fā)明霧化盤的下盤俯視圖；
[0020] 圖6為本發(fā)明霧化盤的下盤環(huán)形凹槽剖面圖；
[0021] 圖7為本發(fā)明霧化盤的上盤環(huán)形凸臺剖面圖；
[0022] 其中：1_進料口，2-上盤，3-噴嘴，4-密封圈，5-下盤，6-環(huán)形凸臺，7-環(huán)形凹槽， 8-頂出螺栓孔
【具體實施方式】
[0023] 下面結(jié)合實施例和附圖進一步詳述本發(fā)明的技術(shù)方案，本發(fā)明的保護范圍不局限 于下述的【具體實施方式】。
[0024] 實施例1:
[0025] 如圖1、2、5所示,本發(fā)明的霧化盤由一個上盤2、一個下盤5、六個緊固螺栓、兩個 頂出螺栓8和一個密封圈4組成。
[0026] 所述上盤2側(cè)壁安裝四個陶瓷噴嘴3,陶瓷噴嘴3內(nèi)徑為(p4mm;所述下盤2設有 進料口 1 ;所述上盤2和下盤5嚙合后，通過緊固螺栓連接，并在上盤2和下盤5的縫隙處 設有橡膠密封圈4。
[0027] 如圖3所示，在上盤2的內(nèi)壁上表面加工出環(huán)形凸臺6。如圖7所示，凸臺高度控 制在1-1. 5mm。環(huán)形凸臺6邊緣與上盤2外側(cè)壁的距離大于噴嘴3相對于上盤2外側(cè)壁內(nèi) 伸的距離1. 5_。
[0028] 如圖1、4所示，在凸臺正下方的下盤表面，加工出一道環(huán)形凹槽7,凹槽寬5mm、深 1. 5mm。如圖6所示，所述環(huán)形凹槽7為兩段圓滑過渡的弧面；靠內(nèi)側(cè)的所述弧面朝上，弧面 半徑為1. 5mm ;靠外側(cè)的所述弧面朝下，弧面半徑為6mm。
[0029] 如圖3、4所示，上、下盤的A，B兩個面利用等離子噴涂方法噴涂熱障涂層。所述熱 障涂層為利用等離子噴涂工藝噴涂的氧化物陶瓷，噴涂兩層，底層為金屬涂層：Cr20Ni80 ; 面層為陶瓷涂層，牌號為：YSZ。
[0030] 頂出螺栓8的作用是在拆卸霧化盤時，將通過漿液黏在一起的上盤2與下盤5分 開。所述上盤2和下盤5上盤、下盤的材料均選擇不銹鋼鍛件制作，平均壁厚為8mm。
【主權(quán)項】
1. 一種用于離心轉(zhuǎn)盤式噴霧干燥裝置的霧化盤， 所述霧化盤包括上盤[2]和下盤[5];所述上盤[2]設有噴嘴[3]、進料口 [1];所述上 盤[2]和下盤[5]嚙合后，通過緊固螺栓連接，并在上盤[2]和下盤[5]的縫隙處設有橡膠 密封圈[4]; 在所述上盤[2]處設有環(huán)形凸臺[6]，所述環(huán)形凸臺[6]邊緣與上盤[2]外側(cè)壁的距離 大于噴嘴相對于上盤[2]外側(cè)壁內(nèi)伸的距離； 在所述下盤[5]對應所述環(huán)形凸臺[6]邊緣的正下方設有環(huán)形凹槽[7]; 在所述上盤[2]和下盤[5]的外表面采用等離子噴涂方法噴涂熱障涂層。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述熱障涂層為利用等離子噴涂工藝噴涂的氧化物陶瓷，噴涂兩層，底層為金屬涂層， 面層為陶瓷涂層。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的霧化盤，其特征在于： 所述底層金屬為Cr20Ni80 ;所述面層陶瓷的牌號為YSZ。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述環(huán)形凸臺[6]的高度為1. 0?1. 5mm;所述環(huán)形凹槽[7]的寬5.Omm、深1. 5mm。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的霧化盤，其特征在于： 所述環(huán)形凸臺[6]邊緣與噴嘴[3]入口的水平距離為1. 5mm。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述環(huán)形凹槽[7]為兩段圓滑過渡的弧面；靠內(nèi)側(cè)的所述弧面朝上，弧面半徑為 1. 5mm;靠外側(cè)的所述弧面朝下，弧面半徑為6. 0mm。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述上盤[2]設有4個噴嘴[3]，所述噴嘴[3]的材質(zhì)為陶瓷、噴嘴內(nèi)徑為q>4mm。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述上盤[2]和下盤[5]的材料均選擇不銹鋼鍛件制作，平均壁厚為8_。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的霧化盤，其特征在于： 所述霧化盤設有頂出螺栓[8]，用于拆卸所述上盤[2]和下盤[5]。
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種用于離心轉(zhuǎn)盤式噴霧干燥裝置的霧化盤。霧化盤由上盤和下盤構(gòu)成，在霧化盤的上、下盤內(nèi)部分別設有凸臺和凹槽，并在上、下盤的外表面利用等離子噴涂工藝噴涂熱障涂層。該發(fā)明能夠降低霧化盤內(nèi)部溫度，防止?jié){液在霧化盤內(nèi)部因溫度過高而提前干燥；并且使?jié){液均勻噴出霧化盤，有效降低漿液在噴嘴中提前干燥堵塞噴嘴的可能性，提高了霧化效率。特別適用于如聚乙烯催化劑制備的噴霧干燥過程。
【IPC分類】B01D1-30, B01D1-18
【公開號】CN104548629
【申請?zhí)枴緾N201310507483
【發(fā)明人】叢林, 曾憲忠, 鄭虹玲, 陳翔, 劉翠云, 楊揚
【申請人】中國石油化工股份有限公司, 中國石油化工股份有限公司北京化工研究院
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2013年10月24日