專利名稱：一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于發(fā)動(dòng)機(jī)缸套加工技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法。
背景技術(shù)：
目前缸套的加工方法，是鍍前珩磨提高內(nèi)孔的幾何尺寸精度及形位精度，對(duì)缸套半成品珩磨表面無(wú)平臺(tái)網(wǎng)紋要求，鍍鉻后直接進(jìn)行研磨加工，研磨后Mr值一般不到30％，且Rpk在0.5微米以上，RK多數(shù)在1.3～3.0微米間隨機(jī)變化，RVK有小于1.0的，也近1/3數(shù)超過(guò)2.0的，Mr1在6％左右，Mr不足30％，而且數(shù)值波動(dòng)太大，根本達(dá)不到歐II標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缸套內(nèi)壁的技術(shù)要求，傳統(tǒng)珩磨方法，鍍鉻研磨后無(wú)平臺(tái)網(wǎng)紋拋光珩磨，因研磨造成的Rz、Rpk增大的問(wèn)題未得到解決，導(dǎo)致發(fā)動(dòng)機(jī)前期磨合時(shí)期較長(zhǎng)，同時(shí)因磨合摩擦造成的功率損耗大，傳統(tǒng)珩磨工藝加工的缸套，同一缸套不同表面的Rk、RVK相差太大，深淺不一，各表面貯油量及潤(rùn)滑效果相差很大，這樣會(huì)導(dǎo)致各表面因磨損不同而造成缸孔形狀誤差逐漸增大，既增大了耗油量及廢氣排量，又降低了發(fā)動(dòng)機(jī)的功率。這是發(fā)動(dòng)機(jī)達(dá)不到歐II、歐III排放標(biāo)準(zhǔn)的主要原因之一。
三、發(fā)明目的本發(fā)明的目的在于改進(jìn)已有技術(shù)的不足而提供一種采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)、使缸套內(nèi)孔表面具有平臺(tái)網(wǎng)紋結(jié)構(gòu)、減少了潤(rùn)滑油的消耗、保證了緊急運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)潤(rùn)滑油的供給、發(fā)動(dòng)機(jī)不需要經(jīng)過(guò)磨合階段即可正常使用、減少了摩擦導(dǎo)致的功率損耗的平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法。
本發(fā)明的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，其特點(diǎn)是該方法包括以下步驟a、缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.14-0.16微米，RK在0.4～1.1微米變化，RVK在1.2～1.8微米，Mr1在4-8％，Mr2在75-85％；b、將珩磨后的缸套電鍍；c、電鍍后的缸套研磨前進(jìn)行平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值在70％-95％，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.15～0.2微米；d、進(jìn)行細(xì)珩磨，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.16-0.18微米，RK0.8-1微米，RVK1.3-1.5微米，Mr1在3-5％，Mr2在70-80％，Mr值在50％～80％。
本發(fā)明與已有技術(shù)相比具有以下顯著特點(diǎn)和積極效果鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.15微米左右，RK在0.4～1.1微米變化，RVK在1.2～1.8微米，Mr1在6％左右，Mr2在80％左右，從而為鍍后處理實(shí)現(xiàn)平臺(tái)網(wǎng)紋的鉻層結(jié)構(gòu)打好基礎(chǔ)，比傳統(tǒng)工藝增加了研磨前的平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，由于鍍鉻后缸套內(nèi)孔表面的粗糙度明顯增大，一般Ra增加至1.0～1.5微米，Mr則下降至30％以下，為了消除這一缺陷，研磨前先對(duì)鍍層表面實(shí)施平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值能提到70％以上，同時(shí)，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.15～0.2微米，這樣就為研磨后達(dá)到平臺(tái)網(wǎng)紋的要求創(chuàng)造了先決條件，在鍍后處理研磨基礎(chǔ)上進(jìn)行細(xì)珩磨，這種細(xì)珩磨關(guān)鍵是讓此工序的珩磨紋與鍍前珩磨紋保持一致，這種研磨后的細(xì)珩磨有拋光作用，從而使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.17微米左右，RK0.9微米左右，RVK1.4微米左右，Mr1在4％左右，Mr2在76％左右，Mr值在50％～80％，使鍍鉻缸套平臺(tái)網(wǎng)紋的各參數(shù)滿足了ISO13565-1、ISO13565-2標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)動(dòng)機(jī)廢氣排放達(dá)歐II、歐III標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缸套的技術(shù)要求。
四、具體實(shí)施方案實(shí)施例1，一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，是在缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.14-0.16微米，RK在0.4～1.1微米變化，RVK在1.2～1.8微米，Mr1在4-8％，Mr2在75-85％，為電鍍后處理實(shí)現(xiàn)平臺(tái)網(wǎng)紋的鉻層結(jié)構(gòu)打好基礎(chǔ)，將雙給進(jìn)珩磨后的缸套采用普通缸套電鍍工藝進(jìn)行電鍍，由于鍍鉻后缸套內(nèi)孔表面的粗糙度明顯增大，一般Ra增加至1.0～1.5微米，Mr則下降至30％以下，為了消除這一缺陷，研磨前先對(duì)鍍層表面實(shí)施平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值在70％-95％，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.15～0.2微米，這樣就為研磨后達(dá)到平臺(tái)網(wǎng)紋的要求創(chuàng)造了先決條，在鍍后處理研磨基礎(chǔ)上進(jìn)行細(xì)珩磨，這種細(xì)珩磨關(guān)鍵是讓此工序的珩磨紋與鍍前珩磨紋保持一致，這種研磨后的細(xì)珩磨有拋光作用，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.16-0.18微米，RK0.8-1微米，RVK1.3-1.5微米，Mr1在3-5％，Mr2在70-80％，Mr值在50％～80％，使鍍鉻缸套平臺(tái)網(wǎng)紋的各參數(shù)滿足了ISO13565-1、ISO13565-2標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)動(dòng)機(jī)廢氣排放達(dá)歐II、歐III標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缸套的技術(shù)要求。
實(shí)施例2，一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，是在缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.14微米，RK在0.4微米變化，RVK在1.2微米，Mr1在4％，Mr2在75％，將雙給進(jìn)珩磨后的缸套采用普通缸套電鍍工藝進(jìn)行電鍍，缸套研磨前先對(duì)鍍層表面實(shí)施平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值在70％，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.15微米，在研磨基礎(chǔ)上進(jìn)行細(xì)珩磨，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.16微米，RK0.8微米，RVK1.3微米，Mr1在3％，Mr2在70％，Mr值在50％，使鍍鉻缸套平臺(tái)網(wǎng)紋的各參數(shù)滿足了ISO13565-1、ISO13565-2標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)動(dòng)機(jī)廢氣排放達(dá)歐II、歐III標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缸套的技術(shù)要求。
實(shí)施例3，一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，是在缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.16微米，RK在1.1微米變化，RVK在1.8微米，Mr1在8％，Mr2在85％，將雙給進(jìn)珩磨后的缸套采用普通缸套電鍍工藝進(jìn)行電鍍，缸套研磨前先對(duì)鍍層表面實(shí)施平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值在95％，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.2微米，在研磨基礎(chǔ)上進(jìn)行細(xì)珩磨，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.18微米，RK1微米，RVK1.5微米，Mr1在5％，Mr2在80％，Mr值在80％，使鍍鉻缸套平臺(tái)網(wǎng)紋的各參數(shù)滿足了ISO13565-1、ISO13565-2標(biāo)準(zhǔn)及發(fā)動(dòng)機(jī)廢氣排放達(dá)歐II、歐III標(biāo)準(zhǔn)對(duì)缸套的技術(shù)要求。
權(quán)利要求
1.一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，其特征是該方法包括以下步驟a、缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，珩磨后微觀幾何形狀參數(shù)RPK在0.14-0.16微米，RK在0.4～1.1微米變化，RVK在1.2～1.8微米，Mr1在4-8％，Mr2在75-85％；b、將珩磨后的缸套電鍍；c、電鍍后的缸套研磨前進(jìn)行平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，經(jīng)平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨后，Mr值在70％-95％，Ra值下降至1.0微米以內(nèi)，其中Rpk值則下降到0.15～0.2微米；d、進(jìn)行細(xì)珩磨，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在RPK0.16-0.18微米，RK0.8-1微米，RVK1.3-1.5微米，Mr1在3-5％，Mr2在70-80％，Mr值在50％～80％。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種平臺(tái)網(wǎng)紋鍍鉻缸套的加工方法，是在缸套電鍍前采用雙進(jìn)給珩磨機(jī)，珩磨網(wǎng)紋及網(wǎng)紋平臺(tái)在同一工序的一次裝夾中完成，進(jìn)行電鍍，在研磨前先對(duì)鍍層表面實(shí)施平臺(tái)網(wǎng)紋珩磨，在研磨基礎(chǔ)上進(jìn)行細(xì)珩磨，使缸套內(nèi)孔表面的微觀幾何形狀參數(shù)最終控制在R
文檔編號(hào)C25D5/48GK1563507SQ200410023748
公開(kāi)日2005年1月12日 申請(qǐng)日期2004年3月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年3月18日
發(fā)明者唐寧, 董學(xué)平, 趙良學(xué), 程獎(jiǎng)榮, 喬文濤 申請(qǐng)人:煙臺(tái)萬(wàn)斯特有限公司