濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置及其使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及MEMS及其工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體地，涉及一種實(shí)現(xiàn)均勻?qū)ΨQ腐蝕的濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置及其使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]濕法腐蝕是用于MEMS及其工藝技術(shù)領(lǐng)域比較好的一種方法，將物體置于化學(xué)腐蝕液中進(jìn)行反應(yīng)的腐蝕速率快、具有較高的機(jī)械靈敏度、且成本也比較低廉。特別地，濕法腐蝕作為MEMS及其工藝的一個(gè)重要研究方向，已經(jīng)成為該領(lǐng)域的一個(gè)研究熱點(diǎn)。
[0003]經(jīng)過現(xiàn)有技術(shù)的文獻(xiàn)搜索發(fā)現(xiàn)，杭州立昂微電子股份有限公司陳寶華等人在其“一種半導(dǎo)體濕法腐蝕的裝置”介紹了一種通過來回?fù)u動導(dǎo)軌支架，使得晶片與腐蝕液充分接觸并增加沖擊力，提高腐蝕速率，減少腐蝕體的殘留。然而，該半導(dǎo)體濕法腐蝕的裝置并不能使槽內(nèi)的腐蝕液來回流速均勻，因而并不能改善腐蝕的均勻性；且來回的搖動使腐蝕液流動更加不穩(wěn)定，會使腐蝕體得表面相對地更加粗糙；該裝置很難控制槽內(nèi)腐蝕液的沖擊力的強(qiáng)度大小，槽內(nèi)各位置的腐蝕液的沖擊力的強(qiáng)度差別也很大。
[0004]基于此，迫切需要一種濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置，使其避免或減小上述影響因素，同時(shí)擴(kuò)展其應(yīng)用范圍。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]針對現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明的目的是提供一種實(shí)現(xiàn)均勻?qū)ΨQ腐蝕的濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置及其使用方法，可以控制物質(zhì)腐蝕強(qiáng)度，實(shí)現(xiàn)了基片在插槽不同位置不同的腐蝕效果，可使溶液及其流速更加均勻。
[0006]根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置，包括:杯形容器、導(dǎo)流槽、磁力轉(zhuǎn)子、頂部有蓋的基板(這個(gè)蓋是基板的一部分，之所以是頂部有蓋，是因?yàn)楫?dāng)基板插入插槽中時(shí)，這個(gè)基板頂部的蓋可以防止導(dǎo)流槽內(nèi)的液體溢出槽外)、可貼緊在基板的基片以及若干濾網(wǎng)，其中:磁力轉(zhuǎn)子緊貼于杯形容器的底部；導(dǎo)流槽緊貼杯形容器的側(cè)壁；導(dǎo)流槽的下部為一內(nèi)部空腔的扇環(huán)形結(jié)構(gòu)，該扇環(huán)形結(jié)構(gòu)的上部設(shè)有若干相同大小的插槽；基片緊貼于基板上，緊貼有基片的基板插入若干相同大小的插槽中任意一個(gè)；若干濾網(wǎng)隨機(jī)插入一個(gè)或者多個(gè)剩余插槽中。
[0007]優(yōu)選地，所述若干相同大小的扇環(huán)形插槽的其中一個(gè)的兩側(cè)均勻設(shè)有若干的微小小孔，用于使導(dǎo)流槽內(nèi)的溶液流速均勻。
[0008]優(yōu)選地，所述基片均勻地緊貼于基板的長方體的一面上，緊貼基片的基板插入插槽后與導(dǎo)流槽內(nèi)的溶液進(jìn)行反應(yīng)。
[0009]優(yōu)選地，所述濾網(wǎng)插入插槽中使導(dǎo)流槽內(nèi)的溶液流速均勻；若干網(wǎng)狀濾網(wǎng)由于其網(wǎng)孔的大小不同，從而使溶液流速均勻的能力也不同。
[0010]優(yōu)選地，所述磁力轉(zhuǎn)子緊貼杯形容器的底部表面接觸面，且磁力轉(zhuǎn)子的轉(zhuǎn)軸與杯形容器的中心軸重合。[0011 ] 更優(yōu)選地，所述磁力轉(zhuǎn)子在磁力攪拌器帶動下均速轉(zhuǎn)動。
[0012]優(yōu)選地，所述導(dǎo)流槽的頂部設(shè)有掛鉤，掛鉤掛緊杯形容器的杯壁口并固定，從而實(shí)現(xiàn)導(dǎo)流槽緊貼杯形容器的側(cè)壁。
[0013]優(yōu)選地，所述裝置進(jìn)一步包括若干相同大小的插槽蓋，在插槽沒有插滿濾網(wǎng)時(shí)，沒有濾網(wǎng)插入的插槽用相同大小的插槽蓋蓋上。
[0014]優(yōu)選地，所述頂部有蓋的基板，其頂部有蓋，當(dāng)基板插入插槽中時(shí)，基板頂部的蓋可以防止導(dǎo)流槽內(nèi)的液體溢出槽外。
[0015]優(yōu)選地，所述整套裝置的所有組成部件的材料均為金屬或者塑料。
[0016]根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)方面，提供一種濕法腐蝕導(dǎo)流槽的使用方法，包括如下步驟:
[0017]第一步、導(dǎo)流槽的頂端半環(huán)形掛鉤處掛緊杯形容器的杯壁口并固定；
[0018]第二步、在第一步的基礎(chǔ)上將基片緊貼在基板的一側(cè)，并將緊貼有基片的基板插入導(dǎo)流槽上的任意一個(gè)插槽中；
[0019]第三步、在第二步的基礎(chǔ)上將若干濾網(wǎng)隨機(jī)選擇一個(gè)或若干插槽并對應(yīng)插入其中，剩下未插完的插槽用插槽蓋蓋??；
[0020]第四步、在第三步的基礎(chǔ)上將溶液均勻倒入杯形容器中并漫過導(dǎo)流槽的頂端；
[0021]第五步、在第四步的基礎(chǔ)上用磁力攪拌器將磁力轉(zhuǎn)子順時(shí)針恒速轉(zhuǎn)動；
[0022]第六步、導(dǎo)流槽內(nèi)的溶液與基片上的物質(zhì)均勻地進(jìn)行反應(yīng)。
[0023]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下的有益效果:
[0024](I)導(dǎo)流槽主體的扇環(huán)形部分的外觀較為新穎，內(nèi)在實(shí)用且應(yīng)用廣泛的濕法腐蝕的導(dǎo)流槽；
[0025](2)通過磁力轉(zhuǎn)子不同的轉(zhuǎn)速，插入插槽的不同類型的濾網(wǎng)以及在插槽口附近的微小小孔，實(shí)現(xiàn)了基片在插槽不同位置不同的腐蝕效果；
[0026](3)采用不同網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)的濾網(wǎng)，通過該濾網(wǎng)可使溶液及其流速更加均勻，提供了一種讓溶液在槽內(nèi)均勻流動的方法，且該濾網(wǎng)可替換的。
【附圖說明】
[0027]通過閱讀參照以下附圖對非限制性實(shí)施例所作的詳細(xì)描述，本發(fā)明的其它特征、目的和優(yōu)點(diǎn)將會變得更明顯:
[0028]圖1為本發(fā)明一較優(yōu)實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)示意圖；
[0029]圖2(a)為杯形容器的結(jié)構(gòu)示意圖，圖2(b)為導(dǎo)流槽主體的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖3為本發(fā)明一較優(yōu)實(shí)施例插槽蓋的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0031]圖4為本發(fā)明一較優(yōu)實(shí)施例基板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖5(a)-圖5(c)為三種不同形式的濾網(wǎng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖中:I為杯形容器，2為導(dǎo)流槽，3為磁力轉(zhuǎn)子，4為基板，5為基片，6為第一插槽，6’為第二插槽，6”為第三插槽，6”’為第四插槽，7為濾網(wǎng)，8為插槽蓋，9為微小小孔。
【具體實(shí)施方式】
[0034]下面結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說明。以下實(shí)施例將有助于本領(lǐng)域的技術(shù)人員進(jìn)一步理解本發(fā)明，但不以任何形式限制本發(fā)明。應(yīng)當(dāng)指出的是，對本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下，還可以做出若干變形和改進(jìn)。這些都屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。
[0035]實(shí)施例1:
[0036]如圖1-圖5所示，本實(shí)施例提供一種濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置，包括:
[0037]—個(gè)杯形容器I ;
[0038]—個(gè)導(dǎo)流槽2 ；
[0039]一個(gè)圓柱形的磁力轉(zhuǎn)子3;
[0040]一個(gè)頂部有蓋的長方體的基板4 ；
[0041]—個(gè)薄的可貼緊貼在基板的基片5 ;
[0042]相同大小扇環(huán)形的第一、第二、第三、第四插槽6、6’、6”、6”’ ；
[0043]一個(gè)濾網(wǎng)7 ；
[0044]兩個(gè)相同大小扇環(huán)形狀的插槽蓋8 ;
[0045]若干扇環(huán)形的微小小孔9 ;其中:
[0046]所述杯形容器I緊貼側(cè)壁處設(shè)置有一導(dǎo)流槽2，導(dǎo)流槽2的頂部設(shè)有半環(huán)形的掛鉤，用于掛住杯形容器I的杯口 ；緊貼杯形容器I的底部為一圓柱形的磁力轉(zhuǎn)子3 ;所述導(dǎo)流槽2的下部為一扇環(huán)形結(jié)構(gòu)，也是裝置非常重要的一部分，該扇環(huán)形結(jié)構(gòu)體內(nèi)為空腔，扇環(huán)形結(jié)構(gòu)的上側(cè)面設(shè)置有四個(gè)大小相同的扇環(huán)形的第一、第二、第三、第四插槽6、6’、6”、6”’ ；所述薄的可貼緊貼在基板的基片5緊貼于頂部有蓋的長方體的基板4 一面上，緊貼著基片5的基板4插入第四插槽6”’中與第四插槽6”’兩側(cè)附近的溶液進(jìn)行反應(yīng)；所述網(wǎng)狀類型結(jié)構(gòu)的濾網(wǎng)7插入第三插槽6”中，可使導(dǎo)流槽2的溶液流速均勻；剩余兩個(gè)插槽即第一、第二插槽6、6’用兩個(gè)扇環(huán)形狀的插槽蓋8蓋上。
[0047]本實(shí)施例中，所述第四插槽6”’左右兩側(cè)均勻設(shè)置有若干扇環(huán)形的微小小孔9，用于使導(dǎo)流槽2的溶液流速均勻。
[0048]本實(shí)施例中，所述磁力轉(zhuǎn)子3緊貼于杯形容器I的底部表面接觸面，且磁力轉(zhuǎn)子3的轉(zhuǎn)軸與杯形容器I的中心軸重合。
[0049]本實(shí)施例中，所述磁力轉(zhuǎn)子3由磁力攪拌器帶動均速轉(zhuǎn)動。
[0050]本實(shí)施例中，所述導(dǎo)流槽2的頂端半環(huán)形掛鉤處掛緊所述杯形容器I的杯壁口并固定住。
[0051]本實(shí)施例中，所述基板4的面上均勻地緊貼著一基片5。
[0052]本實(shí)施例中，所述的整套裝置的各部件材料為金屬或者塑料均可，材料的可選擇性廣。
[0053]所述的濕法腐蝕導(dǎo)流槽的使用方法具體步驟如下:
[0054]第一步、導(dǎo)流槽2的頂端半環(huán)形掛鉤處掛緊所述杯形容器I的杯壁口并固定?。?br>[0055]第二步、在第一步的基礎(chǔ)上將基片5緊貼在基板4的一側(cè)，并插入導(dǎo)流槽2上的第四插槽6’”中；
[0056]第三步、在第二步的基礎(chǔ)上將濾網(wǎng)7插入導(dǎo)流槽2上的第三插槽6”中，剩下的兩個(gè)插槽即第一、第二 6、6’插槽用插槽蓋8蓋?。?br>[0057]第四步、在第三步的基礎(chǔ)上將溶液均勻倒入杯形容器I中并漫過導(dǎo)流槽2的頂端;
[0058]第五步、在第四步的基礎(chǔ)上用磁力攪拌器將磁力轉(zhuǎn)子3順時(shí)針恒速轉(zhuǎn)動；
[0059]第六步、導(dǎo)流槽2內(nèi)的溶液與基片5上的物質(zhì)均勻地進(jìn)行反應(yīng)。
[0060]實(shí)施例2:
[0061]如圖1-圖5所示，本實(shí)施例提供一種濕法腐蝕導(dǎo)流槽裝置，包括:
[0062]—個(gè)杯形容器I ;
[0063]—個(gè)導(dǎo)流槽2 ；
[0064]一個(gè)圓柱形的磁力轉(zhuǎn)子3;
[0065]一個(gè)頂部有蓋的長方體的基板4 ;
[0066]—個(gè)薄的可貼緊貼在基板的基片5 ;
[0067]相同大小的扇環(huán)形的第一、第二、第三、第四插槽6、6’、6”、6”’