] 圖4為本實(shí)用新型光催化區(qū)側(cè)方結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖；
[0024] 圖5為本實(shí)用新型吸附區(qū)的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖；
[0025]其中，1氣體預(yù)處理裝置，2光電一體化處理裝置殼體，3氣體放空裝置，4-1進(jìn) 氣口，4-2出氣口，5過(guò)濾區(qū)，6光催化I區(qū)，7電暈區(qū)，8光催化Π 區(qū)，9吸附區(qū)，10氣流分 布器，11中壓汞燈，12柵格框架，13固定支架，14電暈棒，15活性炭篩網(wǎng)。
【具體實(shí)施方式】
[0026]下面結(jié)合【附圖說(shuō)明】和【具體實(shí)施方式】對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的描述。
[0027] 實(shí)施例1:如圖1和2所示的一種VOCs的光電一體化處理裝置，所述的光電一體化處 理裝置2安裝在氣體預(yù)處理裝置1和氣體放空裝置3之間，所述的光電一體化處理裝置為密 閉的殼體2，殼體的2兩端分別設(shè)有進(jìn)氣口 4-1和出氣口 4-2，所述的進(jìn)氣口 4-1與出氣口 4-2 之間的殼體2內(nèi)依次設(shè)有過(guò)濾區(qū)5,光催化I區(qū)6,電暈區(qū)7,光催化Π 區(qū)8和吸附區(qū)9,所述的光 催化I區(qū)6和光催化Π 區(qū)6的進(jìn)氣端設(shè)有氣流分布器10;通過(guò)氣流分布器將經(jīng)過(guò)過(guò)濾區(qū)去除 固體顆粒雜質(zhì)的有機(jī)廢氣均勻分布到光催化I區(qū)，由于光催化I區(qū)的體積較大，為了保證光 和催化劑對(duì)氣體的均勻處理，避免因?yàn)榫植繗饬鬟^(guò)大而影響整體裝置的處理效果。
[0028]實(shí)施例2:如圖2所示，過(guò)濾區(qū)5內(nèi)設(shè)有布袋除塵器和靜電除塵裝置。本實(shí)用新型的 裝置內(nèi)部的布袋除塵器和靜電除塵裝置均為現(xiàn)有技術(shù)領(lǐng)域內(nèi)的常規(guī)裝置，布袋除塵器和靜 電除塵裝置均勻分布在殼體內(nèi)的過(guò)濾區(qū)5，V0Cs氣體在過(guò)濾區(qū)5內(nèi)依次通過(guò)布袋除塵器和靜 電除塵器，經(jīng)過(guò)靜電除塵器處理后進(jìn)入光催化I區(qū)6。
[0029] 通過(guò)布袋除塵器和靜電除塵裝置對(duì)VOCs中粉塵顆粒進(jìn)行處理，進(jìn)而對(duì)后續(xù)光電處 理模塊起到有效保護(hù)，避免粉塵顆粒影響催化劑的活性，同時(shí)裝置本身安裝和拆卸方便，能 夠方便進(jìn)行集塵、清灰和更換。
[0030] 實(shí)施例3:如圖2和4所示，光催化I區(qū)6和光催化Π 區(qū)8均由中壓汞燈11和柵格框架 12所組成，所述柵格框架12設(shè)置在中壓汞燈11的兩側(cè)，所述的柵格框架12上設(shè)有金屬氧化 催化劑;光催化I區(qū)6的金屬氧化催化劑為Ti〇2、ZnO、Al2臭氧、Sn〇2、Zr〇2中的一種或兩種以 上的組合。
[0031] 本實(shí)用新型所述的光催化Π 區(qū)8的金屬氧化催化劑為帶有Mn〇2成分的Ti〇2、ZnO、 A12臭氧、Sn02、Zr02中的一種或兩種以上的組合。光催化Π 區(qū)8的金屬氧化催化劑的表面摻 雜有貴金屬或過(guò)渡金屬元素，所述的貴金屬元素為41!)8^1^、？(1中的一種或幾種，所述 的過(guò)渡稀有金屬元素為Sc、Co、Ru、Re、La中的一種或幾種。
[0032] 實(shí)施例4:如圖2和3所示，電暈區(qū)7內(nèi)設(shè)有固定支架13,所述的固定支架13上均勻分 布有多根電暈棒14。本實(shí)用新型所述的電暈棒14通過(guò)高頻脈沖電源供電，所述電暈棒14的 放電極負(fù)載有高效協(xié)同光催化的特殊催化劑，所述的特殊催化劑為Ag/T 102或V2〇5/T i02。
[0033] 實(shí)施例5:如圖2和5所示，本實(shí)用新型所述的吸附區(qū)9內(nèi)設(shè)有一組活性炭篩網(wǎng)15,所 述的活性炭篩網(wǎng)15的表面涂覆有敏化劑，所述的敏化劑為三苯胺類或卟啉類敏化劑。
[0034] 實(shí)施例6:如圖2所示，本實(shí)用新型所述的過(guò)濾區(qū)5,光催化I區(qū)6,電暈區(qū)7,光催化Π 區(qū)8和吸附區(qū)9內(nèi)的電源線路由多組線路分別控制，本實(shí)用新型裝置的各區(qū)域?yàn)楠?dú)立控制， 當(dāng)裝置對(duì)一些易燃、爆等特殊成分的VOCs廢氣進(jìn)行處理時(shí)，可以關(guān)閉電暈區(qū)7的電源，防止 出現(xiàn)電弧放電或是燃爆，保證裝置的安全工作。
[0035]實(shí)施例7:下面是采用本裝置對(duì)含有丙酮，丁酮，甲苯，苯，甲酸甲酯，乙酸乙酯，異 丙醇和二氯甲烷的VOCs進(jìn)行處理的操作實(shí)例，操作過(guò)程中，分別采用電暈區(qū)打開(kāi)和關(guān)閉的 操作方式進(jìn)行操作，其詳細(xì)的結(jié)果如下表所示：
[0036]
[0037] 通過(guò)上表可以得出；本實(shí)用新型的裝置對(duì)有機(jī)廢氣VOCs的綜合處理效率高，處理 效果好，處理后的有機(jī)廢氣中污染物的含量大大降低，同時(shí)當(dāng)有機(jī)廢氣中含有丁酮，乙酸乙 酯，異丙酮等可燃型氣體，采用關(guān)閉電暈區(qū)的方式對(duì)有機(jī)廢氣進(jìn)行處理，僅僅通過(guò)過(guò)濾區(qū)， 光催化區(qū)和吸附區(qū)進(jìn)行處理，同樣具有較好的綜合處理效果。
[0038]需要說(shuō)明的是，上述僅僅是本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例，并非用來(lái)限定本實(shí)用新型 的保護(hù)范圍，在上述實(shí)施例的基礎(chǔ)上所做出的等同變換均屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種VOCs的光電一體化處理裝置，所述的光電一體化處理裝置安裝在氣體預(yù)處理裝 置和氣體放空裝置之間，其特征在于，所述的光電一體化處理裝置為密閉的殼體，殼體的兩 端分別設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口，所述的進(jìn)氣口與出氣口之間的殼體內(nèi)依次設(shè)有過(guò)濾區(qū)，光催 化I區(qū)，電暈區(qū)，光催化Π 區(qū)和吸附區(qū)，所述的光催化I區(qū)和光催化Π 區(qū)的進(jìn)氣端設(shè)有氣流分 布器。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的VOCs的光電一體化處理裝置，其特征在于，所述的過(guò)濾區(qū)內(nèi)設(shè) 有布袋除塵器和靜電除塵裝置。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的VOCs的光電一體化處理裝置，其特征在于，所述的光催化I區(qū) 和光催化Π 區(qū)均由中壓汞燈和柵格框架所組成，所述柵格框架設(shè)置在中壓汞燈的兩側(cè)，所 述的柵格框架上設(shè)有金屬氧化催化劑。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的VOCs的光電一體化處理裝置，其特征在于，所述的電暈區(qū)內(nèi)設(shè) 有固定支架，所述的固定支架上均勻分布有多根電暈棒。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的VOCs的光電一體化處理裝置，其特征在于，所述的吸附區(qū)內(nèi)設(shè) 有一組活性炭篩網(wǎng)，所述的活性炭篩網(wǎng)的表面涂覆有三苯胺類或卟啉類敏化劑。6. 根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4或5所述的VOCs的光電一體化處理裝置，其特征在于，所述 的過(guò)濾區(qū)，光催化I區(qū)，電暈區(qū)，光催化Π 區(qū)和吸附區(qū)內(nèi)的電源線路由多組線路分別控制。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開(kāi)了一種VOCs的光電一體化處理裝置，本裝置安裝在氣體預(yù)處理裝置和氣體放空裝置之間，所述的光電一體化處理裝置為密閉的殼體，殼體的兩端分別設(shè)有進(jìn)氣口和出氣口，進(jìn)氣口與出氣口之間的殼體內(nèi)依次設(shè)有過(guò)濾區(qū)，光催化Ⅰ區(qū)，電暈區(qū)，光催化Ⅱ區(qū)和吸附區(qū)，光催化Ⅰ區(qū)和光催化Ⅱ區(qū)的進(jìn)氣端設(shè)有氣流分布器；本實(shí)用新型的裝置結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，通過(guò)多組光電處理裝置對(duì)VOCs有機(jī)廢氣進(jìn)行綜合處理，去除有機(jī)廢氣中的多種污染物，同時(shí)根據(jù)污染物的種類選擇不同的操作模式，操作靈活，實(shí)用范圍廣；裝置對(duì)有機(jī)廢氣的綜合處理效率高，實(shí)用效果好。
【IPC分類】B01D53/44, B01D50/00, B01D53/86, A61L9/015
【公開(kāi)號(hào)】CN205252898
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520947997
【發(fā)明人】岳仁亮, 梁青寶, 齊叢亮, 吳傲立
【申請(qǐng)人】江蘇中科睿賽污染控制工程有限公司
【公開(kāi)日】2016年5月25日
【申請(qǐng)日】2015年11月25日