一種提高密相流化床操作彈性方法及再生器的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于石油化工、流態(tài)化技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種提高密相流化床操作彈性方法及再生器。
【背景技術(shù)】
[0002]流化床再生器氣體分布器設(shè)置在流化床底部，通常采用分布板或分布管。分布管由主管、支管、分支管及噴咀組成，主管是直徑較大立管，下端與空氣進(jìn)口連接上端與2?4根支管連接，每根支管又與數(shù)十根小直徑的分支管連接，分支管朝下安裝若干噴咀。催化裂化裝置生產(chǎn)中燒焦空氣(簡(jiǎn)稱主風(fēng))經(jīng)輔助燃燒室進(jìn)入再生器，主風(fēng)沿主管向上流動(dòng)進(jìn)入支管，再進(jìn)入數(shù)十根分支管經(jīng)噴咀向下噴出，然后翻轉(zhuǎn)向上流動(dòng)經(jīng)分支管間隙進(jìn)入流化床。分布板是在金屬板上開設(shè)直徑10?50mm圓孔，氣體從下向上通過(guò)圓孔進(jìn)入床層。常規(guī)分布板或分布管不足是操作彈性較小，流化床要求分布器有一定壓降(一般為0.005?0.015MPa)，如果氣體負(fù)荷大幅度增加則分布器壓降也大幅度增加，可能限制氣體流量而達(dá)不到最高負(fù)荷，或氣體系統(tǒng)壓降過(guò)大而增加能耗；如果氣體負(fù)荷大幅度減小，則分布器壓降也大幅度減小流化床不能正常操作。
[0003]在催化裂化裝置出現(xiàn)故障反再系統(tǒng)不能操作時(shí)，密相流化床再生器經(jīng)常以悶床形式等待，待裝置故障排除后再供入主風(fēng)恢復(fù)生產(chǎn)。很多工業(yè)催化裂化裝置在供入主風(fēng)恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)遇到密相流化床流化不正常、跑損催化劑難題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的是提供一種提高密相流化床操作彈性方法，可大幅度提高流化床氣體分布器操作彈性，可防止悶床操作恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)跑損催化劑。
[0005]本發(fā)明解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的方法是:包括密相流化床、氣體進(jìn)入與分布、旋風(fēng)分離器回收催化劑、翼閥排料，其特征是:將氣體分布在密相流化床兩個(gè)層面，下層分布設(shè)置在密相流化床底部，上層分布設(shè)置在翼閥下方O?I米；上層分布是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，可全部或部分獨(dú)立開啟或關(guān)閉。
[0006]一種高操作彈性密相流化床再生器，包括再生器密相流化床、主風(fēng)進(jìn)口、旋風(fēng)分離器、料腿、翼閥及2層氣體分布器,下層氣體分布器設(shè)置在密相流化床底部,上層氣體分布器設(shè)置在翼閥下方O?I米；上層氣體分布器是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，是單支結(jié)構(gòu)或是多支結(jié)構(gòu)。
[0007]進(jìn)一步，上層氣體分布器是樹枝狀或是圓圈形或是弧形分布管，分布管朝下或斜下設(shè)置噴嘴。
[0008]進(jìn)一步，還可以在翼閥下方設(shè)置格柵，與上層氣體分布器聯(lián)合布置。
[0009]本發(fā)明創(chuàng)新點(diǎn)和積極效果:
[0010]本發(fā)明創(chuàng)新點(diǎn)是:將氣體分布在密相流化床兩個(gè)層面，下層分布設(shè)置在密相流化床底部，上層分布設(shè)置在翼閥下方O?I米；上層分布是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，可全部或部分獨(dú)立開啟或關(guān)閉。
[0011]本發(fā)明積極效果是:1、將上層氣體分布設(shè)計(jì)成全覆蓋流化床形式，通過(guò)2層氣體分布配合操作可大幅度提高氣體分布器操作彈性。2、將上層氣體分布設(shè)計(jì)成部分覆蓋流化床形式(僅覆蓋翼閥下方流化床區(qū)域)，改善翼閥工作環(huán)境，解決悶床操作恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)跑損催化劑問(wèn)題。
【附圖說(shuō)明】
[0012]圖1是一種提高密相流化床操作彈性方法及再生器示意圖。
[0013]1-翼閥，2-格柵，3-下分布管主管，4-下分布管進(jìn)口，5-再生器密相流化床，6_上分布管支管，7-上分布管進(jìn)口管,8-上分布管噴嘴,9-下分布管支管，10-下分布管分支管，11-下分布管噴嘴。
[0014]圖2是另一種提高密相流化床操作彈性方法及再生器示意圖。
[0015]1-翼閥，3-下分布管主管，4-下分布管進(jìn)口，5-再生器密相流化床，6-上分布管支管，7-上分布管進(jìn)口管,8-上分布管噴嘴,9-下分布管支管，10-下分布管分支管，11-下分布管噴嘴。
【具體實(shí)施方式】
[0016]見(jiàn)圖1，并列式裝置再生器，上層氣體分布器是全覆蓋流化床形式，用于提高流化床氣體分布器操作彈性。4根下分布管支管9呈十字形布置在再生器密相流化床5底部，其中心與下分布管主管3上端連接，下分布管主管3下端與下分布管進(jìn)口 4連接。數(shù)根下分布管分支管10與下分布管支管9連接，下分布管分支管10斜下方向安裝下分布管噴嘴11。翼閥I置于再生器密相流化床5下部(距下分布管支管91.5?2米)位置，在翼閥I下方O?I米處設(shè)置格柵2及上層氣體分布器，上層氣體分布器設(shè)計(jì)成2?4支結(jié)構(gòu)、全覆蓋流化床形式并與格柵2聯(lián)合布置。上分布管進(jìn)口管7伸入再生器密相流化床5內(nèi)部與數(shù)根上分布管支管6連接，上分布管支管6朝下安裝上分布管噴嘴8。
[0017]見(jiàn)圖2，同軸式裝置再生器，上層氣體分布器僅覆蓋翼閥下方流化床區(qū)域，用于改善翼閥工作環(huán)境解決悶床操作恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)跑損催化劑。2根下分布管支管9呈直線或折線形布置在再生器密相流化床5底部，其中間與下分布管主管3上端連接，下分布管主管3下端與下分布管進(jìn)口 4連接,數(shù)根下分布管分支管10與下分布管支管9連接,下分布管分支管10斜下方向安裝下分布管噴嘴11。翼閥I置于再生器密相流化床5下部(距下分布管支管91.5?2米)位置，在其下方O?I米處設(shè)置上層氣體分布器，上層氣體分布器設(shè)計(jì)成多支結(jié)構(gòu)、僅覆蓋翼閥下方流化床區(qū)域，上分布管進(jìn)口管7伸入再生器密相流化床5內(nèi)部與上分布管支管6連接，上分布管支管6朝下安裝上分布管噴嘴8。
[0018]參見(jiàn)圖1，正常負(fù)荷工況主風(fēng)從下分布管進(jìn)口 4進(jìn)入，經(jīng)下分布管主管3、下分布管支管9、下分布管分支管10及下分布管噴嘴11進(jìn)入再生器密相流化床5底部，然后翻轉(zhuǎn)向上流動(dòng)經(jīng)下分布管支管9間隙進(jìn)入流化床，正常負(fù)荷工況上層氣體分布器關(guān)閉。高負(fù)荷工況啟用上層氣體分布器，另一部分主風(fēng)從上分布管進(jìn)口管7進(jìn)入，經(jīng)上分布管支管6及上分布管噴嘴8進(jìn)入再生器密相流化床5下部，使高負(fù)荷工況分布器壓降與正常負(fù)荷時(shí)相等或相近。有低負(fù)荷要求的裝置可以將正常負(fù)荷工況設(shè)計(jì)成上下兩層分布器同時(shí)投用，在低負(fù)荷時(shí)停用上層氣體分布器，使低負(fù)荷工況分布器壓降與正常負(fù)荷時(shí)相等或相近。
[0019]參見(jiàn)圖2，正常操作主風(fēng)從下分布管進(jìn)口 4進(jìn)入，經(jīng)下分布管主管3、下分布管支管9、下分布管分支管10及下分布管噴嘴11進(jìn)入再生器密相流化床5底部，然后翻轉(zhuǎn)向上流動(dòng)經(jīng)下分布管支管9間隙進(jìn)入流化床，正常操作狀態(tài)上層氣體分布器關(guān)閉。裝置故障反再系統(tǒng)不能操作時(shí)，主風(fēng)停止進(jìn)入再生器，再生器悶床處于等待狀態(tài)。待裝置故障排除后恢復(fù)生產(chǎn)，先啟用上層氣體分布器，將主風(fēng)或增壓風(fēng)供入上分布管進(jìn)口管7，經(jīng)上分布管支管6、上分布管噴嘴8進(jìn)入再生器密相流化床5內(nèi)翼閥I下方區(qū)域，改善工作環(huán)境使翼閥I正常操作。再將主風(fēng)供入下分布管進(jìn)口 4，經(jīng)下分布管主管3、下分布管支管9、下分布管分支管10及若干下分布管噴嘴11進(jìn)入再生器密相流化床5底部，待完全恢復(fù)生產(chǎn)再生器進(jìn)入正常操作狀態(tài)后關(guān)閉上層氣體分布器。由于先啟用上層氣體分布器改善工作環(huán)境，使翼閥I正常操作故防止了催化劑跑損。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種提高密相流化床操作彈性方法，包括密相流化床、氣體進(jìn)入與分布、旋風(fēng)分離器回收催化劑、翼閥排料，其特征是:將氣體分布在密相流化床兩個(gè)層面，下層分布設(shè)置在密相流化床底部，上層分布設(shè)置在翼閥下方O?I米；上層分布是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，可全部或部分獨(dú)立開啟或關(guān)閉。2.一種高操作彈性密相流化床再生器，包括再生器密相流化床、主風(fēng)進(jìn)口、旋風(fēng)分離器、料腿、翼閥及2層氣體分布器,下層氣體分布器設(shè)置在密相流化床底部,上層氣體分布器設(shè)置在翼閥下方O?I米；上層氣體分布器是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，是單支結(jié)構(gòu)或是多支結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高操作彈性密相流化床再生器，其特征是:上層氣體分布器是樹枝狀或是圓圈形或是弧形分布管，分布管朝下或斜下設(shè)置噴嘴。4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高操作彈性密相流化床再生器，其特征是:還可以在翼閥下方設(shè)置格柵，與上層氣體分布器聯(lián)合布置。
【專利摘要】一種提高密相流化床操作彈性方法及再生器，屬于石油化工、流態(tài)化設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，用于解決密相流化床氣體分布器操作彈性小、悶床后恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)跑損催化劑問(wèn)題。包括密相流化床、氣體進(jìn)入與分布、旋風(fēng)分離器回收催化劑、翼閥排料，其特征是：將氣體分布在密相流化床兩個(gè)層面，下層分布設(shè)置在密相流化床底部，上層分布設(shè)置在翼閥下方0～1米；上層分布是全覆蓋流化床形式或是部分覆蓋流化床形式，可全部或部分獨(dú)立開啟或關(guān)閉。還提供了實(shí)現(xiàn)本發(fā)明方法的兩層氣體分布器的再生器?？纱蠓忍岣吡骰矚怏w分布器操作彈性，可防止悶床操作恢復(fù)生產(chǎn)時(shí)跑損催化劑。用于催化裂化裝置(FCCU)、甲醇制烯烴裝置(MTO)等。
【IPC分類】B01J38/30, B01J8/24
【公開號(hào)】CN105214571
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201410313357
【發(fā)明人】劉英聚
【申請(qǐng)人】劉英聚
【公開日】2016年1月6日
【申請(qǐng)日】2014年7月3日