專利名稱:用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動(dòng)組件；所述電解槽組件以及活動(dòng)組件均設(shè)置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用于盛放電解液的玻璃容器，以及設(shè)置在玻璃容器內(nèi)電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設(shè)置有直流電源；所述活動(dòng)組件包括頂梁，以及設(shè)置在所述頂梁上端并能繞所述頂梁旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臂；所述旋轉(zhuǎn)臂的末端設(shè)置有豎直連接件；以及驅(qū)動(dòng)所述豎直連接件升降的驅(qū)動(dòng)器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。本實(shí)用新型的電化學(xué)拋光裝置不僅操作簡(jiǎn)便，而且能夠批量進(jìn)行拋光操作，具有拋光速率快，及時(shí)去除污垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現(xiàn)高光潔度和光澤的效果。
【專利說明】用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及化學(xué)拋光的【技術(shù)領(lǐng)域】，更具體地說，本實(shí)用新型涉及一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置。

【背景技術(shù)】
[0002]為了提供高金屬物件表面的平整度，就需要去除金屬物件表面的毛邊、刮痕、焊縫以及氧化等缺陷，而這通常通過磨光或拋光的工序來完成。磨光一般要分多次進(jìn)行，以逐漸降低物件表面的粗糙度，磨光后的金屬表面可以達(dá)到0.1微米級(jí)別的粗糙度，但是對(duì)于磨光工藝而言，耗費(fèi)工時(shí)長，效率較為低下。因此，在現(xiàn)有技術(shù)中通常采用拋光工藝來提高金屬物件表面的平整度。拋光通常是采用機(jī)械和/或化學(xué)(包括電化學(xué))的方式進(jìn)行，經(jīng)過拋光后的金屬物件表面光滑、光澤度較高，而且還利于改善和提高金屬物件的各種物理化學(xué)性能，例如有利于改善耐蝕性、清潔度以及熱傳導(dǎo)等性能，有利于提高金屬基片的綜合性能，尤其是電化學(xué)拋光，其不僅能夠使得金屬物件表面平整，而且可以用于復(fù)雜形狀以及薄片狀金屬物件的拋光，但是現(xiàn)有技術(shù)中金屬物件的拋光通常是針對(duì)單一的基片進(jìn)行，其拋光生廣效率還有待進(jìn)一步提尚。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0003]為了解決現(xiàn)有技術(shù)中的上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型的目的在于提供一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置。
[0004]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型采用了以下技術(shù)方案:
[0005]一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動(dòng)組件；其特征在于:所述電解槽組件以及活動(dòng)組件均設(shè)置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用于盛放電解液的玻璃容器，以及設(shè)置在玻璃容器內(nèi)電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設(shè)置有直流電源；所述活動(dòng)組件包括頂梁，以及設(shè)置在所述頂梁上端并能繞所述頂梁旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臂；所述旋轉(zhuǎn)臂的末端設(shè)置有豎直連接件；以及驅(qū)動(dòng)所述豎直連接件升降的驅(qū)動(dòng)器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。
[0006]其中，所述陽極組件包括金屬框架，以及設(shè)置在所述金屬框架上用于放置金屬基片的多個(gè)陽極擱架。
[0007]其中，所述電解槽組件還包括設(shè)置在電解液內(nèi)的加熱線圈。
[0008]其中，所述電解槽組件還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器。
[0009]其中，所述基座組件包括用于支撐所述電解槽組件和活動(dòng)組件的支架，以及設(shè)置在所述支架下方的連接件，以及設(shè)置在連接件下端的滾輪。
[0010]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置具有以下有益效果:
[0011]本實(shí)用新型的電化學(xué)拋光裝置不僅操作簡(jiǎn)便，而且能夠批量進(jìn)行拋光操作，具有拋光速率快，及時(shí)去除污垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現(xiàn)高光潔度和光澤的效果。

【附圖說明】

[0012]圖1為實(shí)施例1所述用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置的整體結(jié)構(gòu)示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0013]以下將結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置做進(jìn)一步的闡述，以幫助本領(lǐng)域的技術(shù)人員對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)用新型構(gòu)思、技術(shù)方案有更完整、準(zhǔn)確和深入的理解。
[0014]實(shí)施例1
[0015]本實(shí)施例涉及一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，包括基座組件10、電解槽組件20和活動(dòng)組件30 ;所述基座組件10包括用于支撐所述電解槽組件20和活動(dòng)組件30的支架11，以及設(shè)置在所述支架下方的連接件12，以及設(shè)置在連接件下端的滾輪13。所述電解槽組件20包括用于盛放電解液的玻璃容器21，以及設(shè)置在玻璃容器21內(nèi)電解液中的陰極棒22和陽極組件23，所述陰極棒22和陽極組件23之間設(shè)置有直流電源(圖中未示出)，所述陽極組，23包括金屬框架27，以及設(shè)置在所述金屬框架27上用于放置金屬基片的多個(gè)陽極擱架24 ;所述電解槽組件20還包括設(shè)置在電解液內(nèi)的加熱線圈25，此外還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器26。所述活動(dòng)組件30包括頂梁31，以及設(shè)置在所述頂梁31上端并能繞所述頂梁旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臂32 ;所述旋轉(zhuǎn)臂的末端設(shè)置有豎直連接件33 ;以及驅(qū)動(dòng)所述豎直連接件升降的驅(qū)動(dòng)器34。本實(shí)施例的電化學(xué)拋光裝置不僅操作簡(jiǎn)便，而且能夠批量進(jìn)行拋光操作，具有拋光速率快，及時(shí)去除污垢以及毛邊，能夠使得金屬基片呈現(xiàn)高光潔度和光澤的效果。
[0016]對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言，具體實(shí)施例只是對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了示例性描述，顯然本實(shí)用新型具體實(shí)現(xiàn)并不受上述方式的限制，只要采用了本實(shí)用新型的方法構(gòu)思和技術(shù)方案進(jìn)行的各種非實(shí)質(zhì)性的改進(jìn)，或未經(jīng)改進(jìn)將本實(shí)用新型的構(gòu)思和技術(shù)方案直接應(yīng)用于其它場(chǎng)合的，均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，包括基座組件、電解槽組件和活動(dòng)組件；其特征在于:所述電解槽組件以及活動(dòng)組件均設(shè)置在所述基座組件上；所述電解槽組件包括用于盛放電解液的玻璃容器，以及設(shè)置在玻璃容器內(nèi)電解液中的陰極棒和陽極組件，所述陰極棒和陽極組件之間設(shè)置有直流電源；所述活動(dòng)組件包括頂梁，以及設(shè)置在所述頂梁上端并能繞所述頂梁旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)臂；所述旋轉(zhuǎn)臂的末端設(shè)置有豎直連接件；以及驅(qū)動(dòng)所述豎直連接件升降的驅(qū)動(dòng)器；所述豎直連接件的下端懸掛所述陽極組件。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，其特征在于:所述陽極組件包括金屬框架，以及設(shè)置在所述金屬框架上用于放置金屬基片的多個(gè)陽極擱架。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，其特征在于:所述電解槽組件還包括設(shè)置在電解液內(nèi)的加熱線圈。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，其特征在于:所述電解槽組件還包括控制所述加熱線圈的加熱控制器。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于金屬基片的電化學(xué)拋光裝置，其特征在于:所述基座組件包括用于支撐所述電解槽組件和活動(dòng)組件的支架，以及設(shè)置在所述支架下方的連接件，以及設(shè)置在連接件下端的滾輪。
【文檔編號(hào)】C25F3-16GK204298503SQ201420779218
【發(fā)明者】朱曉飛, 宋東虹 [申請(qǐng)人]朱曉飛