型分離膜結(jié)構(gòu)體孔單元的孔單元編號(hào)圖。 符號(hào)說明
[0114] 1 :分離膜結(jié)構(gòu)體，Is :密封部，2,2a，2b :端面，3 :隔壁，4 :孔單元，4a :分離孔單 元，4b :集水孔單元，4s :內(nèi)壁面，6 :外周面，7 :排出流路，8 :封孔部，9 :多孔體，21 :塞子， 21a:(有孔的）塞子，22 :流量計(jì)，23 :儲(chǔ)氣瓶，25 :真空泵，26 :真空計(jì)，27 :高分子化合物， 30 :基材，33 :分離膜，51 :外殼，52 :流體入口，53,58 :流體出口，54 :密封材料，62 :廣口漏 斗，63 :旋塞，64 :漿料，65 :耐壓容器，67 :溶膠，68 :干燥器。
【具體實(shí)施方式】
[0025] 以下參照【附圖說明】本發(fā)明的實(shí)施方式。本發(fā)明不限定于以下的實(shí)施方式，可在不 脫離發(fā)明的范圍中進(jìn)行變更、修正、改良。
[0026] 本發(fā)明的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的缺陷檢測(cè)方法，是具有多個(gè)孔單元的一體型基材 的孔單元內(nèi)壁面上成膜有分離膜的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的缺陷檢測(cè)方法，該孔單元沿著長(zhǎng) 度方向的一側(cè)端面至另一側(cè)端面，由多孔質(zhì)隔壁區(qū)劃形成。從孔單元外向每個(gè)孔單元用氣 體加壓，測(cè)定氣體滲透到孔單元內(nèi)的滲透量，滲透量的值多于（所有孔單元的滲透量平均 值+A)(其中A為σ~6〇的規(guī)定值、σ為標(biāo)準(zhǔn)偏差）的孔單元判斷為有缺陷的孔單元。 即，將此種孔單元作為缺陷多于其他孔單元的孔單元（缺陷孔單元），作為修補(bǔ)的對(duì)象。
[0027] 或者，對(duì)每個(gè)孔單元減壓，測(cè)定孔單元的真空度，真空度的值比（所有孔單元的真 空度平均值+Α)(其中A為σ~6〇的規(guī)定值、σ為標(biāo)準(zhǔn)偏差）低（低真空）的孔單元判 斷為有缺陷的孔單元。即，此種孔單元作為缺陷多于其他孔單元的孔單元（缺陷孔單元）， 作為修補(bǔ)的對(duì)象。
[0028] 作為A的值，在〇~6 〇的范圍內(nèi)決定即可，但優(yōu)選σ~5 σ，要求分離精度時(shí)， 優(yōu)選σ~3 〇。產(chǎn)品的制造工序中要求氣體分離和脫水等較高分離性能的領(lǐng)域中適宜2 〇， 廢水處理和廢氣回收等較之于分離精度更重視分離膜結(jié)構(gòu)體成本的領(lǐng)域中適宜5〇。
[0029] 孔單元的缺陷檢測(cè)可任意通過滲透量測(cè)定、真空度測(cè)定進(jìn)行。另外，當(dāng)各孔單元的 氣體滲透量（或真空度）為X、測(cè)定了氣體滲透量（或真空度）的孔單元數(shù)為η時(shí)，標(biāo)準(zhǔn)偏 差σ可通過下式求得。
[0030] 【數(shù)1】
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，包含一體型基材和分離膜，一體型基材具有多個(gè)孔單元， 該孔單元沿著長(zhǎng)度方向的一側(cè)端面至另一側(cè)端面，由多孔質(zhì)隔壁區(qū)劃形成，分離膜成膜在 所述孔單元的內(nèi)壁面， 部分所述孔單元的至少兩端部被不流通流體的密封材料閉塞。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述密封材料為高分子化合物。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述高分子化合物為合成樹脂。
4. 根據(jù)權(quán)利要求3所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述合成樹脂為環(huán)氧、娃系W及 氣系中的任意一個(gè)。
5. 根據(jù)利要求1~4任意一項(xiàng)所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述分離膜由無機(jī)材 料形成。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述無機(jī)材料為沸石、碳W及二 氧化娃中的任意一個(gè)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1~6任意一項(xiàng)所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，所述一體型基材為 多孔質(zhì)陶瓷。
8. 根據(jù)權(quán)利要求1~7任意一項(xiàng)所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體，其中，使用耐壓在IMPa 社。
9. 一種一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的修補(bǔ)方法，將一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的有缺陷的孔單元中 的至少部分孔單元的至少兩端部，用不流通流體的密封材料堵住，該一體型分離膜結(jié)構(gòu)體 在具有多個(gè)孔單元的一體型基材的所述孔單元的內(nèi)壁面上成膜有分離膜，所述孔單元沿著 長(zhǎng)度方向的一側(cè)端面至另一側(cè)端面，由多孔質(zhì)隔壁區(qū)劃形成。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的修補(bǔ)方法，其中，向所述一體型分離 膜結(jié)構(gòu)體的有缺陷的所述孔單元內(nèi)注入所述密封材料，令其固化，從而堵住有缺陷的所述 孔單元，所述密封材料是高分子化合物。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的修補(bǔ)方法，其中，向所述一體型分離 膜結(jié)構(gòu)體的有缺陷的所述孔單元內(nèi)，插入所述密封材料，從而堵住有缺陷的所述孔單元，所 述密封材料是預(yù)成型的高分子化合物。
12. -種一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的缺陷檢測(cè)方法，該一體型分離膜結(jié)構(gòu)體在具有多個(gè)孔 單元的一體型基材的所述孔單元的內(nèi)壁面上成膜有分離膜，所述孔單元沿著長(zhǎng)度方向的一 側(cè)端面至另一側(cè)端面，由多孔質(zhì)隔壁區(qū)劃形成， 從所述孔單元外對(duì)每個(gè)所述孔單元用氣體加壓，測(cè)定所述氣體滲透到所述孔單元內(nèi)的 滲透量，所述滲透量多于所有孔單元的滲透量平均值+A的孔單元判斷為有缺陷的孔單元， 其中A為0~6〇的規(guī)定值，0為標(biāo)準(zhǔn)偏差。
13. -種一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的缺陷檢測(cè)方法，該一體型分離膜結(jié)構(gòu)體在具有多個(gè)孔 單元的一體型基材的所述孔單元的內(nèi)壁面上成膜有分離膜，所述孔單元沿著長(zhǎng)度方向的一 側(cè)端面至另一側(cè)端面，由多孔質(zhì)隔壁區(qū)劃形成， 對(duì)每個(gè)所述孔單元減壓，測(cè)定所述孔單元的真空度，所述真空度的值比所有孔單元的 真空度平均值+A低的孔單元判斷為有缺陷的孔單元，其中，4為0~60的規(guī)定值，0為 標(biāo)準(zhǔn)偏差。
【專利摘要】提供檢測(cè)孔單元上形成有分離膜的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體缺陷的簡(jiǎn)易的缺陷檢測(cè)方法。此外，提供修補(bǔ)具有缺陷孔單元的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體的修補(bǔ)方法、經(jīng)過修補(bǔ)的一體型分離膜結(jié)構(gòu)體。從孔單元(4)外對(duì)每個(gè)孔單元(4)用氣體加壓，測(cè)定氣體滲透孔單元(4)內(nèi)的滲透量，滲透量多于(所有孔單元的滲透量平均值+A)(其中A為σ～6σ的規(guī)定值、σ為標(biāo)準(zhǔn)偏差)的孔單元(4)判斷為有缺陷的孔單元?；蛘撸瑢?duì)每個(gè)孔單元(4)減壓，測(cè)定孔單元(4)的真空度，真空度的值比(所有孔單元的真空度平均值+A)低的孔單元(4)判斷為有缺陷的孔單元。然后，向一體型分離膜結(jié)構(gòu)體(1)的缺陷孔單元(4)內(nèi)注入高分子化合物(27)，令其固化，堵住缺陷孔單元(4)。或者，將預(yù)成型的高分子化合物(27)插入缺陷孔單元(4)，堵住缺陷孔單元(4)。
【IPC分類】B01D69-10, B01D71-02, B01D65-10, B01D69-04, B01D69-12
【公開號(hào)】CN104661732
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201380050062
【發(fā)明人】宮原誠(chéng), 市川真紀(jì)子, 谷島健二, 中村真二, 長(zhǎng)坂龍二郎
【申請(qǐng)人】日本礙子株式會(huì)社
【公開日】2015年5月27日
【申請(qǐng)日】2013年9月19日
【公告號(hào)】EP2902093A1, US20150190755, WO2014050702A1