一種高濃度蒸發(fā)裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于蒸發(fā)設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種高濃度蒸發(fā)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的蒸發(fā)裝置在高濃度液體的生產(chǎn)制備時，大都是通過直接加熱蒸發(fā)的方式進(jìn)行多道蒸發(fā)工序?qū)崿F(xiàn)，這就使得蒸發(fā)工序繁瑣，需要搭設(shè)多組結(jié)構(gòu)重復(fù)的蒸發(fā)設(shè)備，使得生產(chǎn)成本大大提高，否則雜質(zhì)含量會較高，不利于企業(yè)的長期發(fā)展。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種結(jié)構(gòu)緊湊合理，制作成本低，能夠滿足生產(chǎn)制備高濃度液體要求的蒸發(fā)裝置。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種高濃度蒸發(fā)裝置，包括一次蒸發(fā)室、二次蒸發(fā)室、導(dǎo)熱腔和底座，二次蒸發(fā)室的頂部設(shè)有弧形的罩蓋，罩蓋與二次蒸發(fā)室之間設(shè)有分流盤，二次蒸發(fā)室的上部開有多個出氣口，二次蒸發(fā)室內(nèi)對應(yīng)出氣口分別設(shè)有分腔，分腔內(nèi)設(shè)有二次蒸發(fā)組件，二次蒸發(fā)組件之間形成的流道與一次蒸發(fā)室連通，一次蒸發(fā)室的上部開有進(jìn)料口、底部設(shè)有導(dǎo)熱腔，一次蒸發(fā)室的底部中央設(shè)有排料管，導(dǎo)熱腔與底座活動固定，導(dǎo)熱腔的側(cè)面設(shè)有介質(zhì)注入口，導(dǎo)熱腔底部靠近排料管的位置處設(shè)有介質(zhì)排出管。
[0005]所述二次蒸發(fā)組件包括多根加熱柱，加熱柱的兩端分別通過上擋圈和下?lián)跞潭ㄔ诙握舭l(fā)室的內(nèi)壁，加熱柱與出氣口之間設(shè)有隔板，位于隔板和下?lián)跞Φ南路皆O(shè)有氣液分離腔。
[0006]所述氣液分離腔由滲透膜與分腔底部貼合形成。
[0007]所述一次蒸發(fā)室為球體狀，加熱腔為與一次蒸發(fā)室的底部匹配的弧面狀。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是:本發(fā)明采用介質(zhì)加熱、二次循環(huán)蒸發(fā)的方式，能夠?qū)崿F(xiàn)高濃度的生產(chǎn)制備要求，同時結(jié)構(gòu)緊湊合理，無需重復(fù)搭設(shè)，大大降低生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0009]下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0010]圖1是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中，1、罩蓋，2、分流盤，3、加熱柱，4、隔板，5、二次蒸發(fā)室，6、滲透膜，7、一次蒸發(fā)室，8、導(dǎo)熱腔,9、介質(zhì)注入口，10、介質(zhì)排出管，11、排料泵，12、底座，13、排料管，14、下?lián)跞Γ?5、出氣口，16、上擋圈。
【具體實(shí)施方式】
[0012]如圖1所示，一種高濃度蒸發(fā)裝置，包括一次蒸發(fā)室7、二次蒸發(fā)室5、導(dǎo)熱腔8和底座12，二次蒸發(fā)室5的頂部設(shè)有弧形的罩蓋1，罩蓋I與二次蒸發(fā)室5之間設(shè)有分流盤，二次蒸發(fā)室5的上部開有多個出氣口 15，二次蒸發(fā)室5內(nèi)對應(yīng)出氣口 15分別設(shè)有分腔，分腔內(nèi)設(shè)有二次蒸發(fā)組件，二次蒸發(fā)組件包括多根加熱柱3，加熱柱3的兩端分別通過上擋圈16和下?lián)跞?4固定在二次蒸發(fā)室5的內(nèi)壁，加熱柱3與出氣口 15之間設(shè)有隔板4，位于隔板4和下?lián)跞?4的下方設(shè)有氣液分離腔，氣液分離腔由滲透膜6與分腔底部貼合形成，二次蒸發(fā)組件之間形成的流道與一次蒸發(fā)室7連通，一次蒸發(fā)室7的上部開有進(jìn)料口、底部設(shè)有導(dǎo)熱腔8，一次蒸發(fā)室7的底部中央設(shè)有排料管13，導(dǎo)熱腔8與底座12活動固定，導(dǎo)熱腔8的側(cè)面設(shè)有介質(zhì)注入口 9，導(dǎo)熱腔8底部靠近排料管13的位置處設(shè)有介質(zhì)排出管10。
[0013]本發(fā)明的蒸發(fā)裝置中，一次蒸發(fā)室7可為球體狀，加熱腔8為與一次蒸發(fā)室7的底部匹配的弧面狀，以加大一次蒸發(fā)室7的受熱面積。
[0014]本發(fā)明的蒸發(fā)裝置使用時，料液由一次蒸發(fā)室7上的進(jìn)料口注入，加熱用的介質(zhì)從介質(zhì)注入口 9注入導(dǎo)熱腔8內(nèi)，加熱器對準(zhǔn)導(dǎo)熱腔8后固定在底座12上，所選擇的介質(zhì)的沸點(diǎn)以需要濃縮得到的料液的沸點(diǎn)與雜質(zhì)液體的沸點(diǎn)之間即可；一次蒸發(fā)室7蒸發(fā)得到的蒸汽由分流盤2進(jìn)入二次蒸發(fā)組件進(jìn)行二次蒸發(fā)，未氣化的液體由滲透膜6滲入一次蒸發(fā)室7內(nèi)循環(huán)利用，雜質(zhì)液體最后以氣體的形式從出氣口 15排出，所得到的料液的濃度較高，且無需重復(fù)搭設(shè)蒸發(fā)設(shè)備，大大降低了生產(chǎn)制備的成本。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種高濃度蒸發(fā)裝置，其特征在于:包括一次蒸發(fā)室、二次蒸發(fā)室、導(dǎo)熱腔和底座，所述二次蒸發(fā)室的頂部設(shè)有弧形的罩蓋，所述罩蓋與二次蒸發(fā)室之間設(shè)有分流盤，所述二次蒸發(fā)室的上部開有多個出氣口，所述二次蒸發(fā)室內(nèi)對應(yīng)出氣口分別設(shè)有分腔，所述分腔內(nèi)設(shè)有二次蒸發(fā)組件，所述二次蒸發(fā)組件之間形成的流道與一次蒸發(fā)室連通，所述一次蒸發(fā)室的上部開有進(jìn)料口、底部設(shè)有導(dǎo)熱腔，所述一次蒸發(fā)室的底部中央設(shè)有排料管，所述導(dǎo)熱腔與底座活動固定，所述導(dǎo)熱腔的側(cè)面設(shè)有介質(zhì)注入口，所述導(dǎo)熱腔底部靠近排料管的位置處設(shè)有介質(zhì)排出管。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度蒸發(fā)裝置，其特征在于:所述二次蒸發(fā)組件包括多根加熱柱，所述加熱柱的兩端分別通過上擋圈和下?lián)跞潭ㄔ诙握舭l(fā)室的內(nèi)壁，所述加熱柱與出氣口之間設(shè)有隔板，位于所述隔板和下?lián)跞Φ南路皆O(shè)有氣液分離腔。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種高濃度蒸發(fā)裝置，其特征在于:所述氣液分離腔由滲透膜與分腔底部貼合形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種高濃度蒸發(fā)裝置，其特征在于:所述一次蒸發(fā)室為球體狀，所述加熱腔為與一次蒸發(fā)室的底部匹配的弧面狀。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種高濃度蒸發(fā)裝置，包括一次蒸發(fā)室、二次蒸發(fā)室、導(dǎo)熱腔和底座，二次蒸發(fā)室的頂部設(shè)有弧形的罩蓋，罩蓋與二次蒸發(fā)室之間設(shè)有分流盤，二次蒸發(fā)室的上部開有多個出氣口，二次蒸發(fā)室內(nèi)對應(yīng)出氣口分別設(shè)有分腔，分腔內(nèi)設(shè)有二次蒸發(fā)組件，二次蒸發(fā)組件之間形成的流道與一次蒸發(fā)室連通，一次蒸發(fā)室的上部開有進(jìn)料口、底部設(shè)有導(dǎo)熱腔，一次蒸發(fā)室的底部中央設(shè)有排料管，導(dǎo)熱腔與底座活動固定，導(dǎo)熱腔的側(cè)面設(shè)有介質(zhì)注入口，導(dǎo)熱腔底部靠近排料管的位置處設(shè)有介質(zhì)排出管。本發(fā)明的有益效果是：本發(fā)明采用介質(zhì)加熱、二次循環(huán)蒸發(fā)的方式，能夠?qū)崿F(xiàn)高濃度的生產(chǎn)制備要求，同時結(jié)構(gòu)緊湊合理，無需重復(fù)搭設(shè)，大大降低生產(chǎn)成本。
【IPC分類】B01D1-26
【公開號】CN104548635
【申請?zhí)枴緾N201410782824
【發(fā)明人】方萌
【申請人】方萌
【公開日】2015年4月29日
【申請日】2014年12月18日