薄膜形成方法以及薄膜形成裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種在基板上形成薄膜圖案的薄膜形成方法以及薄膜形成裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]已知有如下技術(shù)，S卩，從噴嘴頭朝向基板的表面吐出經(jīng)液滴化的光固化性的液態(tài)的薄膜材料，并對涂布于基板的薄膜材料進行固化，由此形成薄膜圖案(例如，專利文獻1、專利文獻2)。
[0003]在這種薄膜形成技術(shù)中，例如，作為基板使用印刷基板，作為薄膜材料使用阻焊劑。印刷基板包括基材以及配線，并且在規(guī)定位置釬焊電子元件等。阻焊劑使要釬焊電子元件等的導(dǎo)體部分暴露，覆蓋無需釬焊的部分。與在整個表面涂布阻焊劑之后利用光蝕刻技術(shù)形成開口的方法相比，可實現(xiàn)制造成本的降低。
[0004]以往技術(shù)文獻
[0005]專利文獻
[0006]專利文獻I:日本特開2004-104104號公報
[0007]專利文獻2:日本特開2012-86194號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]發(fā)明要解決的技術(shù)課題
[0009]作為薄膜材料使用光固化性(例如，紫外線固化性)的樹脂。若經(jīng)液滴化的薄膜材料著落于基板，則薄膜材料會向面內(nèi)方向擴散。若薄膜材料向面內(nèi)方向擴散，則會導(dǎo)致應(yīng)形成的薄膜圖案的分辨率降低。為了抑制薄膜圖案的分辨率降低，優(yōu)選在使液滴著落之后迅速對薄膜材料照射光以使其固化。然而，在涂滿薄膜的區(qū)域，若在液滴著落之后迅速使薄膜材料固化，則會導(dǎo)致反映各個液滴的形狀的凹凸殘留在薄膜的表面。
[0010]本發(fā)明的目的在于提供一種在薄膜表面不易產(chǎn)生凹凸的薄膜形成方法以及薄膜形成裝置。
[0011 ]用于解決技術(shù)課題的手段
[0012]根據(jù)本發(fā)明的一個觀點，提供一種薄膜形成方法，其具有:
[0013]沿基板表面的應(yīng)形成薄膜圖案的預(yù)定區(qū)域的邊緣形成脊?fàn)畹淖钃踅Y(jié)構(gòu)的工序；
[0014]形成所述阻擋結(jié)構(gòu)之后，使光固化性的液態(tài)的薄膜材料液滴化并著落于所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)，然后對著落于所述預(yù)定區(qū)域的薄膜材料照射臨時固化用光以使其臨時固化，從而形成膜要件的工序；
[0015]在所述膜要件之上涂布光固化性的液態(tài)的薄膜材料而形成液態(tài)膜的工序;及
[0016]對所述液態(tài)膜以及所述膜要件照射光強度比所述臨時固化用光的光強度更強的正式固化用光，以使所述液態(tài)膜固化，并且提高所述膜要件的固化度的工序。
[0017]根據(jù)本發(fā)明的另一觀點，提供一種薄膜形成裝置，其具有:
[0018]保持基板的載物臺；
[0019]多個噴嘴頭，具備多個噴嘴孔，該多個噴嘴孔與保持在所述載物臺上的基板對置，并且朝向所述基板吐出經(jīng)液滴化的光固化性的液態(tài)的薄膜材料；
[0020]多個臨時固化用光源，對從所述噴嘴頭吐出而涂布于所述基板上的所述薄膜材料照射臨時固化用光；
[0021]移動機構(gòu)，使包括所述噴嘴頭以及所述臨時固化用光源的噴嘴單元和所述基板中的一方相對于另一方向與所述基板表面平行的第I方向移動；
[0022]正式固化用光源，對所述基板照射正式固化用光;及
[0023]控制裝置，控制所述噴嘴頭、所述臨時固化用光源以及所述移動機構(gòu)，
[0024]所述控制裝置通過控制所述噴嘴頭、所述臨時固化用光源、所述正式固化用光源以及所述移動機構(gòu)，進行如下操作:
[0025]在使所述臨時固化用光源點亮的狀態(tài)下，使從所述噴嘴頭吐出的薄膜材料沿基板表面的應(yīng)形成薄膜圖案的預(yù)定區(qū)域的邊緣著落，并使著落的薄膜材料臨時固化，從而形成阻擋結(jié)構(gòu)，
[0026]形成所述阻擋結(jié)構(gòu)之后，使從所述噴嘴頭吐出的薄膜材料著落于所述預(yù)定區(qū)域內(nèi)，并對著落于所述預(yù)定區(qū)域的薄膜材料照射臨時固化用光以使其臨時固化，從而形成膜要件，
[0027]將從所述噴嘴頭吐出的光固化性的液態(tài)的薄膜材料涂布于所述膜要件之上，從而形成液態(tài)膜，
[0028]對所述液態(tài)膜以及所述膜要件照射來自所述正式固化用光源的正式固化用光，以使所述液態(tài)膜固化，并且提高所述膜要件的固化度。
[0029]發(fā)明效果
[0030]在膜要件之上形成液態(tài)膜之后，不進行臨時固化，而在進行正式固化之前的期間，液態(tài)膜表面的凹凸會減少。由此，能夠減少薄膜表面的凹凸。
【附圖說明】
[0031]圖1A是實施例1的薄膜形成方法的薄膜形成中途階段中的基板的俯視圖，圖1B是圖1A的單點劃線1B-1B處的剖視圖。
[0032]圖2A是實施例1的薄膜形成方法的薄膜形成中途階段中的基板的俯視圖，圖2B是圖2A的單點劃線2B-2B處的剖視圖。
[0033]圖3A是實施例1的薄膜形成方法的薄膜形成中途階段中的基板的俯視圖，圖3B是圖3A的單點劃線3B-3B處的剖視圖。
[0034]圖4A是實施例1的薄膜形成方法的薄膜形成中途階段中的基板的俯視圖，圖4B是圖4A的單點劃線4B-4B處的剖視圖。
[0035]圖5A是實施例1的薄膜形成方法的薄膜形成中途階段中的基板的俯視圖，圖5B是圖5A的單點劃線5B-5B處的剖視圖。
[0036]圖6A是表示利用實施例1的薄膜形成方法來形成薄膜時的薄膜的曝光量在厚度方向上的分布的曲線圖，圖6B是表示利用比較例的方法來形成薄膜時的薄膜的曝光量在厚度方向上的分布的曲線圖。
[0037]圖7是表示利用實施例1的薄膜形成方法來形成薄膜的薄膜形成裝置的概略俯視圖及框圖。
[0038]圖8A及圖SB是用于說明利用圖7所示薄膜形成裝置來形成薄膜的方法的裝置的主要部分的剖視圖。
[0039]圖SC及圖8D是用于說明利用圖7所示薄膜形成裝置來形成薄膜的方法的裝置的主要部分的剖視圖。
[0040]圖SE及圖8F是用于說明利用圖7所示薄膜形成裝置來形成薄膜的方法的裝置的主要部分的剖視圖。
[0041]圖SG及圖8H是用于說明利用圖7所示薄膜形成裝置來形成薄膜的方法的裝置的主要部分的剖視圖。
[0042]圖81及圖8J是用于說明利用圖7所示薄膜形成裝置來形成薄膜的方法的裝置的主要部分的剖視圖。
[0043]圖9是表示實施例2的薄膜形成裝置的概略主視圖。
[0044]圖10是表示實施例2的薄膜形成裝置的涂布站的概略俯視圖。
[0045]圖11是表示形成有薄膜的基板的俯視圖。
【具體實施方式】
[0046][實施例1]
[0047]以下，參考圖1A、圖1B?圖5A、圖5B，對實施例1的薄膜形成方法進行說明。圖1A、圖2A、圖3A、圖4A及圖5A表示作為應(yīng)形成薄膜的對象的基板1的局部的俯視圖。圖1B、圖2B、圖3B、圖4B及圖5B分別表示圖1A、圖2A、圖3A、圖4A及圖5A的單點劃線I B-1B、2B-2B、3B-3B、4B-4B及5B-5B處的剖視圖。
[0048]如圖1A及圖1B所示，在基板10的表面劃定有應(yīng)形成薄膜圖案的預(yù)定區(qū)域11。在一部分預(yù)定區(qū)域11內(nèi)存在不形成薄膜圖案的開口 13。將預(yù)定區(qū)域11的外周線以及開口 13的外周線稱作預(yù)定區(qū)域的邊緣12。
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