專利名稱：排氣后處理系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開(kāi)涉及內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，更具體地涉及用于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的排氣后處理系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的發(fā)動(dòng)機(jī)控制模塊控制供給到發(fā)動(dòng)機(jī)的燃燒室的燃料和空氣的混合物。在空氣/燃料混合物被點(diǎn)燃之后，發(fā)生燃燒，并且燃燒氣體通過(guò)排氣閥離開(kāi)燃燒室。燃燒氣體被排氣歧管引導(dǎo)到催化劑(或者“催化轉(zhuǎn)換器”)和/或其它排氣后處理系統(tǒng)。在某些發(fā)動(dòng)機(jī)操作條件下，燃燒氣體可以進(jìn)入排氣系統(tǒng)，而后處理系統(tǒng)的構(gòu)件，諸如催化劑還沒(méi)有被加熱到操作溫度，在該操作溫度它們能夠充分地減少受管制的排氣組分。在冷發(fā)動(dòng)機(jī)起動(dòng)后，該問(wèn)題通常最嚴(yán)重。冷排氣系統(tǒng)構(gòu)件能夠具有作為散熱器的大的熱質(zhì)量，從而減慢排氣系統(tǒng)以及包含在其中的催化劑的加熱。因此，在起動(dòng)之后，排氣系統(tǒng)構(gòu)件中的慢的溫度上升能夠?qū)е掠捎诖呋瘎┑南鄳?yīng)的慢反應(yīng)和起燃(即，激勵(lì))造成的不期望的排放水平。

發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明的一個(gè)示例性實(shí)施例中，排氣后處理系統(tǒng)包括氧化催化劑和位于氧化催化劑下游的顆粒過(guò)濾器，氧化催化劑構(gòu)造成從內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)接收排氣流，顆粒過(guò)濾器包括基底。系統(tǒng)還包括施加到基底的下游部分的氮氧化物吸附催化劑和位于氮氧化物吸附催化劑的下游的選擇性催化還原裝置，其中，選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從排氣流去除氮氧化物。在本發(fā)明的另一個(gè)示例性實(shí)施例中，內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)包括與排氣歧管流體連通的氧化催化劑和構(gòu)造成從氧化催化劑接收排氣流的顆粒過(guò)濾器。內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)還包括構(gòu)造成從顆粒過(guò)濾器接收排氣流的氮氧化物吸附催化劑和構(gòu)造成從氮氧化物吸附催化劑接收排氣流的選擇性催化還原裝置，其中，氮氧化物吸附催化劑和選擇性催化還原催化劑的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在起動(dòng)時(shí)間段期間由氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)，選擇性催化還原催化劑從排氣流去除氮氧化物。此外，本發(fā)明還涉及以下技術(shù)方案。1.一種排氣后處理系統(tǒng),包括:
氧化催化劑，所述氧化催化劑構(gòu)造成從內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)接收排氣流；
位于所述氧化催化劑下游的顆粒過(guò)濾器，所述顆粒過(guò)濾器包括基底；
施加到所述基底的下游部分的氮氧化物吸附催化劑；以及
位于所述氮氧化物吸附催化劑下游的選擇性催化還原裝置，其中，所述選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從排氣流去除氮氧化物。2.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間，所述氮氧化物吸附催化劑在閾值溫度以下時(shí)吸附氮氧化物，并且在所述閾值溫度以上時(shí)釋放所述氮氧化物，其中，所述第二溫度大于所述第一溫度。
3.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述選擇性催化還原裝置在操作溫度時(shí)去除氮氧化物，所述操作溫度大于所述選擇性催化還原裝置在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段后的溫度。4.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述排氣流的溫度在所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間是基本匹配的。5.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在起動(dòng)時(shí)間段期間由所述氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)，所述選擇性催化還原裝置同時(shí)從排氣流去除氮氧化物。6.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括位于所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間的流路徑中的排放流體噴射器。7.如技術(shù)方案I所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氧化催化劑和所述顆粒過(guò)濾器緊密地聯(lián)接到所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)。8.一種內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，包括:
與排氣歧管流體連通的氧化催化劑；
顆粒過(guò)濾器，所述顆粒過(guò)濾器構(gòu)造成從所述氧化催化劑接收排氣流；
氮氧化物吸附催化劑，所述氮氧化物吸附催化劑構(gòu)造成從所述顆粒過(guò)濾器接收排氣流；以及
選擇性催化還原裝置，所述選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從所述氮氧化物吸附催化劑接收排氣流，其中，所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原催化劑的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在起動(dòng)時(shí)間段期間由所述氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)，所述選擇性催化還原催化劑從排氣流去除氮氧化物。9.如技術(shù)方案8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間，所述氮氧化物吸附催化劑在閾值溫度以下時(shí)吸附氮氧化物，并且所述起動(dòng)時(shí)間段之后處于所述閾值溫度以上時(shí)釋放所述氮氧化物。10.如技術(shù)方案8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，所述選擇性催化還原裝置在操作溫度時(shí)去除氮氧化物，所述操作溫度大于所述選擇性催化還原裝置在所述起動(dòng)時(shí)間段期間的溫度。11.如技術(shù)方案8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，所述排氣流的溫度在所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間是基本匹配的。12.如技術(shù)方案8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，還包括位于所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間的流路徑中的排放流體噴射器。13.如技術(shù)方案8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，所述氧化催化劑、所述顆粒過(guò)濾器和所述氮氧化物吸附催化劑緊密地聯(lián)接到所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)。14.一種排氣后處理系統(tǒng),包括:
氧化催化劑，所述氧化催化劑構(gòu)造成從內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)接收排氣流；
顆粒過(guò)濾器，所述顆粒過(guò)濾器構(gòu)造成從所述氧化催化劑接收排氣流；
氮氧化物吸附催化劑，所述氮氧化物吸附催化劑構(gòu)造成從所述顆粒過(guò)濾器接收排氣流；以及
選擇性催化還原裝置，所述選擇性催化還原裝置構(gòu)造成去除從所述氮氧化物吸附催化劑接收的排氣流中的氮氧化物，其中，所述排氣流的溫度在所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間基本上匹配。15.如技術(shù)方案14所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間，所述氮氧化物吸附催化劑在閾值溫度以下時(shí)吸附氮氧化物，并且在所述閾值溫度以上時(shí)釋放所述氮氧化物。16.如技術(shù)方案15所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述選擇性催化還原裝置在大約第二溫度處去除氮氧化物。17.如技術(shù)方案14所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間由所述氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)從排氣流去除氮氧化物。18.如技術(shù)方案14所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括位于所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間的流路徑中的排放流體噴射器。19.如技術(shù)方案14所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氮氧化物吸附催化劑被施加到所述顆粒過(guò)濾器的基底的下游部分。20.如技術(shù)方案19所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氧化催化劑和所述顆粒過(guò)濾器緊密地聯(lián)接到所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)。上述特征和優(yōu)點(diǎn)以及本發(fā)明其它的特征和優(yōu)點(diǎn)將根據(jù)以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行的詳細(xì)說(shuō)明而變得清楚。


在以下參照附圖僅通過(guò)示例給出的實(shí)施例的詳細(xì)說(shuō)明中，其它特征、優(yōu)點(diǎn)和細(xì)節(jié)得以顯現(xiàn)，附圖中:
圖1顯示了包括示例性排氣后處理系統(tǒng)的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的示例性示意圖；以及 圖2為圖1中的示例性排氣后處理系統(tǒng)的一部分的透視圖。
具體實(shí)施例方式以下說(shuō)明在本質(zhì)上僅僅是示例性的，而并不是為了限制本公開(kāi)、其應(yīng)用或用途。應(yīng)當(dāng)明白在所有附圖中，相應(yīng)的附圖標(biāo)記指示類(lèi)似的或者相應(yīng)的部件和特征。圖1是發(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)100的實(shí)施例的示意圖。發(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)100包括內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)102、排氣系統(tǒng)104和發(fā)動(dòng)機(jī)控制器106。排氣系統(tǒng)104包括排氣歧管108、排氣后處理系統(tǒng)110和排氣管道112。氣缸116位于內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)102中，其中，氣缸116接收燃燒空氣和燃料的混合物。燃燒空氣/燃料的混合物燃燒，導(dǎo)致位于氣缸116中的活塞(未示出)的往復(fù)運(yùn)動(dòng)?；钊耐鶑?fù)運(yùn)動(dòng)使曲軸(未示出)旋轉(zhuǎn)，以將原動(dòng)力傳遞給車(chē)輛動(dòng)力系(未示出)或傳遞給發(fā)電機(jī)或內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)102的靜態(tài)應(yīng)用情況下的該動(dòng)力的其它靜態(tài)接受體(未示出)?？諝?燃料混合物的燃燒造成排氣118流動(dòng)通過(guò)排氣歧管108并進(jìn)入排氣后處理系統(tǒng)110，其中，排氣后處理系統(tǒng)110可以包括氧化催化劑119、顆粒過(guò)濾器120、氮氧化物吸附催化劑(NAC)122和選擇性催化還原(SCR)裝置124。排氣后處理系統(tǒng)110在排氣118的各種受管制的組分(諸如氮氧化物(NOx)、一氧化碳(CO)、碳?xì)浠衔?HC)和顆粒)釋放到大氣之前還原、氧化、捕集或以其它方式處理這些組分。此外，排氣后處理系統(tǒng)110和流體源125操作地聯(lián)接到發(fā)動(dòng)機(jī)控制器106并由其控制。發(fā)動(dòng)機(jī)控制器106從傳感器128a-128n收集有關(guān)內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)102的操作的信息，例如溫度(進(jìn)氣系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、發(fā)動(dòng)機(jī)冷卻劑、環(huán)境等)、壓力、排氣流率、NCU農(nóng)度，并且結(jié)果，可以調(diào)節(jié)排放降低流體的量，諸如噴射到排氣后處理系統(tǒng)110中的尿素和氨氣。如這里所用，術(shù)語(yǔ)控制器指的是專用集成電路(ASIC)、電子電路、執(zhí)行一種或更多種軟件或固件程序的處理器(共用、專用或成組)和存儲(chǔ)器、組合邏輯電路以及/或者提供所需功能的其它適當(dāng)構(gòu)件。在示例性實(shí)施例中，排氣流118由氧化催化劑119接收，氧化催化劑119可以緊密地聯(lián)接到發(fā)動(dòng)機(jī)排氣歧管，以最小化熱損失。顆粒過(guò)濾器120構(gòu)造成從排氣流118去除顆粒物質(zhì)或煙塵。在實(shí)施例中，NAC122可以是施加到顆粒過(guò)濾器120基底的下游部分的NOx吸附涂層，其中，NAC122在第一溫度吸附NOx，并且在第二溫度釋放N0X。第一溫度低于閾值，第二溫度高于閾值。當(dāng)NOx在第二溫度被NAC釋放之后，SCR裝置124接收排氣118并且被充分加熱，從排氣去除N0X。在實(shí)施例中，當(dāng)NAC122釋放NOx時(shí)，SCR裝置124同時(shí)從排氣流118 去除 N0X。繼續(xù)參考圖1，在示例性內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)系統(tǒng)102的起動(dòng)時(shí)間段期間，排氣后處理系統(tǒng)110的構(gòu)件，諸如SCR裝置124，是相對(duì)“冷”的，并且可能需要時(shí)間升高到操作溫度。具體而言，當(dāng)被加熱到其操作溫度時(shí)，SCR裝置124更為有效地從排氣流118去除N0X。因此，對(duì)排氣后處理系統(tǒng)110提供一種方法和裝置，使得SCR裝置124能夠在被加熱到閾值操作溫度或高于閾值操作溫度之后從排氣流118去除N0X，由此減少排放。如本文所述，SCR裝置124的操作溫度是一個(gè)溫度或溫度范圍，在該溫度或溫度范圍，裝置能夠去除充分量的N0X，獲得所選擇的目標(biāo)。圖2是不例性排氣后處理系統(tǒng)110的一部分的透視圖。如圖所不，排氣后處理系統(tǒng)110接收進(jìn)入氧化催化劑119的排氣流118，氧化催化劑119可以是柴油氧化催化劑(D0C)。排氣流入顆粒過(guò)濾器120，該顆粒過(guò)濾器120可以是柴油顆粒過(guò)濾器。氧化催化劑119構(gòu)造成氧化來(lái)自排氣流118的所選擇的污染物，諸如一氧化碳和碳?xì)浠衔?，而顆粒過(guò)濾器120構(gòu)造成去除煙塵和其它顆粒。在實(shí)施例中，NAC122在顆粒過(guò)濾器120的下游，并且構(gòu)造成在第一溫度吸附或捕獲來(lái)自排氣流118的N0X。另外，NAC122還構(gòu)造成在第二溫度釋放所吸附的NOx，該第二溫度高于第一溫度。示例性的NAC122是施加到顆粒過(guò)濾器120的基底的下游部分的適當(dāng)材料涂層。涂層的示例性材料包括但不限于堿性金屬氧化物(Y-Al2O3,CeO2, MgO, MgOAl2O3, Ba0/Al203, K20/A1203)和金屬交換沸石(鈉交換和鋇交換的八面沸石，諸如NaY和BaY以及銅交換和鐵交換的β )。如圖所示，組件200允許緊密地聯(lián)接到發(fā)動(dòng)機(jī)排氣歧管108，其包括氧化催化劑119、顆粒過(guò)濾器120和NAC122。如本文所述，緊密聯(lián)接的構(gòu)件與內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)102的排氣出口緊密靠近，以降低排氣流路徑的至少一部分的長(zhǎng)度。另外，緊密聯(lián)接的構(gòu)件基本上彼此相鄰或靠近地定位，使得構(gòu)件之間的排氣流路徑降低。緊密聯(lián)接的構(gòu)件降低了沿著較長(zhǎng)的流路徑的排氣流造成的熱消耗(即，熱損失)以及導(dǎo)致的熱質(zhì)量，并且因此，由于較短的整體流路徑，更快地將構(gòu)件加熱至操作溫度。在其它實(shí)施例中，氧化催化劑119、顆粒過(guò)濾器120和NAC122是分開(kāi)的構(gòu)件，其中，NAC122施加到顆粒過(guò)濾器120的基底下游并且與顆粒過(guò)濾器120分開(kāi)。排放流體噴射器202定位在緊密聯(lián)接組件200的下游，噴射排放流體，諸如尿素，以便輔助SCR裝置124還原排氣流118中的NOx組分?；旌掀骺梢晕挥谂艢夤艿?04中，改善排放流體的分布和混合。SCR裝置124構(gòu)造成接收與排放流體混合的排氣流118并且還原排氣中的N0X。在NOx和其它排氣成分被去除后，排氣流118向下游流動(dòng)到達(dá)其它的后處理裝置或進(jìn)入大氣，這取決于應(yīng)用。示例性SCR裝置124構(gòu)造成在閾值操作溫度或高于閾值操作溫度時(shí)從排氣去除N0X，閾值操作溫度是諸如大約150°C。在其它實(shí)施例中，操作溫度是大約175°C或高于大約175°C。在其它實(shí)施例中，操作溫度是大約200°C或高于大約200°C。在較低的排氣流率，開(kāi)始尿素噴射的溫度是大約150°C。在較高的排氣流率，尿素噴射的溫度較高，諸如大約175°C至大約200°C。示例性起動(dòng)時(shí)間段開(kāi)始于“冷”發(fā)動(dòng)機(jī)(即，沒(méi)有熱起來(lái)的)被起動(dòng)。在實(shí)施例中，在起動(dòng)時(shí)間段期間，某些構(gòu)件沒(méi)有被充分地加熱以有效率地操作。具體而言，在起動(dòng)時(shí)間段期間，SCR裝置124可能不以期望的速度去除NOx，諸如降低水平以滿足某些規(guī)定或目標(biāo)。因此，在實(shí)施例中，在起動(dòng)時(shí)間段期間，NAC122構(gòu)造成從排氣流118吸附N0X。在起動(dòng)時(shí)間段之后，NAC122被加熱并且能夠不再吸附N0X。此外，在起動(dòng)時(shí)間段之后，NAC122釋放所吸附的NOx污染物，以便由SCR裝置124處理，其中，SCR裝置124已經(jīng)被加熱到去除NOx的操作溫度。例如，在冷起動(dòng)之后，SCR裝置124和NAC122基本上是冷的，并且NAC122在其“釋放”溫度或低于其“釋放”溫度吸附N0X。釋放溫度是NAC122減慢或停止吸附NOx并且開(kāi)始釋放所吸附的NOx的溫度。在起動(dòng)時(shí)間段之后，NAC122和SCR裝置124高于閾值溫度(即，大約等于NAC的釋放溫度和SCR的操作溫度)，其中，NAC122釋放N0X，SCR裝置124被加熱并且能夠從排氣去除N0X。在實(shí)施例中，第一溫度低于大約100°C,第二溫度等于或大于大約150°C。在該示例中，在起動(dòng)時(shí)間段期間，NAC122和SCR裝置124從低于大約100°C被加熱到大約150°C，其中，在起動(dòng)時(shí)間段之后，構(gòu)件處于150°C或高于150°C。圖1和圖2中所示的實(shí)施例構(gòu)造成基本“匹配"NAC122和SCR裝置124的溫度，其中，在起動(dòng)時(shí)間段之后，NAC122和SCR裝置124都被排氣加熱到選定的溫度或閾值溫度，在該溫度，NAC122釋放N0X，以便由SCR裝置124去除。此外，所示出的布置不具有位于NAC122和SCR裝置124之間的過(guò)濾器。因此，通過(guò)不具有作為構(gòu)件之間的散熱器的裝置，該布置能夠使得排氣流118的溫度在NAC122和SCR裝置124處基本上匹配或相似。例如，在排氣流加熱NAC122和SCR裝置124時(shí)，NAC122吸附N0X。在起動(dòng)時(shí)間段之后，當(dāng)NAC122和SCR裝置124的溫度都被加熱并且基本上匹配時(shí)，SCR裝置124從NAC122接收釋放的NOx來(lái)處理，以便改善排放的降低。因此，圖1和圖2所示的布置基本上匹配N(xiāo)AC122和SCR裝置124的溫度，以便在發(fā)動(dòng)機(jī)起動(dòng)時(shí)間段期間以及之后改善NOx的降低。已參照示例性實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了描述，本領(lǐng)域技術(shù)人員將理解的是，在不脫離本發(fā)明范圍的情況下，可以做出各種改變和對(duì)其元件用等同物進(jìn)行替換。另外，根據(jù)本發(fā)明的教導(dǎo)，可做許多變形以適應(yīng)特定情況或材料，這些都不會(huì)脫離本發(fā)明的實(shí)質(zhì)范圍。因此，本發(fā)明不限于所公開(kāi)的具體實(shí)施例，而是本發(fā)明將包括落入到本申請(qǐng)范圍內(nèi)的所有實(shí)施例。
權(quán)利要求
1.一種排氣后處理系統(tǒng),包括: 氧化催化劑，所述氧化催化劑構(gòu)造成從內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)接收排氣流； 位于所述氧化催化劑下游的顆粒過(guò)濾器，所述顆粒過(guò)濾器包括基底； 施加到所述基底的下游部分的氮氧化物吸附催化劑；以及 位于所述氮氧化物吸附催化劑下游的選擇性催化還原裝置，其中，所述選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從排氣流去除氮氧化物。
2.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間，所述氮氧化物吸附催化劑在閾值溫度以下時(shí)吸附氮氧化物，并且在所述閾值溫度以上時(shí)釋放所述氮氧化物，其中，所述第二溫度大于所述第一溫度。
3.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述選擇性催化還原裝置在操作溫度時(shí)去除氮氧化物，所述操作溫度大于所述選擇性催化還原裝置在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段后的溫度。
4.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述排氣流的溫度在所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間是基本匹配的。
5.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在起動(dòng)時(shí)間段期間由所述氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)，所述選擇性催化還原裝置同時(shí)從排氣流去除氮氧化物。
6.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，還包括位于所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間的流路徑中的排放流體噴射器。
7.如權(quán)利要求1所述的排氣后處理系統(tǒng)，其中，所述氧化催化劑和所述顆粒過(guò)濾器緊密地聯(lián)接到所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)。
8.—種內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī),包括: 與排氣歧管流體連通的氧化催化劑； 顆粒過(guò)濾器，所述顆粒過(guò)濾器構(gòu)造成從所述氧化催化劑接收排氣流； 氮氧化物吸附催化劑，所述氮氧化物吸附催化劑構(gòu)造成從所述顆粒過(guò)濾器接收排氣流；以及 選擇性催化還原裝置，所述選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從所述氮氧化物吸附催化劑接收排氣流，其中，所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原催化劑的構(gòu)造使得能夠進(jìn)行下述操作:在起動(dòng)時(shí)間段期間由所述氮氧化物吸附催化劑吸附氮氧化物，在起動(dòng)時(shí)間段之后釋放氮氧化物，并且當(dāng)所述氮氧化物吸附催化劑釋放氮氧化物時(shí)，所述選擇性催化還原催化劑從排氣流去除氮氧化物。
9.如權(quán)利要求8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，在所述內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)的起動(dòng)時(shí)間段期間，所述氮氧化物吸附催化劑在閾值溫度以下時(shí)吸附氮氧化物，并且所述起動(dòng)時(shí)間段之后處于所述閾值溫度以上時(shí)釋放所述氮氧化物，所述選擇性催化還原裝置在操作溫度時(shí)去除氮氧化物，所述操作溫度大于所述選擇性催化還原裝置在所述起動(dòng)時(shí)間段期間的溫度。
10.如權(quán)利要求8所述的內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)，其中，所述排氣流的溫度在所述氮氧化物吸附催化劑和所述選擇性催化還原裝置之間是基本匹配的。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種排氣后處理系統(tǒng)。在排氣后處理系統(tǒng)的一個(gè)示例性實(shí)施例中，系統(tǒng)包括氧化催化劑和位于氧化催化劑下游的顆粒過(guò)濾器，氧化催化劑構(gòu)造成從內(nèi)燃發(fā)動(dòng)機(jī)接收排氣流，顆粒過(guò)濾器包括基底。系統(tǒng)還包括施加到基底的下游部分的氮氧化物吸附催化劑和位于氮氧化物吸附催化劑的下游的選擇性催化還原裝置，其中，選擇性催化還原裝置構(gòu)造成從排氣流去除氮氧化物。
文檔編號(hào)F01N3/035GK103206288SQ20131001043
公開(kāi)日2013年7月17日 申請(qǐng)日期2013年1月11日 優(yōu)先權(quán)日2012年1月13日
發(fā)明者Y.苗, J.C.譚 申請(qǐng)人:通用汽車(chē)環(huán)球科技運(yùn)作有限責(zé)任公司