專利名稱：離心分離器的制作方法
離心分離器
背景技術：
及現(xiàn)有技術
本發(fā)明涉及一種根據(jù)權利要求1前序部分的離心分離器。本發(fā)
明同時涉及一種根據(jù)權利要求18前序部分的產(chǎn)品分離方法。
瑞典專利SE-B-514 774公開了 一種初始定義類型的離心分離 器。從該文獻中看來在離心分離器運行過程中可能難以將界面層 層位(level)維持在所需要的徑向位置。這可能是因為已分離重相，包 括已分離固體顆粒的不可控數(shù)量，在單位時間內被排出的事實。如 果已被排出重相的數(shù)量，比如將超過已供給重相的數(shù)量，則界面層 層位將徑向向外地移位。此問題在瑞典專利SE-B-514774中利用控 制裝備而得到解決，控制裝備包括用于供應及排出控制流體的分離 部件，控制流體具有比輕相更高的濃度。
一種普通分離情況是重相以上述方式通過某種方法而得以控 制，從而使重相的出口內的反壓力維持在預定的層位，并且輕相流 過溢流出口。在這種分離情況中，可能發(fā)生界面層層位移位到非想 要的徑向位置的情況，這是因為氣體壓力在靠近溢流出口的自由液 體表面上占主導地位。這種界面層層位的移位可能導致較差的分離 和/或水密封的破裂。
在常規(guī)分離情況下，包括具有通風孔的刮削盤(paring disc)及碗 狀體外部的大氣壓，這個問題將不會出現(xiàn)。然后實際氣體壓力為大 氣壓，該大氣壓可以視為恒定。當存在傳統(tǒng)配置，該配置具有用于 重相且在溢流出口處的物流(flow)及用于輕相且在溢流出口處的物流 時，這個問題也不會發(fā)生，其中該兩個溢流出口的徑向層位控制著 界面層層位的徑向位置。如果這種配置包括具有用于輕相的通風孔 的刮削盤，則同樣的氣體壓力在靠近溢流出口處的自由液體表面處
占據(jù)主導地位，該溢流出口同時用于重相及輕相，這意味著界面層 層位將不會受到氣體壓力變化的影響。
然而，如果相位中的其中之一相對于反壓力受到控制，且如果 沒有對相對于反壓力受到控制的相位進行相應的反壓力補償?shù)脑挘?氣體壓力的變化將直接地影響界面層層位的徑向位置。當靠近溢流 出口的氣體缺乏用于壓力平衡的自由流動通道的時候，則出現(xiàn)靠近 溢流出口的氣體壓力的變化。當待分離及待供應給離心分離器的產(chǎn) 品具有高蒸汽壓力時，即油-水混合物，該油-水混合物通過天然氣而 得以飽和，并且該油-水混合物具有接近水相沸點的溫度時，氣體壓 力的變化變得特別大。
發(fā)明概要
本發(fā)明的目的是解決上述問題。
本發(fā)明目的是通過初始定義的離心分離器而實現(xiàn)的，其中，該 離心分離器以某種方式設計，從而使分離空間相對于環(huán)境封閉，并
且允許維持該分離空間的中心充氣空間內的氣體壓力，該氣體壓力
偏離該環(huán)境的壓力；其中，該離心分離器包括傳感器，該傳感器設 置成用于在運行過程中感應參數(shù)，該參數(shù)與分離空間的中心充氣空 間內的氣體壓力相關，并且該傳感器連接到控制裝備；并且作為對 感應到的參數(shù)的響應，控制裝備設置成用于控制該第一出口和該第 二出口中至少一個內的反壓力，以便將界面層層位控制到所需要的 徑向位置。
利用這種控制裝備，在大致整個的運行過程中，將界面層層位 維持在所需要的徑向位置是可能的，該所需要的徑向位置對于分離 結果是優(yōu)化的。特別地，即使待分離產(chǎn)品具有比如相對于液體/氣體 數(shù)量的可變質量，及具有接近液體沸點的可變溫度，將界面層層位 維持在所需要的位置是可能的。如果分離空間的中心氣體空間內的 壓力增加的話，那么利用根據(jù)本發(fā)明的裝備，在出口的其中一個內的反壓力可能會以某種方式迅速地增加，從而使得界面層層位的徑 向位置得以維持。
根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，控制裝備設置成用于在物流從離心 轉子流經(jīng)上述出口的過程中，控制第一出口和第二出口中的至少一 個內的反壓力。根據(jù)該實施例，本發(fā)明可以通過控制出口的其中一 個內的反壓力而以一種容易的方式實現(xiàn)，控制出口的其中一個內的 反壓力是通過重相或輕相的物流影響而實現(xiàn)的。
根據(jù)本發(fā)明的另 一個實施例，控制裝備設置成也用于控制第一 出口和第二出口中的至少一個內的反壓力，控制是通過在需要時允 許提供流經(jīng)第一出口和第二出口中的一個而進入離心轉子內的物流 而實現(xiàn)的。根據(jù)該實施例，控制裝備因此適配成用于在需要時允許 出口的其中 一個內的物流向后:l也流動，即向后流動到離心轉子內。
這種實施例在某種情況下尤其有利即固體產(chǎn)品通過徑向噴嘴而得
以排出，并且待分離產(chǎn)品內的重相百分率比較低的情況，其中不能 允許的高數(shù)量的該重相將通過這些噴嘴，以某種方式而離開離心轉 子，從而使得界面層層位非?？斓貜较蛳蛲庖苿樱蛘邚氐紫?。 這種流程可以通過所建議的重相返回供給或者控制流體的供給而得 以防止，控制流體具有與重相濃度大致相同的濃度。
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，控制裝備包括至少一個閥門，用 于控制第一出口和第二出口的其中一個內的反壓力。這種閥門使得 反壓力的控制能夠容易地實現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，該閥門設置于第一出口上。有益 地，控制裝備然后可以設置成允許重相流穿過第一出口進入離心轉 子內或者從離心轉子流出，以便控制反壓力?？刂蒲b備然后可以包
括閥門，該閥門允許物流通過第 一 出口而進入離心轉子內；及閥門， 該閥門允i牛物流通過第 一 出口而從離心轉子流出。
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，該閥門設置在第二出口上。控制 裝備然后可以設置成允許輕相流穿過第二出口 ，尤其從離心轉子流
出，以便控制反壓力，但在本發(fā)明范圍內，將控制裝備設置成允許 輕相流穿過第二出口 ，同時進入離心轉子內以便控制反壓力也是可 能的。控制裝備然后包括閥門，該閥門允許物流通過第二出口而從 離心轉子流出，但也可以包括閥門，該閥門允許物流通過第二出口 而流入離心轉子內。
根據(jù)本發(fā)明的另 一個實施例，控制裝備包括提供控制流體的機 構，并且控制裝備設置成允許將控制流體供應到徑向外部和徑向內 部的其中一個內。控制流體可以通過分離流體而形成，該分離流體 分別供給到徑向內部和徑向外部內，或者可以通過重相或輕相的其 中一個而實現(xiàn)，其分別供給回徑向外部和徑向內部內。
根據(jù)本發(fā)明的另 一 個實施例，控制設備設置成允許通過第一出 口而供應控制流體，即供應重相。
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，徑向內部和第二出口之間設置有 溢流出口。本發(fā)明然后可以通過控制重相的反壓力而有利地實現(xiàn)。
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，徑向外部和第一出口之間設置有
根據(jù)本發(fā)明的另一個實施例，該傳感器包括壓力傳感器，該壓 力傳感器可以感應直接地位于中心充氣空間內的氣體壓力或根據(jù)該 氣體壓力的壓力。
該目的同時通過初始定義的方法而實現(xiàn)，該方法的特征在于以
下步驟
維持分離空間的中心充氣空間內的氣體壓力，該氣體壓力偏離
環(huán)境壓力；感應參數(shù)，該參數(shù)與分離空間的中心充氣空間內的氣體 壓力有關；及作為對所感應參數(shù)的響應，控制第一出口和第二出口 中的至少 一個內的氣體壓力，以便將界面層層位控制到所需要的徑 向位置。
該方法的有利的進一步發(fā)展定義于從屬權利要求20-26內。
附圖簡述
現(xiàn)在通過實施例的形式及結合附圖對本發(fā)明進行更詳細的解 釋，該實施例通過舉例的形式進行描述。


圖1示意性地公開了離心分離器的局部剖視圖。
圖2示意性地公開了根據(jù)本發(fā)明第二個實施例的部分離心分離 器的剖視圖。
圖3示意性地公開了根據(jù)本發(fā)明第三個實施例的部分離心分離 器的剖視圖。
圖4示意性地公開了根據(jù)本發(fā)明第四個實施例的部分離心分離 器的剖視圖。
圖5示意性地公開了根據(jù)本發(fā)明第五個實施例的部分離心分離 器的剖視圖。
本發(fā)明各種實施例詳述
圖1公開了根據(jù)本發(fā)明的離心分離器。所公開的離心分離器設 計成用于分離相對重相和相對輕相內的產(chǎn)品。而且，該分離器可以 設計成用于分離漿體(sludge)或者以較重顆粒形式存在的固相。
該離心分離器包括安裝在主軸2上的離心轉子1。該主軸2在軸 承3內形成軸頸，并且^皮適當?shù)尿寗硬考?所驅動，該驅動部件4 設置于框架5內。轉子1設置在殼體6內，并且可以通過驅動部件4 而繞著轉動軸線x轉動。參考圖2-5，轉子1包括轉子壁7，其圍成 分離空間8。該分離空間8具有徑向外部11， ^皮分離的重相在運行 過程中聚集于該徑向外部11內；及徑向內部12，被分離的輕相在運 行過程中聚集于該徑向內部12內。此外，該分離空間8具有中心充 氣空間13,所聚集起來并分離的輕相貼靠該中心充氣空間13而形成 自由液體表面。該徑向外部11,即用于所分離的重相的部分，通過 在運行過程中形成的界面層層位14而從徑向內部12,即用于所分離 輕相的部分分離。
離心轉子1同時以已知的方式包括一組圓錐分離盤15,其示意
性地公開于圖2-5中。分離盤15設置于上部劃界盤16和下部劃界盤 17之間，該下部劃界盤17包括入口 18，以供產(chǎn)品被分離。
而且，離心分離器包括入口 21、第一出口 22及第二出口 23。 該入口 21包括靜態(tài)入口管路24,該靜態(tài)入口管路24穿過轉子壁7 而延伸到分離空間8內。該入口 21設置成允許在運行過程中將產(chǎn)品 供給到分離空間8。
該第一出口 22穿過轉子壁7而自徑向外部11延伸，并且設置 成允許在運行過程中通過第一出口 22而排出重相。該第一出口 22 包括靜態(tài)第一出口管路25和靜態(tài)刮削盤26，該靜態(tài)刮削盤26連接 到第一出口管路25，并且該靜態(tài)刮削盤26設置于用于重相的第一刮 削(paring)腔室27內。第一刮削腔室27通過一個或者多個重相通道 28而與徑向外部11導通。
第二出口 23穿過轉子壁7而自徑向內部12延伸，并且設置成 允許在運行過程中通過第二出口 23而排出輕相。第二出口 23包括 靜態(tài)第二出口管路30和靜態(tài)刮削盤31，該靜態(tài)刮削盤31連接到笫 二出口管路30，并且該靜態(tài)刮削盤31設置于用于輕相的第二刮削腔 室32內。第二刮削腔室32通過一個溢流出口 38而與徑向內部12 導通，該溢流出口 38設置于第二刮削腔室32與徑向內部12之間。
離心轉子1可以可能地但不是必然地同時包括示意性地公開的 噴嘴34，該噴嘴34用于從分離空間8的徑向外部11連續(xù)地排出漿 體或者固體顆粒。
離心轉子1作為一種備選，可以包括一種裝置，該裝置用于從 分離空間8的徑向外部11以已知方式間歇性地排出漿體或者固體顆粒。
離心轉子1以某種方式而設計，從而使得分離空間8相對于環(huán) 境封閉，并且允許維持分離空間8的中心充氣空間13內的氣體壓力， 該氣體壓力偏離環(huán)境壓力。該分離空間8的封閉可以通過不同的方
式而提供，其展示于圖2-5中的多個實施例中。
在公開于圖2中的第一個實施例中，及在公開于圖4中的第三 個實施例中，殼體6對環(huán)境開放，其中該分離空間8利用第一刮削 腔室27和第一刮削盤26而得以封閉，其形成了液體密封，從而防 止分離空間8的充氣空間13內的氣體壓力向外傳播到環(huán)境中。在第 一個和第三個實施例中，第二刮削盤31可以可能地但不是必然地設 置有通風孔35,該通風孔35允許壓力通過第二刮削腔室32而傳播。 這種通風孔35展示于圖4中。
在公開于圖4中的笫三個實施例中，徑向外部11與第一出口 22 之間，或者更具體地在徑向外部11與第一刮削腔室27之間設置有 溢流出口 39。
在公開于圖3中的第二個實施例中，及在公開于圖5中的第四 個實施例中，分離空間8通過殼體6而得以封閉，該殼體6相對于 環(huán)境將離心轉子1徹底包圍，并且該殼體6形成了壓力容器。在第 二和第四個實施例中，第二刮削盤31及第一刮削盤26可以可能地 但不是必然地同時設置有通風孔35,該通風孔35允許壓力通過兩個 刮削腔室27及32而傳播。
在公開于圖3中的第二個實施例中，徑向內部12與第二出口 23 之間，或者更具體地在徑向內部12與第二刮削腔室32之間設置有 溢流出口 38。
在公開于圖5中的第四個實施例中，徑向外部11與第一出口 22 之間，或者更具體地在徑向外部11與第一刮削腔室27之間設置有 溢流出口 39。
離心分離器同時包括控制裝備，控制裝備設置成允許在運行過 程中，通過控制第一出口 22和第二出口 23中的至少一個內的反壓 力而將界面層層位14控制到所需要的徑向位置?？刂蒲b備包括控制 單元50。傳感器連接在控制單元50上，并且用于在運行過程中感應 與分離空間8的充氣空間內的氣體壓力相關的參數(shù)。在所公開的實
施例中，傳感器為壓力傳感器51,其感應氣體壓力，該氣體壓力大
致與分離空間8的中心充氣空間13內的氣體壓力相等。在第一和第 三個實施例中，壓力傳感器51設置于中心充氣空間13內，而在第 二個和第四個實施例中，壓力傳感器51設置于轉子1的外部，^旦卻 設置在封閉殼體6的內部。
傳感器可以感應另一個與該氣體壓力相關的壓力或者任何其它 與該壓力相關的參數(shù)，而不是直接地感應分離空間8的中心充氣空 間13內的氣體壓力。
控制裝備設置成用于根據(jù)由壓力傳感器51感應到的壓力而控制 第一出口 22及第二出口 23中的至少一個內的反壓力，以便將界面 層層位14控制到所需要的徑向位置。
在公開于圖2中的第一個實施例中，控制裝備設置成用于控制 第一出口 22內的反壓力。多虧徑向內部12與第二出口 23之間的溢 流出口 38,界面層層位14的徑向位置可以通過第一出口 22內的反 壓力而確定。該反壓力可以通過多種方式得到控制。根據(jù)一個變型 實施例，該反壓力可以借助重相流的影響或節(jié)流而得以控制，該重 相流通過第 一 出口 22而得以排出。這種節(jié)流可以通過閥門55而以 容易的方式設置。閥門55適當?shù)剡B接到控制單元50上，作為對由 壓力傳感器51所感應到的氣體壓力的響應，控制單元50控制閥門 55。如果分離空間8的中心氣體空間13內的氣體壓力增加的話，第 一出口 22內的反壓力可以迅速得到增加，以便維持界面層層位14 的所需要的徑向位置。根據(jù)另一個變型實施例，控制裝備也可以設 置成通過在需要時允許提供經(jīng)第一出口 22而進入離心轉子內的物 流，而控制第一出口 22內的反壓力。這種向后進入徑向外部11內 的重相流可以利用控制流體而提供，控制流體經(jīng)過管路57而從任何 合適的源56被供應，該管路57連接到第一出口 25上。源56提供 具有充分壓力的控制流體，并且反壓力可以在這種情況下利用管路57 上的閥門58而得以控制。閥門58也連接到控制單元50上，控制單
元50作為對由壓力傳感器51所感應到的氣體壓力的響應，而控制 閥門58。
比如，如果較大數(shù)量的漿體、固體顆粒和/或重相已經(jīng)通過噴嘴 34而被排出的話，那么界面層層位及在第一刮削腔室27內的自由液 體表面也因此將徑向向外地移位，其中第一刮削盤26的液體覆蓋物 減小，該減小導致第一出口 22內的壓力減小。這可以通過對物流節(jié) 流的方式或通過經(jīng)管路57而供應重相的方式得以抵消，對物流節(jié)流 是利用閥門55實現(xiàn)的?？刂屏黧w可以通過排出重相而形成，該重相 供給回徑向外部11內，或者可以通過流體分離而形成，該流體經(jīng)過 管路57及第一出口管路25而供給到徑向外部11內，并且該流體具 有與重相的濃度相對應的濃度。
公開于圖3中的第二個實施例與第一個實施例在以下方面不同 如上已述，分離空間利用殼體6而被封閉。同時應當注意在第二 個實施例中，刮削盤26及31可以都設有通風孔35,該通風孔35使 得第二個實施例中的壓力傳感器51能夠設置在轉子1的外部并且設 置在殼體6的內部，而不是轉子1的內部。對于剩余的部分，控制 裝備大致與第 一 個實施例中的控制裝備相同。由于在第二個實施例 中，重相上也發(fā)生反壓力控制，在徑向內部12和第二出口 23之間 有利地設置有溢流出口 38。
公開于圖4中的第三個實施例與第一個實施例在以下方面不同 控制裝備設置成用于控制第二出口 23內的反壓力。多虧了徑向外部 11和第一出口 22之間的溢流出口 39，界面層層位14的徑向位置可 以通過第二出口 23內的反壓力而確定。該反壓力可以通過與第一個 實施例中的方式大致相同的方式而得以控制。根據(jù)變型實施例，反 壓力可以通過輕相流的影響或節(jié)流而得以控制，該輕相流通過第二 出口23而排出。這種節(jié)流可利用閥門65,以一種容易的方式而^是供。 閥門65適當?shù)剡B接到控制單元50上，控制單元50作為對壓力傳感 器51所感應到的氣體壓力的響應，而控制閥門65。如果分離空間8
的中心氣體空間13內的氣體壓力增加的話，那么第二出口 23內的 反壓力可以迅速地增加，從而維持界面層層位14所需要的徑向位置。 如上所述，這在本發(fā)明范圍內也是可能的控制裝備設置成同時通 過在需要時允許提供經(jīng)第二出口 23而進入離心轉子1內的物流，而 控制第二出口 23內的反壓力。這種向后進入徑向外部11內的輕相 流可以利用控制流體而得以提供，控制流體從任何合適的源66經(jīng)過 管路67而被供應，該管路67連接到第二出口管路30上。源66供 應具有充分壓力的控制流體，并且反壓力在這種情況下可以利用管 路67上的閥門68而被控制。閥門68也連接到控制單元50上，控 制單元50作為對壓力傳感器51所感應到的氣體壓力的響應，而控 制閥門68。
如果，例如界面層層位14徑向向內地移位，那么徑向內部12 內的自由液體表面徑向向外地移位，其中第二刮削盤38的液體覆蓋 物減小，該減小導致第二出口 23內的壓力減小。這可以通過經(jīng)過閥 門65的物流節(jié)流而得以抵消，但在該實施例中這也是可能的通過 將輕相經(jīng)管路67及第二出口管路30供應到徑向內部12內的方式而 將其抵消。控制流體可以通過被排出的輕相而形成，該輕相供給回
徑向內部12內，或者控制流體可以通過分離流體而形成，該分離流 體經(jīng)過管路67及第二出口 30而供給到徑向內部12內，并且該分離 流體具有與輕相濃度相對應的濃度。
公開于圖5中的第四個實施例與第三個實施例在以下方面不同 如上已述，分離空間8利用殼體6而^^封閉。同時應當注意在第 四個實施例中，刮削盤26及31上可以都設有通風孔35，該通風孔 35使得第四個實施例中的壓力傳感器51能夠設置在轉子1的外部并 且設置在殼體6的內部，而不是轉子1的內部。對于剩余的部分， 控制裝備大致與第三個實施例中的控制裝備相同。由于在第四個實 施例中，輕相上也發(fā)生反壓力控制，在徑向外部11和第一出口 22 之間有利地設置有溢流出口 39。
本發(fā)明并不限制于所公開的實施例，而是在下列權利要求的范
圍內可以變化及修改。根據(jù)另一個實施例，出口 22和23內的反壓 力都可以通過上述方式而得以控制。在這些實施例中不需要有溢流 出口 38、 39。
權利要求
1.一種離心分離器，用于在至少一個相對重相和相對輕相中分離產(chǎn)品，其中所述離心分離器包括離心轉子(1)，其可以繞轉動軸線(x)轉動，并且其包括轉子壁(7)，所述轉子壁(7)包圍分離空間(8)，所述分離空間(8)具有徑向外部(11)，所述被分離的重相在運行過程中聚集于所述徑向外部(11)內，且所述分離空間(8)還具有徑向內部(12)，所述被分離的輕相在運行過程中聚集于所述徑向內部(12)內，其中，所述分離空間(8)具有中心充氣空間(13)，所聚集起來并已分離的輕相貼靠所述中心充氣空間(13)而形成自由液體表面，并且其中所述徑向外部(11)通過在運行過程中形成的界面層層位(14)而從所述徑向內部(12)分離；入口(21)，其穿過所述轉子壁(7)而延伸到所述分離空間(8)內，并且其設置成允許在運行過程中將所述產(chǎn)品供給到所述分離空間(8)；第一出口(22)，其穿過所述轉子壁(7)而自所述徑向外部(11)延伸，并且其設置成允許在運行過程中通過所述第一出口(22)而排出所述重相；第二出口(23)，其穿過所述轉子壁(7)而自所述徑向內部(12)延伸，并且其設置成允許在運行過程中通過所述第二出口(23)而排出所述輕相；及控制裝備，其設置成允許在運行過程中，通過控制所述第一出口(22)和所述第二出口(23)的其中至少一個內的反壓力，而將所述界面層層位(14)控制到所需要的徑向位置，其特征在于，所述離心分離器設計為使得所述分離空間(8)相對于環(huán)境而封閉，并且允許維持所述分離空間(8)的中心充氣空間(13)內的氣體壓力，所述氣體壓力偏離所述環(huán)境的壓力，所述離心分離器包括傳感器(51)，所述傳感器(51)用于在運行過程中感應參數(shù)，所述參數(shù)與所述分離空間(8)的中心充氣空間(13)內的所述氣體壓力相關，并且所述傳感器(51)連接到所述控制裝備，及所述控制裝備設置成用于控制所述第一出口(22)和所述第二出口(23)的其中至少一個內的反壓力，以便對所感應到的參數(shù)作出響應，從而將所述界面層層位(14)控制到所需要的徑向位置。
2. 如權利要求1所述的離心分離器，其特征在于，所述控制裝 備設置成用于在物流穿過所述出口(22、 23)而從所述離心轉子(1)流出 的過程中，控制所述第一出口(22)和所述第二出口(23)的其中至少一 個內的所述反壓力。
3. 如權利要求1和2中任何一項所述的離心分離器，其特征在 于，所述控制裝備設置成用于通過在需要時允許提供經(jīng)過所述第一 出口(22)和所述第二出口(23)的其中一個而進入所述離心轉子(1)內的 物流，而同樣控制所述第一出口(22)和所述第二出口(23)的其中至少 一個內的所述反壓力。
4. 如前述權利要求中任何一項所述的離心分離器，其特征在于， 所述控制裝備包括至少一個閥門(55、 58、 65、 68),用于控制所述第 一出口(22)和所述第二出口(23)的其中一個內的所述反壓力。
5. 如權利要求4所迷的離心分離器，其特征在于，所述閥門(55、 58)設置于所述第一出口(22)上。
6. 如權利要求5所述的離心分離器，其特征在于，所述控制裝 備設置成允許物流穿過所述第一出口(22)而進入所述離心轉子(1)內， 并且從所述離心轉子(l)流出，以便控制所迷反壓力。
7. 如權利要求6所述的離心分離器，其特征在于，所述控制裝 備包括閥門(58)，所述閥門(58)允許物流通過所述第一出口而流入所 述離心轉子內，及閥門(55),所述閥門(55)允許物流通過所述第一出 口 (22)而從所述離心轉子流出。
8. 如權利要求4所述的離心分離器，其特征在于，所述閥門(65、 68)設置于所述第二出口(23)上。
9. 如權利要求8所述的離心分離器，其特征在于，所述控制裝 備設置成允許物流穿過所述第二出口(23)而進入所述離心轉子(1)內， 并且從所述離心轉子(l)流出，以便控制所述反壓力。
10. 如權利要求9所述的離心分離器，其特征在于，所述控制裝 備包括閥門(68)，所述閥門(68)允許物流通過所述第二出口(23)而流 入所述離心轉子(l)內，及閥門(65)，所述閥門(65)允許物流通過所述 第二出口(")而從所述離心轉子(1)流出。
11. 如前述權利要求中任何一項所述的離心分離器，其特征在 于，所述控制裝備包括機構(56-58; 66-68),用于提供控制流體，并 且所述控制裝備設置成允許將所述控制流體供應到所述徑向外部(11) 和所述徑向內部(12)的其中一個上。
12. 如權利要求11所述的離心分離器，其特征在于，所述控制 流體由分離流體形成，所述分離流體分別供給到所述徑向外部(11 )和 所述徑向內部(12)內。
13. 如權利要求11所述的離心分離器，其特征在于，所述控制 流體由所述重相和所述輕相的其中之一所形成，所述重相和所述輕 相分別供給回所述徑向外部(11)和所述徑向內部(12)內。
14. 如權利要求11-13中任何一項所述的離心分離器，其特征在 于，所述控制裝備設置成允許經(jīng)過所述第一出口(22)而供應控制流 體。
15. 如權利要求5-6中任何一項所述的離心分離器，其特征在于， 所述徑向內部(12)與所述第二出口(23)之間設置有溢流出口(38)。
16. 如權利要求8-10中任何一項所述的離心分離器，其特征在 于，所述徑向外部(l 1 )與所述第一出口 (22)之間設置有溢流出口 (39)。
17. 如前述權利要求中任何一項所述的離心分離器，其特征在 于，所述傳感器(51)包括壓力傳感器(51)。
18. —種方法，用于分離離心分離器內的至少相對重相和相對輕 相內的產(chǎn)品，所述離心分離器包括離心轉子，所述離心轉子可繞著轉動軸線轉動，并且所述離心轉子包括轉子壁，所述轉子壁包圍分離空間，其中所述方法包括步驟通過入口而將所述產(chǎn)品供給到所述分離空間，所述入口經(jīng)過所 述轉子壁而延伸到所述分離空間內；轉動所述離心轉子，使得所述已分離的重相聚集于所述分離空 間的徑向外部內，而所述已分離的輕相則聚集于所述分離空間的徑 向內部內，其中所述分離空間具有中心充氣空間，所聚集起來并已 分離的輕相貼靠所述中心充氣空間而形成自由液體表面，并且其中 所述徑向外部通過在運行過程中形成的界面層層位而從所述徑向內 部分離；以穿過第一出口的第一物流而將所述重相從所述徑向外部排出；以穿過第二出口的第二物流而將所述輕相從所述徑向內部排出；通過控制所述第一出口和所述第二出口中的至少一個內的反壓 力，而將所述界面層層位控制到所需要的徑向位置； 其特征在于下列步驟維持所述分離空間的所述中心充氣空間內的氣體壓力，所述氣 體壓力偏離所述環(huán)境的壓力；感應參數(shù)，所述參數(shù)與所述分離空間的所述中心充氣空間內的 氣體壓力相關；及控制所述第一出口和所述第二出口的其中至少一個內的氣體壓 力，以便對所感應到的參數(shù)作出響應，從而將所述界面層層位控制 到所需要的徑向位置。
19. 如權利要求18所述的方法，其特征在于，在物流經(jīng)所述出 口而從所述離心轉子流出的過程中，所述反壓力控制于所述第 一 出 口和所述第二出口中的至少一個內。
20. 如權利要求18-19中任何一項所述的方法，其特征在于，通 過在需要時經(jīng)所述第一出口和所述第二出口中的一個而提供進入所 述離心轉子的物流，從而使所述反壓力控制于所述第一出口和所述 第二出口中的至少一個內。
21. 如權利要求18-20中任何一項所述的方法，其特征在于，所 述反壓力通過經(jīng)所述第一出口而流入所述離心轉子內并從所述離心 轉子流出的物流，而得以控制。
22. 如權利要求18-21中任何一項所述的方法，其特征在于，所 述反壓力通過經(jīng)所述第二出口而流入所述離心轉子內并從所述離心 轉子流出的物流，而得以控制。
23. 如權利要求18-22中任何一項所述的方法，其特征在于，所 述反壓力利用控制流體而得以控制，所述控制流體供應到所述徑向 外部和所述徑向內部的其中之一上。
24. 如權利要求23所述的方法，其特征在于，所述控制流體由 分離流體而形成，所述分離流體分別供給到所述徑向外部和所述徑 向內部內。
25. 如權利要求23所述的方法，其特征在于，所述控制流體由 所述重相和所述輕相中的其中之一所形成，所述重相和所述輕相分 別供給回所述徑向外部和所述徑向內部。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種離心分離器及將產(chǎn)品分離為重相和輕相的方法。離心轉子(1)包圍被封閉的分離空間(8)，該分離空間(8)具有用于重相的徑向外部(11)、用于輕相的徑向內部(12)及中心充氣空間(13)。該徑向外部通過界面層層位(14)而從徑向內部分離。入口(21)延伸進入分離空間(8)內，以便供應產(chǎn)品。第一出口(22)從徑向外部延伸，以便排出該重相。第二出口(23)從徑向內部(12)延伸，從而排出輕相?？刂蒲b備允許將界面層層位控制到所需要的徑向位置。傳感器(51)感應與中心空間內的氣體壓力相關的參數(shù)。作為對感應到的參數(shù)的響應，控制裝備控制第一出口內的反壓力，以便將界面層層位控制到所需要的徑向位置。
文檔編號B04B1/08GK101171086SQ200680015261
公開日2008年4月30日 申請日期2006年3月2日 優(yōu)先權日2005年3月8日
發(fā)明者L·博里斯特倫, L·赫爾納斯蒂 申請人:阿爾法拉瓦爾股份有限公司