一種鍋爐脫硝裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本發(fā)明涉及鍋爐脫硝技術(shù)領(lǐng)域,具體的說是一種鍋爐脫硝裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在鍋爐燃燒生產(chǎn)中,燃燒后悔排放大量的氮氧化物,隨著氮氧化物帶來的大氣污染越來越嚴(yán)重,因此必須施行強(qiáng)制脫硝避免大氣進(jìn)一步污染,才能符合可持續(xù)發(fā)展策略,鍋爐的脫硝工藝已經(jīng)成為過程工業(yè)的重要組成部分,SNCR脫硝具有多種優(yōu)點,其脫硝原理是以氨水、尿素[C0(NH2)2]等作為還原劑,噴射到鍋爐內(nèi),在一定的溫度范圍內(nèi),氨水或尿素等氨基還原劑可以在無催化劑的作用下選擇性地把煙氣中的NOx還原為N2和H20,是一種非催化還原的脫硝方式。
[0003]生產(chǎn)陶瓷制品的鍋爐在進(jìn)行脫硝處理時,會分別在窖爐中傳送帶的上下兩部分進(jìn)行噴射氨水,但是噴射的氨水水滴容易直接與陶瓷接觸,接觸到氨水的陶瓷會發(fā)生反應(yīng),導(dǎo)致顏色改變、產(chǎn)品質(zhì)量下降等其他問題,氨水噴射到鍋爐內(nèi),其蒸發(fā)成氨氣時還會帶走鍋爐內(nèi)的熱量,降低了鍋爐內(nèi)的溫度,使得鍋爐內(nèi)的陶瓷制品達(dá)不到其所需要的溫度,影響了陶瓷品質(zhì),氨水的噴入系統(tǒng)噴頭較短,無法伸入到爐腔內(nèi)進(jìn)行噴射,因此只能在鍋爐的四周氨水的濃度高,而爐腔中間氨水濃度低,噴射不均勻,不能完全保證中間部分脫硝效果,而且鍋爐中燃燒后產(chǎn)生的余熱不能合理的利用起來,造成了資源的浪費(fèi)。
[0004]因此,為克服上述技術(shù)的不足而設(shè)計出一款可均勻噴射、合理利用鍋爐余熱資源、避免氨水與產(chǎn)品直接接觸、提高產(chǎn)品品質(zhì)的一種鍋爐脫硝裝置,正是發(fā)明人所要解決的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本發(fā)明的目的是提供一種鍋爐脫硝裝置,其結(jié)構(gòu)簡單,能高效脫硝,可均勻噴射,減少了氨氣逃逸,避免氨水直接與產(chǎn)品接觸,提高產(chǎn)品品質(zhì)的同時并能夠合理的利用鍋爐余熱資源,降低生產(chǎn)成本。
[0006]本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是:一種鍋爐脫硝裝置,其包括鍋爐以及與鍋爐連接的氨水蒸發(fā)系統(tǒng)、噴射系統(tǒng),所述噴射系統(tǒng)包括噴管,所述噴管設(shè)置在鍋爐的爐壁內(nèi),所述噴管位于傳送帶下部,所述噴管上靠近鍋爐外的一端設(shè)置有盲板,所述氨水蒸發(fā)系統(tǒng)包括帶夾層的氣化罐,所述氣化罐通過輸送管道與鍋爐連接,所述鍋爐中間設(shè)置有與外界連接的傳送帶,所述鍋爐上部設(shè)置有多組氣化噴管,所述氣化噴管末端穿過鍋爐設(shè)置在爐腔內(nèi)上方,所述氣化噴管與輸送管道連接,所述鍋爐一側(cè)通過余熱回收裝置連接至夾層內(nèi)。
[0007]進(jìn)一步,所述氣化噴管與鍋爐壁外接觸處設(shè)置有擋板,所述氣化噴管末端設(shè)置有封板。
[0008]本發(fā)明的有益效果是:
1、本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,利用蒸發(fā)后的氨水通過多組管道進(jìn)入到爐腔內(nèi),可使氨氣較均勻的分布在爐腔內(nèi),減少了氨氣逃逸,增大脫硝反應(yīng)的接觸面積,提高了脫硝效果。
[0009]2、本發(fā)明通過將蒸發(fā)后的氨氣通入爐腔內(nèi)上方區(qū)域,避免了過多的氨水直接與陶瓷制品接觸,提高了陶瓷產(chǎn)品質(zhì)量。
[0010]3、本發(fā)明通過將氨水蒸發(fā)系統(tǒng)中設(shè)置為帶夾層的裝置,可以充分利用鍋爐燃燒后產(chǎn)生的余熱,節(jié)約能源,降低了生產(chǎn)成本。
【附圖說明】
[0011]圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖。
[0012]圖2是本發(fā)明裝置連接示意圖。
[0013]圖3是本發(fā)明局部裝置正視圖。
[0014]附圖標(biāo)記說明:1-鍋爐;2-氨水蒸發(fā)系統(tǒng);3-噴射系統(tǒng);4-傳送帶;5-噴管;6_盲板;7-輸送管道;8-氣化噴管;9-法蘭;I O-擋板;11 -封板;12-夾層;13-余熱回收裝置。
【具體實施方式】
[0015]下面結(jié)合具體實施例,進(jìn)一步闡述本發(fā)明,應(yīng)理解,這些實施例僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。此外應(yīng)理解,在閱讀了本發(fā)明講授的內(nèi)容之后,本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對本發(fā)明作各種改動或修改,這些等價形式同樣落在申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。
[0016]參見圖1是本發(fā)明結(jié)構(gòu)剖視圖,參見圖2是本發(fā)明裝置連接示意圖,參見圖3是本發(fā)明局部裝置正視圖,該結(jié)構(gòu)一種鍋爐脫硝裝置,其包括鍋爐I以及與鍋爐連接的氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2、噴射系統(tǒng)3,噴射系統(tǒng)3包括噴管5,噴管5設(shè)置在鍋爐I的爐壁內(nèi),噴管5位于傳送帶4下部,噴管5上靠近鍋爐I壁外的一端設(shè)置有盲板6,氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2包括帶夾層12的氣化罐,氣化罐通過輸送管道7與鍋爐I連接,鍋爐I中間設(shè)置有與外界連接的傳送帶4,鍋爐I上部設(shè)置有多組氣化噴管8,氣化噴管8與鍋爐I壁外接觸處設(shè)置有擋板10,氣化噴管8末端設(shè)置有封板U,氣化噴管8末端穿過鍋爐I設(shè)置在爐腔內(nèi)上方,鍋爐I體外氣化噴管8用法蘭9相互連接,氣化噴管8與輸送管道7連接,鍋爐I 一側(cè)通過余熱回收裝置13連接至夾層2內(nèi)。
[0017]本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,通過將傳統(tǒng)的兩個噴射系統(tǒng)改為傳送帶上方設(shè)置氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2,而傳送帶4下方的噴射系統(tǒng)3不變,氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2將氨水蒸發(fā)成氨氣,氨氣通過輸送管道7,再經(jīng)過氣化噴管8通入到鍋爐I的爐腔內(nèi),避免了氨水直接噴射到爐腔內(nèi)接觸到陶瓷制品而使得陶瓷作廢的問題,由于氨氣不會和陶瓷制品起反應(yīng),因此提高了陶瓷制品的質(zhì)量,且多組氣化噴管8的設(shè)置,不僅使得氨氣散布均勻,而且也增大了氨氣在爐腔內(nèi)各個位置的脫硝反應(yīng)面積,進(jìn)一步提高了脫硝反應(yīng)效率,通過將氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2設(shè)置為帶夾層12的裝置,利用余熱回收裝置13將鍋爐I內(nèi)的余熱收集通入到夾層12內(nèi),氨水蒸發(fā)系統(tǒng)2中的氣化罐由于夾層12內(nèi)的熱量作用將罐內(nèi)的氨水蒸發(fā),再通過輸送管道7通到鍋爐I腔內(nèi),這樣不僅可以充分利用鍋爐I燃燒后產(chǎn)生的余熱,而且節(jié)約能源,降低了生產(chǎn)成本。
【主權(quán)項】
1.一種鍋爐脫硝裝置,其特征在于:其包括鍋爐以及與鍋爐連接的氨水蒸發(fā)系統(tǒng)、噴射系統(tǒng),所述噴射系統(tǒng)包括噴管,所述噴管設(shè)置在鍋爐的爐壁內(nèi),所述噴管位于傳送帶下部,所述噴管上靠近鍋爐外的一端設(shè)置有盲板,所述氨水蒸發(fā)系統(tǒng)包括帶夾層的氣化罐,所述氣化罐通過輸送管道與鍋爐連接,所述鍋爐中間設(shè)置有與外界連接的傳送帶,所述鍋爐上部設(shè)置有多組氣化噴管,所述氣化噴管末端穿過鍋爐設(shè)置在爐腔內(nèi)上方,所述氣化噴管與輸送管道連接,所述鍋爐一側(cè)通過余熱回收裝置連接至夾層內(nèi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種鍋爐脫硝裝置,其特征在于:所述氣化噴管與鍋爐壁外接觸處設(shè)置有擋板,所述氣化噴管末端設(shè)置有封板。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種鍋爐脫硝裝置,噴射系統(tǒng)包括噴管,噴管設(shè)置在鍋爐的爐壁內(nèi),噴管位于傳送帶下部,噴管上靠近鍋爐壁外的一端設(shè)置有盲板,氨水蒸發(fā)系統(tǒng)包括帶夾層的氣化罐,氣化罐通過輸送管道與鍋爐連接,鍋爐中間設(shè)置有與外界連接的傳送帶,鍋爐上部設(shè)置有多組氣化噴管,氣化噴管與鍋爐壁外接觸處設(shè)置有擋板,氣化噴管末端設(shè)置有封板,氣化噴管末端穿過鍋爐設(shè)置在爐腔內(nèi)上方,鍋爐體外氣化噴管用法蘭相互連接,氣化噴管與輸送管道連接,鍋爐一側(cè)通過余熱回收裝置連接至夾層內(nèi),本發(fā)明結(jié)構(gòu)簡單,操作方便,能高效脫硝,可均勻噴射,減少了氨氣逃逸,避免氨水直接與產(chǎn)品接觸,提高產(chǎn)品品質(zhì)的同時并能夠合理的利用鍋爐余熱資源。
【IPC分類】F23J15/04, B01D53/56, B01D53/76
【公開號】CN105561754
【申請?zhí)枴緾N201610089293
【發(fā)明人】張亞玉, 王志強(qiáng), 老西林, 王慶博, 李志華, 劉魯會
【申請人】山東巨亞環(huán)保科技股份有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2016年2月18日