1.一種雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的處理方法，其特征在于，應(yīng)用于雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)，所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)包括前級(jí)反應(yīng)模塊和后級(jí)反應(yīng)模塊，所述處理方法包括：
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一溫度和所述第二溫度確定所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的工作模式，包括：
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述中溫模式包括低活性模式、中活性模式和最佳活性模式，所述當(dāng)所述第二溫度大于所述第一預(yù)設(shè)溫度，且所述第二溫度小于或等于第二預(yù)設(shè)溫度，確定所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)為中溫模式，包括：
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一化合物濃度、所述第二化合物濃度、所述第三化合物濃度和所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的工作模式，確定所述前級(jí)反應(yīng)模塊的第一介質(zhì)輸出量和所述后級(jí)反應(yīng)模塊的第二介質(zhì)輸出量，包括：
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一分配系數(shù)、所述第二分配系數(shù)和所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的工作模式，確定所述前級(jí)反應(yīng)模塊的第一介質(zhì)輸出量和所述后級(jí)反應(yīng)模塊的第二介質(zhì)輸出量，包括：
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一分配系數(shù)、所述第二分配系數(shù)和所述雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的工作模式，確定所述前級(jí)反應(yīng)模塊的第一介質(zhì)輸出量和所述后級(jí)反應(yīng)模塊的第二介質(zhì)輸出量，包括：
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一化合物濃度和所述第二化合物濃度，計(jì)算所述前級(jí)反應(yīng)模塊的第一分配系數(shù)，包括：
8.一種雙級(jí)scr后處理系統(tǒng)的處理裝置，包括：
9.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：
10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于：其上存儲(chǔ)有可執(zhí)行代碼，當(dāng)所述可執(zhí)行代碼被電子設(shè)備的處理器執(zhí)行時(shí)，使所述處理器執(zhí)行如權(quán)利要求1-7中任一項(xiàng)所述的方法。