1.生產(chǎn)環(huán)烷基礎(chǔ)油的方法，所述方法包括以下步驟：
a)在脫蠟裂化催化劑存在下并在催化脫蠟條件下，使硫含量為約0.0005重量％至約0.5重量％(通過ASTM D4294測量)且氮含量高達(dá)約0.1重量％(通過ASTM D5762測量)的加氫處理的環(huán)烷流出物脫蠟以產(chǎn)生經(jīng)脫蠟的流出物；
b)在加氫精制催化劑存在下并在催化加氫精制條件下，加氫精制所述經(jīng)脫蠟的流出物以產(chǎn)生具有降低水平的多環(huán)芳烴化合物和降低水平的不穩(wěn)定烯屬化合物的經(jīng)脫蠟加氫精制的流出物；和
c)分餾所述經(jīng)脫蠟加氫精制的流出物以除去一種或多種低粘度高揮發(fā)性餾分，并提供具有低于約-5℃的傾點(diǎn)(通過ASTM D5949測量)的環(huán)烷基礎(chǔ)油，產(chǎn)率基于總加氫處理的環(huán)烷流出物高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的85％。
2.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述加氫處理的環(huán)烷流出物含有約0.01重量％至約0.15重量％的硫。
3.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述加氫處理的環(huán)烷流出物含有約0.01重量％至約0.1重量％的氮。
4.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是具有10元氧環(huán)的分子篩沸石。
5.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是絲光沸石骨架反相沸石。
6.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是ZSM-5催化劑。
7.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是具有脫蠟功能和加氫功能的雙功能催化劑。
8.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟條件包括約260℃至約399℃的溫度、約5515kPa至約27579kPa的壓強(qiáng)和約0.25hr-1至約7hr-1的液時空速。
9.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述加氫精制條件包括約260℃至約399℃的溫度、約5515kPa至約27579kPa的壓強(qiáng)和約0.25hr-1至約5hr-1的液時空速。
10.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟步驟和加氫精制步驟在分開的反應(yīng)器中進(jìn)行。
11.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述脫蠟和加氫精制步驟在一個反應(yīng)器中順序進(jìn)行。
12.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油在37.8℃下的粘度為約52至約2800賽氏通用秒。
13.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述傾點(diǎn)低于約-10℃。
14.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述產(chǎn)率基于總加氫處理的環(huán)烷流出物高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的約90％。
15.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述產(chǎn)率總加氫處理的環(huán)烷流出物高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的約97％。
16.權(quán)利要求1所述的方法，其中利用歐洲標(biāo)準(zhǔn)EN 16143：2013評估時，所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過10ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物和不超過1ppm的苯并[a]芘。
17.權(quán)利要求16所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過8ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
18.權(quán)利要求16所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過2ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
19.權(quán)利要求16所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過1ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
20.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油是苯胺點(diǎn)(ASTM D611)為約64℃至約85℃、閃點(diǎn)(Cleveland Open Cup，ASTM D92)為至少約90℃至約260℃、粘度(在37.8℃下的SUS)為約85至約135且傾點(diǎn)(℃，ASTM D5949)為約-90℃至約-12℃的100SUS基礎(chǔ)油。
21.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油是苯胺點(diǎn)(ASTM D611)為約77℃至約98℃、閃點(diǎn)(Cleveland Open Cup，ASTM D92)為至少約111℃至約333℃、粘度(在37.8℃下的SUS)為約450至約600且傾點(diǎn)(℃，ASTM D5949)為約-73℃至約-17℃或約-51℃至約-6℃的500SUS基礎(chǔ)油。
22.權(quán)利要求1所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油是苯胺點(diǎn)(ASTM D611)為約90℃至約110℃、閃點(diǎn)(Cleveland Open Cup，ASTM D92)為至少約168℃至約363℃、粘度(在37.8℃下的SUS)為約1700至約2500且傾點(diǎn)(℃，ASTM D5949)為約-53℃至約24℃的2000SUS基礎(chǔ)油。
23.生產(chǎn)環(huán)烷基礎(chǔ)油的方法，所述方法包括以下步驟：
a)在存在加氫處理催化劑和加氫處理?xiàng)l件下，加氫處理硫含量高達(dá)約5重量％(通過ASTM D4294測量)且氮含量高達(dá)約3重量％(通過ASTM D5762測量)的環(huán)烷原料以產(chǎn)生硫含量為約0.0005重量％至約0.5重量％(通過ASTM D4294測量)且氮含量高達(dá)約0.1重量％(通過ASTM D5762測量)的加氫處理的環(huán)烷流出物；
b)在脫蠟裂化催化劑存在下并在催化脫蠟條件下，使所述加氫處理的環(huán)烷流出物脫蠟以產(chǎn)生經(jīng)脫蠟的流出物；
c)加氫精制所述脫蠟流出物以產(chǎn)生具有降低水平的多環(huán)芳烴化合物和降低水平的不穩(wěn)定烯屬化合物的經(jīng)脫蠟加氫精制的流出物；和
d)分餾所述經(jīng)脫蠟加氫精制的流出物以除去一種或多種低粘度高揮發(fā)性餾分，并提供具有低于約-5℃的傾點(diǎn)(通過ASTM D5949測量)的環(huán)烷基礎(chǔ)油，產(chǎn)率基于總環(huán)烷原料高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的85％。
24.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷原料包括環(huán)烷原油、蠟質(zhì)環(huán)烷原油、環(huán)烷餾出物或其混合物。
25.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷原料包括環(huán)烷原油、蠟質(zhì)環(huán)烷原油或環(huán)烷餾出物與鏈烷原料、鏈烷餾出物、輕循環(huán)油或重循環(huán)油、脫瀝青油、裂化器殘?jiān)⒑须s原子種類和芳族化合物并在約150℃至約550℃(通過ASTM D7169測量)下沸騰的烴原料或其混合物的共混物。
26.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷原料包含多于50重量％的環(huán)烷真空餾出物餾分和至多50重量％的包含含硫化合物和含氮化合物的脫瀝青油。
27.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷原料包含基于總原料約0.5重量％至15重量％的蠟質(zhì)化合物。
28.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述加氫處理?xiàng)l件包括約260℃至約399℃的溫度、約5515kPa至約27579kPa的壓強(qiáng)和每小時(hr-1)每cc催化劑約0.25cc至約5cc油的液時空速。
29.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述加氫處理的環(huán)烷流出物含有約0.01重量％至約0.15重量％的硫。
30.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述加氫處理的環(huán)烷流出物含有約0.01重量％至約0.1重量％的氮。
31.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是具有10元氧環(huán)的分子篩沸石。
32.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是絲光沸石骨架反相沸石。
33.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是ZSM-5催化劑。
34.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟催化劑是具有脫蠟功能和加氫功能的雙功能催化劑。
35.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟條件包括約260℃至約399℃的溫度、約5515kPa至約27579kPa的壓強(qiáng)和約0.25hr-1至約7hr-1的液時空速。
36.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述加氫精制條件包括約260℃至約399℃的溫度、約5515kPa至約27579kPa的壓強(qiáng)和約0.25hr-1至約5hr-1的液時空速。
37.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟步驟和加氫精制步驟在分開的反應(yīng)器中進(jìn)行。
38.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述脫蠟和加氫精制步驟在一個反應(yīng)器中順序進(jìn)行。
39.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油在37.8℃下的粘度為約52至約2800賽氏通用秒。
40.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述傾點(diǎn)比所述環(huán)烷原料的傾點(diǎn)低約-10℃。
41.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述傾點(diǎn)比所述環(huán)烷原料的傾點(diǎn)低約-20℃。
42.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述產(chǎn)率基于總環(huán)烷原料高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的約90％。
43.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述產(chǎn)率基于總環(huán)烷原料高于總環(huán)烷基礎(chǔ)油的約97％。
44.權(quán)利要求23所述的方法，其中利用歐洲標(biāo)準(zhǔn)EN 16143：2013評估時，所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過10ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物和不超過1ppm的苯并[a]芘。
45.權(quán)利要求44所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過8ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
46.權(quán)利要求44所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過2ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
47.權(quán)利要求44所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油包含不超過1ppm的總多環(huán)芳烴8-標(biāo)記物。
48.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油總共含有不超過20ppm的多環(huán)芳烴化合物苊、苊烯、蒽、苯并(a)蒽、苯并(a)芘、苯并(b)熒蒽、苯并(ghi)苝、苯并(k)熒蒽、屈、二苯并(a，h)蒽、熒蒽、芴、茚并[123-cd]芘、萘、菲和芘。
49.權(quán)利要求48所述的方法，其中所述環(huán)烷光亮油總共含有不超過10ppm的所述多環(huán)芳烴化合物。
50.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷基礎(chǔ)油總共含有不超過20ppm的多環(huán)芳烴化合物苊、苊烯、蒽、苯并(a)蒽、苯并(a)芘、苯并(b)熒蒽、苯并(e)芘、苯并(ghi)苝、苯并(j)熒蒽、苯并(k)熒蒽、屈、二苯并(a，h)蒽、熒蒽、芴、茚并[123-cd]芘、萘、菲和芘。
51.權(quán)利要求50所述的方法，其中所述環(huán)烷光亮油總共含有不超過10ppm的所述多環(huán)芳烴化合物。
52.權(quán)利要求23所述的方法，其中所述環(huán)烷光亮油總共含有不超過20ppm的多環(huán)芳烴化合物苊、苊烯、蒽、苯并(a)蒽、苯并(a)芘、苯并(b)熒蒽、苯并(e)芘、苯并(ghi)苝、苯并(j)熒蒽、苯并(k)熒蒽、屈、二苯并(a，e)芘、二苯并(a，h)蒽、二苯并(a，h)芘、二苯并(a，i)芘、二苯并(a，1)芘、熒蒽、芴、茚并[123-cd]芘、萘、菲和芘。
53.權(quán)利要求52所述的方法，其中所述環(huán)烷光亮油總共含有不超過10ppm的所述多環(huán)芳烴化合物。