構(gòu)成，能夠由下層催化劑層凈化締控和燒控（特別是 甲燒）、由上層催化劑層凈化NOy。
[0061] 催化劑層，例如，如圖5所示，也可W包含：下層催化劑層，所述下層催化劑層包含 配置于基材2上的上游催化劑層4、和在排氣的流動(dòng)方向上位于該上游催化劑層的下游側(cè) 的下游催化劑層5 ;和上層催化劑層7,所述上層催化劑層7配置于該下層催化劑層上。上 層催化劑層可W整體地配置于下層催化劑層上，也可W部分地配置于下層催化劑層上。
[0062] 在圖5的構(gòu)成中，優(yōu)選：上游催化劑層包含銷和/或鈕，下游催化劑層包含選自饑、 妮和粗中的至少1種（特別是饑），上層催化劑層包含錠。特別優(yōu)選上游催化劑層中作為催 化劑金屬僅包含銷和/或鈕。特別優(yōu)選下游催化劑層中作為催化劑金屬僅包含選自饑、妮 和粗中的至少1種（特別是饑）。特別優(yōu)選上層催化劑層中作為催化劑金屬僅包含錠。特 別優(yōu)選僅在下游催化劑層中包含選自饑、妮和粗中的至少1種（特別是饑）。通過(guò)設(shè)為運(yùn)樣 的構(gòu)成，能夠由上游催化劑層凈化締控，由下游催化劑層凈化排氣中原本含有的燒控、特別 是甲燒、W及二次產(chǎn)生的甲燒，由上層催化劑層凈化NOy。
[0063] 在催化劑層包含上游催化劑層和下游催化劑層的情況下，基材軸向的長(zhǎng)度中的上 游催化劑層的長(zhǎng)度與下游催化劑層的長(zhǎng)度的比率不作特別限定，但優(yōu)選為9 :1~4 :6,更優(yōu) 選為8 :2~5 :5,特別優(yōu)選為7 :3~6 :4。通過(guò)設(shè)為運(yùn)樣的范圍，能夠均衡性良好地凈化燒 控（特別是甲燒）和N〇x。
[0064] 下游催化劑層中的饑、妮和粗的合計(jì)量與載體的重量比不作特別限定，優(yōu)選為 (0.01~0.1) :1，更優(yōu)選為化03~0.08) :1。通過(guò)設(shè)為運(yùn)樣的范圍，能夠均衡性良好地凈 化燒控（特別是甲燒）和N〇x。
[00化]下游催化劑層中的OSC材料與載體的重量比不作特別限定，但優(yōu)選為化05~ 0.3) :1，更優(yōu)選為（0.1~0.2) :1。通過(guò)設(shè)為運(yùn)樣的范圍，能夠均衡性良好地凈化燒控（特 別是甲燒）和N〇x。
[0066] 在下游催化劑層中的OSC材料包含姉的情況下，姉、與饑、妮和粗的合計(jì)的摩爾比 不作特別限定，但優(yōu)選為1: (0. 05~3. 5)，更優(yōu)選為1: (0. 05~0. 5)。通過(guò)設(shè)為運(yùn)樣的范 圍，能夠均衡性良好地凈化燒控（特別是甲燒）和N〇x。
[0067] 作為本發(fā)明的優(yōu)選的實(shí)施方式，可舉出下述排氣凈化用催化劑，所述排氣凈化用 催化劑包含基材、配置于該基材上的下層催化劑層、和配置于該下層催化劑層上的上層催 化劑層，
[0068] 該下層催化劑層包含上游催化劑層和下游催化劑層，該上游催化劑層在排氣的流 動(dòng)方向上位于該下游催化劑層的上游側(cè)，
[0069] 該上游催化劑層包含第1載體、擔(dān)載于該第1載體上的銷和/或鈕、和第一OSC材 料，
[0070] 該下游催化劑層包含第2載體、擔(dān)載于該第2載體上的選自饑、妮和粗中的至少1 種（特別是饑）、和第二OSC材料，
[0071] 該上層催化劑層包含第3載體、擔(dān)載于該第3載體上的錠、和第=OSC材料。
[0072] 在本實(shí)施方式中，優(yōu)選：上游催化劑層中作為催化劑金屬僅包含銷和/或鈕，下游 催化劑層中作為催化劑金屬僅包含選自饑、妮和粗中的至少1種（特別是饑），上層催化劑 層中作為催化劑金屬僅包含錠。在本實(shí)施方式中，第1~第3載體可W分別為相同的種類 的載體，也可W為不同的種類的載體。另外，第一~第=OSC材料可W分別為相同的種類的OSC材料，也可W為不同的種類的OSC材料。 陽(yáng)〇7引實(shí)施例
[0074] W下，利用實(shí)施例和比較例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明的技術(shù)范圍并不被實(shí) 施例限定。 陽(yáng)〇7引 < 排氣凈化用催化劑的制造〉
[0076][實(shí)施例U
[0077] (1)將硝酸銷溶液、姉-錯(cuò)復(fù)合氧化物陽(yáng)SC材料](Ce2〇比率：30%)、氧化侶、W 及氧化侶粘合劑混合，得到上游催化劑層用漿液[1-1]。
[0078] (2)向草酸氧饑（IV) (n水合物）的溶液中添加氧化侶，進(jìn)行混合。通過(guò)將混合物 進(jìn)行干燥、熱處理，得到載饑材料（V2〇e/氧化侶）。將載饑材料、姉-錯(cuò)復(fù)合氧化物陽(yáng)SC材 料](Ce2〇比率：30% )、W及氧化侶粘合劑混合，得到下游催化劑層用漿液[1-2]。 陽(yáng)0巧](3)將硝酸錠溶液，姉-錯(cuò)復(fù)合氧化物陽(yáng)SC材料](Ce2〇比率：30% )、氧化侶、W及氧化侶粘合劑混合，得到上層催化劑層用漿液[1-3]。
[0080] (4)從基材的排氣導(dǎo)入側(cè)的末端，到基材的軸向的長(zhǎng)度的70%，涂布上游催化劑 層用漿液[1-1]，進(jìn)行熱處理，形成了上游催化劑層。接著，從基材的排氣排出側(cè)的末端，到 基材的軸向的長(zhǎng)度的30%，涂布下游催化劑層用漿液[1-2]，進(jìn)行熱處理，形成了下游催化 劑層。接著，在上游催化劑層上和下游催化劑層上涂布上層催化劑層用漿液[1-3]，進(jìn)行熱 處理，形成了上層催化劑層。由此，得到了排氣凈化用催化劑。
[0081] 上游催化劑層的組成是，每IL基材，銷為0. 6g，OSC材料為50g，氧化侶為30邑。
[0082] 下游催化劑層的組成是，每IL基材，V205為2. 5g，OSC材料為lOg，氧化侶為50邑。
[0083] 上層催化劑層的組成是，每IL基材，錠為0.3g，OSC材料為30g，氧化侶為30邑。
[0084][實(shí)施例2-1~2-4和比較例1]
[0085] 除了將實(shí)施例1中的Vz化的量進(jìn)行各種變更W外，與實(shí)施例1同樣地得到了排氣 凈化用催化劑。
[0086][實(shí)施例 3-1 ~3-6]
[0087] 除了將實(shí)施例1中的下游催化劑層中的OSC材料的量進(jìn)行各種變更W外，與實(shí)施 例1同樣地得到了排氣凈化用催化劑。
[0088][實(shí)施例4-1~4-4和比較例2]
[0089] 除了將實(shí)施例1中的上游催化劑層和下游催化劑層的長(zhǎng)度的比率進(jìn)行各種變更 W外，與實(shí)施例1同樣地得到了排氣凈化用催化劑。
[0090] <凈化性能試驗(yàn)>
[0091] 將在各實(shí)施例W及比較例中制造出的排氣凈化用催化劑采用排氣量為4.化的發(fā) 動(dòng)機(jī)在催化劑床溫95(TC下進(jìn)行了 50小時(shí)的耐久試驗(yàn)。其后，將該催化劑搭載于具有排氣 量為2.化的發(fā)動(dòng)機(jī)的實(shí)際車輛上，WLA#4模式（mode)進(jìn)行行駛，測(cè)定了T肥（總控）、邸4 和NO,的排出量。將結(jié)果示于表1和圖6~8。 柳9引表1[0093]
[0094] Xl:下游催化劑層、※2 :氧化侶、※3 :上游催化劑層和下游催化劑層的長(zhǎng)度之比
[0095] 再者，在下游催化劑層W外的催化劑層中存在饑、妮或粗的情況下，與上述實(shí)施例 比較，存在凈化性能劣化的傾向。
[0096] 附圖標(biāo)記說(shuō)明
[0097] 1…排氣凈化用催化劑；2…基材；3…催化劑層；4…上游催化劑層；5…下游催化 劑層；6…下層催化劑層；7…上層催化劑層。
[0098] 將在本說(shuō)明書中引用的全部刊物原樣地作為參考納入到本說(shuō)明書中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種排氣凈化用催化劑，包含基材和配置于該基材上的催化劑層， 該催化劑層包含： 選自釩、鈮和鉭中的至少1種；和 鉑和/或鈀。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣凈化用催化劑， 所述催化劑層包含下層催化劑層，該下層催化劑層包含上游催化劑層和下游催化劑 層， 該上游催化劑層在排氣的流動(dòng)方向上位于該下游催化劑層的上游側(cè)， 該上游催化劑層包含所述鉑和/或鈀， 該下游催化劑層包含選自所述釩、鈮和鉭中的至少1種。3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的排氣凈化用催化劑， 所述催化劑層還包含配置于所述下層催化劑層上的上層催化劑層， 該上層催化劑層包含銠。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的排氣凈化用催化劑， 所述催化劑層還包含銠。5. 根據(jù)權(quán)利要求4所述的排氣凈化用催化劑， 所述催化劑層包含配置于所述基材上的下層催化劑層、和配置于該下層催化劑層上的 上層催化劑層， 該下層催化劑層包含： 選自所述銀、銀和鉭中的至少1種；和 所述鉑和/或鈀， 該上層催化劑層包含所述銠。
【專利摘要】本發(fā)明的課題是提供甲烷凈化性能優(yōu)異的排氣凈化用催化劑。所述課題能夠通過(guò)一種排氣凈化用催化劑來(lái)解決，所述排氣凈化用催化劑包含基材和配置于該基材上的催化劑層，該催化劑層包含：選自釩、鈮和鉭中的至少1種；鉑和/或鈀。
【IPC分類】F01N3/28, F01N3/10, B01J23/648, B01D53/94
【公開(kāi)號(hào)】CN105377421
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480039202
【發(fā)明人】岡田滿克
【申請(qǐng)人】株式會(huì)社科特拉
【公開(kāi)日】2016年3月2日
【申請(qǐng)日】2014年7月10日
【公告號(hào)】EP3020474A1, US20160151764, WO2015005423A1