專利名稱：金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置及其方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于磁性材料領(lǐng)域，涉及磁性金屬薄膜的制備方法和裝置，特別涉及制備厚度為5～100μm，寬度為5～1000mm的金屬薄膜制備方法和裝置。
背景技術(shù)：
各種金屬薄膜如銅薄膜、坡莫合金薄膜、鐵鈷合金薄膜、鐵鈷鎳合金薄膜等在電子技術(shù)和電磁屏蔽技術(shù)中應(yīng)用廣泛，如何方便的制備它們成為一個很重要的問題。在以往的技術(shù)中制備金屬薄膜可以采用軋制、單輥噴帶和電沉積的方法。其中采用軋制制備金屬薄膜存在工序復(fù)雜、能源消耗大等缺點，單輥噴帶存在設(shè)備復(fù)雜、難以制備超薄帶等缺點，而電沉積相對來說具有成本低、薄膜表面質(zhì)量好、薄膜帶厚范圍寬等優(yōu)點，促使了電沉積制備金屬薄膜技術(shù)的發(fā)明和發(fā)展。如美國專利US1417464和US1543861所述，最基本和為人所知的技術(shù)是采用一個可以旋轉(zhuǎn)的導(dǎo)電輥部分浸入電解液中作為陰極，與其相對的至少有一個部分浸入電解液中的陽極，在陽極和陰極之間形成電場，就可以在陰極輥浸入電解液中那一部分的外表面沉積出一定厚度的金屬薄膜，當(dāng)沉積了金屬薄膜的旋轉(zhuǎn)出電解液后，就可以從陰極輥上剝離出帶狀的金屬薄膜并進行卷曲，由于陰極輥的不斷旋轉(zhuǎn)，金屬離子也是連續(xù)不斷的沉積在陰極輥上，從而連續(xù)的制備出金屬薄膜。這種制備方法的一個較大的缺點就是其厚度不均勻。這主要與其陽極的結(jié)構(gòu)形式有關(guān)。為了安裝方便，陽極一般做成兩個或更多的部分，每個部分小于四分之一圓，這樣安裝后在每個陽極部分之間存在一條窄縫，實踐發(fā)現(xiàn)這是造成鍍膜厚度不均的主要原因，后來的研究者雖然多次改進陽極結(jié)構(gòu)仍不能完全解決這個問題。此外由于受到陰極輥直徑的限制，浸入電解液中的部分弧長有限，其沉積效率比較低。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種沉積效率高，同時具有較高的表面質(zhì)量和厚度均勻的金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置及其方法。
依據(jù)上述目的，本發(fā)明的技術(shù)方案采用了如下技術(shù)措施①回轉(zhuǎn)循環(huán)運動的金屬帶作為電沉積基帶，因為金屬帶的長度和寬度不受限制，理論上可以無限擴大電沉積面積，因此增加了單位時間內(nèi)的電沉積效率，實際使用中，考慮到電鍍電源的功率、面積過大增加電流密度不均勻性等因素，應(yīng)該采用合理的帶寬和帶長；②金屬帶加工成首尾相連的封閉帶，這樣就相當(dāng)于保留了以往技術(shù)中的陰極輥的表面層，所不同的是該封閉帶的圓周長可以很大，在電鍍過程中可以有較大的面積浸入電鍍液中，因此保留了普通平面帶的好處；③為了能夠連續(xù)制備金屬薄膜，必須使封閉金屬帶能夠連續(xù)循環(huán)運動，本發(fā)明中設(shè)計了一個封閉金屬帶的支撐和驅(qū)動系統(tǒng)，使金屬帶浸入電鍍液中的大部分面積保持水平，并且使兩者之間發(fā)生相對運動；④采用平面的陽極并使陽極和其相對的金屬帶平面部分保持平行，可以使整個電沉積面積上沉積均勻；⑤采用合理設(shè)計的電鍍槽，使鍍液均勻進入陰陽極之間區(qū)域；⑥采用伺服電機驅(qū)動，PLC控制伺服電機的運動從而有效的控制封閉帶的運動速度，具有較高精度和穩(wěn)定性。
現(xiàn)結(jié)合附圖，對本發(fā)明作詳細(xì)說明。


附圖1是本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，附圖2是電鍍槽結(jié)構(gòu)示意圖，在附圖1、2中，1為支撐輥，2為封閉金屬帶，3為電鍍陽極，4為陰極電刷，5為電鍍液，6為由伺服電機驅(qū)動的支撐輥，7為剝離輥，8為電沉積金屬薄膜，9為清洗裝置，10為吹干裝置，11為烘干裝置，12為張力調(diào)節(jié)裝置，13為位移傳感器，14為浮輥，15為卷曲輥，16為電鍍液補充裝置，17、18為補液箱，19、20為流量計，21為電鍍液循環(huán)裝置，22為儲液箱，23為加熱器，24、25、26為過濾器，27為循環(huán)泵，28為電鍍槽，29、30、31、32、33為管路，34為清洗槽，36為固定輥，36、37、38、39為連接輥，40為電鍍槽的外殼，41為隔板，42、43為溢流槽隔板，44為主槽，45、46為溢流槽。
由圖看出，本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置由電鍍槽28、支撐輥1、6、剝離輥7、清洗裝置9、吹干裝置10、烘干裝置11、張力調(diào)節(jié)裝置12、卷曲輥15、電鍍液補充裝置16、電鍍液循環(huán)裝置21、控制系統(tǒng)和電鍍電源組成。
支撐輥1、6處于電鍍槽24內(nèi)，剝離輥7緊切靠支撐輥6，清洗裝置9、吹干裝置10、烘干裝置11、張力調(diào)節(jié)裝置12、卷曲輥15依次緊隨其后，并通過電沉積金屬薄膜帶8連接在一條生產(chǎn)線上，電鍍液補充裝置16和電鍍液循環(huán)裝置21處于電鍍槽28的側(cè)面或底部，而且電鍍液循環(huán)裝置21通過管路29、30、31與電鍍槽28相連，電鍍液補充裝置16中的兩個補液箱17、18分別通過管路32、33與電鍍液循環(huán)裝置21中的儲液箱22相連。
支撐輥1、6安置在電鍍槽28中的同一水平線上，且支撐輥6與伺服電機相連，封閉金屬帶2套裝在支撐輥1、6上，使之形成封閉金屬帶的支撐和驅(qū)動系統(tǒng)，使封閉金屬帶2連續(xù)循環(huán)運動，而且浸入電鍍液中的下半部分保持水平狀態(tài)，另外在電鍍液5中，至少有一個陽極3與封閉金屬帶2平行相對。
緊切靠支撐輥6的剝離輥7上安裝有剝離器，當(dāng)封閉金屬帶2的下半部分與剝離輥7相切靠時，剝離器便將沉積在封閉金屬帶2的下半部的金屬薄膜在線剝離下來，隨后進入清洗裝置9中。
清洗裝置9由清洗槽34、固定輥35和連接輥36、37組成。
張力調(diào)節(jié)裝置12由位移傳感器13、浮輥14和連接輥38、39組成。
電鍍液循環(huán)裝置21由儲液箱22、加熱器23、三個過濾器24、25、26和循環(huán)泵27組成。加熱器23處于儲液箱22內(nèi)，過濾器24、25處于連接管路29、30中，過濾器26處于儲液箱22與循環(huán)泵27的連接管路中。
電鍍液補充裝置16由兩組補液箱17、18和流量計19、20組成。
電鍍槽28由箱體40、隔板41、兩個溢流槽隔板42、43組成；兩個溢流槽隔板42、43與隔板41垂直連接，處于箱體40的底部，與箱體40結(jié)合，使電鍍槽28內(nèi)形成主槽44和兩個溢流槽45、46。主槽44由多孔的隔板分割成上下兩部分，鍍液循環(huán)時首先進入主槽44下部分，然后通過隔板上的小孔均勻進入電沉積區(qū)域。主槽上部的鍍液從金屬帶兩邊溢出，再從兩邊的溢流板進入溢流槽45、46回到儲液箱中作為電鍍陰極的封閉金屬帶2的材料可為不銹鋼、銅、鈦、鋁以及各種耐腐蝕的合金柔性帶中的任一種，其外表面必須經(jīng)過拋光達(dá)到鏡面狀態(tài)，而金屬帶的內(nèi)表面則不需要沉積金屬，需要采用特殊的工藝將內(nèi)表面處理成絕緣狀態(tài)，使處理后不導(dǎo)電，為了消除邊緣效應(yīng)，外表面的也需要處理成絕緣狀態(tài)，或采用屏蔽裝置消除邊緣效應(yīng)。該封閉金屬帶2通過兩輥支撐1、6預(yù)緊后，在帶上產(chǎn)生一定的張力，其中支撐輥6由伺服電機和減速器系統(tǒng)驅(qū)動，可以精確的控制封閉金屬帶8的運動速度。該封閉金屬帶的下平面部分水平浸入電鍍液一定深度，上平面部分露出電鍍液與陰極電刷緊密接觸。
作為電鍍陽極3的材料可為不銹鋼、銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鋁以及各種耐腐蝕的合金中任一種。為了使鍍液均勻順暢的進入陰陽極之間，一般將陽極加工成網(wǎng)狀，也可以加工成其它形狀。
電鍍陰極和電鍍陽極之間的距離可以調(diào)節(jié)。
本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積方法是以由支撐輥1和由伺服電機驅(qū)動的支撐輥6支撐的柔性封閉金屬帶2作為導(dǎo)電陰極，即電沉積基帶，處于電鍍槽28內(nèi)，當(dāng)封閉金屬帶2在電鍍槽28內(nèi)循環(huán)回轉(zhuǎn)的過程中，浸在待沉積金屬鹽的電鍍液內(nèi)的封閉金屬帶2的外表層就會電沉積一層金屬薄膜8，當(dāng)封閉金屬帶2的下半部分運動抵達(dá)剝離輥7時，金屬薄膜8緊靠剝離輥7，剝離輥7和封閉金屬帶2緊密接觸，并作反向運動，其作用是在線自動剝離金屬薄膜和防止金屬薄膜在剝離過程中撕裂，在線剝離后，再經(jīng)清洗裝置9在線清洗、吹干裝置10在線吹干、烘干裝置11在線烘干、張力調(diào)節(jié)裝置12在線調(diào)節(jié)張力，最后由卷曲裝置15卷曲成金屬薄膜帶卷；封閉金屬帶2不間連續(xù)運動，電鍍槽28中電鍍液不斷循環(huán)和補充，上述整個過程不間斷地連續(xù)進行，金屬薄膜帶則連續(xù)形成。
在上述過程中，清洗裝置主要是洗去金屬薄膜表面殘留的鍍液，可以是超聲波清洗或噴水清洗或多種方式聯(lián)合清洗。吹干裝置主要是對清洗后的金屬薄膜初步干燥，烘干裝置則是徹底蒸發(fā)薄膜表面的殘留的水。干燥后的金屬薄膜經(jīng)卷曲裝置在線卷曲，該裝置由步進電機驅(qū)動，可以實現(xiàn)有效控制卷曲速度。為了卷曲速度和沉積速度匹配，以及防止因卷曲過快扯斷薄膜，在卷曲裝置前設(shè)計了一組張力調(diào)節(jié)裝置，該裝置由位移傳感器和浮輥組成，位移傳感器的下端和浮輥相連，金屬薄膜繞過浮輥，浮輥的位置反應(yīng)了薄膜中的張力，位移傳感器將測定的位置信號傳給PLC，PLC控制卷曲裝置步進電機的速度。
為保證電沉積有效進行，電鍍槽28中的電鍍液5必須不斷補充和更新，為此，儲液箱22、過濾器24、25、26、循環(huán)泵27、電鍍槽28和相應(yīng)管路連成一封閉回路，在儲液箱的鍍液進口和出口處都采用了2級PP濾芯過濾，這樣有利于濾去鍍液中原有的雜質(zhì)和電鍍過程中產(chǎn)生的產(chǎn)物雜質(zhì)，保持鍍液的潔凈，電鍍槽28中的電鍍液使用后，經(jīng)管路29、30和過濾器24、25過濾后輸入鍍液循環(huán)裝置的儲液箱22中，鍍液補加裝置16中的補液箱17、18向儲液箱22中不斷補加新的電鍍液，經(jīng)過濾凈化的和新鮮的電鍍液再由循環(huán)泵27輸入電鍍槽28，形成在線循環(huán)。
為了控制鍍液溫度，在儲液箱中安放了一組加熱器23加熱鍍液，鍍液的溫度采用傳感器測量反饋控制加熱器的工作狀態(tài)，使鍍液始終保持在最適合的沉積溫度。當(dāng)儲液箱中的鍍液循環(huán)一定時間后，鍍液中的金屬離子濃度就會下降，這時就可以通過鍍液補加裝置補充鍍液，其補充量通過電鍍電源上的安時計控制流量計添加，使鍍液中的離子濃度恢復(fù)到合適的區(qū)域。如果鍍純金屬薄膜則需要分別補充主鹽電鍍液和電鍍添加液，因此需要兩組補液裝置，沉積二元合金薄膜則需要兩種主鹽電鍍液和電鍍添加液，因此需要三組補液裝置，依此類推。
電鍍電源可以采用直流或脈沖兩種電源進行電沉積。卷曲輥15由步進電機帶動。
在整個電沉積過程中，為了滿足不同的電沉積工藝，該設(shè)備的控制系統(tǒng)采用PLC控制，觸摸屏人機界面，具有控制方便，自動化程度高的優(yōu)點?？刂葡到y(tǒng)采用PLC控制，人機界面采用觸摸屏，可以控制鍍液溫度、伺服電機運動狀態(tài)、步進電機運動狀態(tài)。
本發(fā)明連續(xù)電沉積方法所采用的電鍍液為硫酸鹽電鍍液。待沉積金屬的硫酸鹽80～300g/L，導(dǎo)電鹽使用氯化物鹽類30～80g/L，緩沖劑20～100g/L，絡(luò)合劑30～80g/L，光亮劑1～6g/L，輔助劑0.1～1.0g/L。
本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積方法的具體工藝參數(shù)如下電沉積溫度50～70℃；電解液的pH值范圍2.5～4.0；電沉積陰極電流密度1.0～10.0A/dm2；電沉積時間為5～50min；鍍液采用流動循環(huán)方式攪拌；電沉積過程中陰陽極面積比1∶(2.0～5.0)；陰陽極間距為10～30mm；陰極運動速度5～20m/h本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積方法的具體工藝步驟如下(1)在儲液箱22中裝入配好的電鍍液并混合均勻，補液箱17、18中裝入配好的各種主鹽電鍍液和添加液，備用；(2)打開循環(huán)泵27向電鍍槽28中注入電鍍液至溢出；(3)打開電鍍電源，設(shè)置電沉積參數(shù)，靜止?fàn)顟B(tài)向金屬帶2上沉積薄膜一段時間；(4)在觸摸屏上設(shè)置伺服電機運動參數(shù)和步進電機運動初始參數(shù)，開始連續(xù)鍍膜；(5)當(dāng)封閉金屬帶2運動時，浸在鍍液中的部分就會沉積上一層金屬薄膜，當(dāng)沉積金屬薄膜旋轉(zhuǎn)出鍍液以后，電沉積的金屬薄膜在切靠剝離輥時金屬薄膜被剝離，剝離后經(jīng)過清洗裝置9清洗、吹干裝置10吹干、烘干裝置11烘干、張力調(diào)節(jié)裝置12調(diào)節(jié)張力，最后由卷曲裝置15卷曲；(6)封閉金屬帶2不間斷運動，電鍍槽28中液體不斷循環(huán)和補充，上述制備過程可以連續(xù)進行。
采用本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積制備裝置及方法，可以制備厚度為5～100μm，寬度為5～1000mm的金屬薄膜。金屬薄膜的性能可達(dá)到如下指標(biāo)飽和磁感應(yīng)強度為0.8～1.2T，矯頑力為0.20～0.80Oe，最大初始磁導(dǎo)率為4.0×104～6.0×104，抗拉強度為1.2～2.0Gpa，電阻率為30～50μΩ.cm。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有如下優(yōu)點1.采用電沉積方式制備金屬薄膜，可以制備多種金屬薄膜，并且成本低廉，節(jié)約能源；2.可以制備的金屬薄膜厚度和寬度范圍大；3.通過條帶狀電鍍陰極，解決了輥式鍍膜設(shè)備的諸多缺點，使得陰極更換簡單、寬度可調(diào)，而且電沉積效率高，鍍膜均勻度好，制備的金屬薄膜表面質(zhì)量好；4.本發(fā)明提供的設(shè)備自動化程度高，操作方便。
具體實施例方式
實施例根據(jù)本發(fā)明所述的金屬薄膜的連續(xù)電沉積裝置及方法，制備了三批金屬薄膜，三批金屬薄膜的化學(xué)成分如表1所示。
制備的具體工藝步驟如下①配備電鍍液，表2列出三批電鍍液的具體組份，并將配備的電鍍液加入電鍍槽28、儲液箱22和補液箱17、18②配制導(dǎo)電陰極和陽極，所配制導(dǎo)電陰極和陽極及有關(guān)參數(shù)如表3所示。導(dǎo)電陰極選用柔性好的金屬帶，按要求制備好，并套裝在電鍍槽內(nèi)的兩個支撐棍1、6上，且首尾相接，其陽極選用板材，也按要求制備好，并設(shè)制在電鍍槽內(nèi)的下部，與金屬帶相平行。
③打開循環(huán)泵27向電鍍主槽28中注入電鍍液至溢出，鍍液循環(huán)速度列入表4中。
④設(shè)定電沉積電流密度，按照陰極金屬帶的面積計算需要的電流大小，打開電鍍電源，設(shè)置電沉積參數(shù)，靜止?fàn)顟B(tài)向金屬帶上沉積薄膜10分鐘；電沉積參數(shù)及有關(guān)參數(shù)如表4所示。
⑤在觸摸屏上設(shè)置伺服電機運動參數(shù)和步進電機運動初始參數(shù)，開始連續(xù)鍍膜；⑥當(dāng)封閉金屬帶2運動時，浸在電鍍液中的部分就會沉積上一層金屬薄膜，當(dāng)金屬薄膜旋轉(zhuǎn)出鍍液后，電沉積的鎳金屬薄膜經(jīng)剝離輥7剝離后經(jīng)過清洗裝置9清洗、吹干裝置10吹干、烘干裝置11烘干、張力調(diào)節(jié)裝置12調(diào)節(jié)張力，最后由卷曲裝置15卷曲。制成本發(fā)明所述的金屬薄膜⑦封閉金屬帶2不間斷運動，電鍍槽28中電鍍液不斷循環(huán)和補充，上述制備過程可以連續(xù)進行。
對所制成的三批金屬薄膜進行性能測試，測試結(jié)果列入表5中。
表1實施例合金薄膜的化學(xué)成分(原子百分比) 表2實施例電解水溶液的組分(g/L)
表3實施例導(dǎo)電陰極和陽極及有關(guān)參數(shù) 表4實施例電沉積的工藝參數(shù)
表5 實施例性能測試結(jié)果
權(quán)利要求
1.一種金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置，其特征在于該裝直由電鍍槽(28)、支撐輥(1、6)、剝離輥(7)、清洗裝置(9)、吹干裝置(10)、烘干裝置(11)、張力調(diào)節(jié)裝置(12)、卷曲輥(15)、電鍍液補充裝置(16)、電鍍液循環(huán)裝置(21)、控制系統(tǒng)和電鍍電源組成；支撐輥(1、6)處于電鍍槽(28)內(nèi)，剝離輥(7)緊貼支撐輥(6)，清洗置(9)、吹干裝置(10)、烘干裝置(11)、張力調(diào)節(jié)裝置(12)、卷曲輥(15)依次緊隨其后，并通過電沉積金屬薄膜帶(8)連接在一條生產(chǎn)線上，電鍍液補充裝置(16)和電鍍液循環(huán)裝置(21)處于電鍍槽(28)的側(cè)面或底部，而且電鍍液循環(huán)裝置(21)通過管路(29、30、31)與電鍍槽(28)相連，電鍍液補充裝置(16)中的兩個補液箱(17、18)分別通過管路(32、33)與電鍍液循環(huán)裝置(21)中的儲液箱(22)相連。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于清洗裝置(9)由清洗槽(34)、浸入液體的固定輥(35)和連接輥(36、37)組成。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于張力調(diào)節(jié)裝置(12)由位移傳感器(13)、浮輥(14)和連接輥(38、39)組成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于電鍍液循環(huán)裝置(21)由儲液箱(22)、加熱器(23)、三個過濾器(24、25、26)和循環(huán)泵(27)組成；加熱器(23)處于儲液箱(22)內(nèi)，過濾器(24、25)處于連接管路(29、30)中，過濾器(26)處于儲液箱(22)與循環(huán)泵(27)的連接管路中。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于電鍍液補充裝置(16)由至少兩組補液箱(17、18)和流量計(19、20)組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于電鍍槽(28)由箱體(40)隔板(41)、兩個溢流槽隔板(42、43)組成；兩個溢流槽隔板(42、43)與隔板(41)垂直連接，處于箱體(40)的底部，與箱體(40)結(jié)合，使電鍍槽(24)內(nèi)形成主槽(44)和兩個溢流槽(45、46)。
7.一種利用權(quán)利要求1所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置所進行的金屬薄膜的連續(xù)電沉積方法，其特征在于以處于電鍍槽(28)內(nèi)的柔性封閉金屬帶(2)作為電沉積基帶，當(dāng)封閉金屬帶(2)在電鍍槽(24)內(nèi)循環(huán)回轉(zhuǎn)的過程中，浸在電鍍液內(nèi)的下半部分就會電沉積一層金屬薄膜(8)，該金屬薄膜(8)經(jīng)剝離輥(7)在線剝離后，再經(jīng)清洗裝置(9)在線清洗、吹干裝置(10)在線吹干、烘干裝置(11)在線烘干、張力調(diào)節(jié)裝置(12)在線調(diào)節(jié)張力，最后由卷曲裝置(15)卷曲成金屬薄膜帶卷；封閉金屬帶(2)不間斷連續(xù)運動，電鍍槽(28)中電鍍液不斷循環(huán)和補充，上述整個過程不間斷地連續(xù)進行，金屬薄膜帶(8)則連續(xù)形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于支撐輥(1、6)安置在電鍍槽(28)中的同一水平線上，且支撐輥(6)與伺服電機相連，使之形成封閉金屬帶的支撐和驅(qū)動系統(tǒng)，封閉金屬帶(2)作為電沉積基帶，并被帶動作連續(xù)循環(huán)運動，而且浸入電鍍液中的下半部分保持水平狀態(tài)，其上部與陰極電刷(4)緊密接觸，其下部浸入含有待沉積的金屬鹽的電鍍液(5)中，并與至少一個陽極(3)平行面對。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于的電鍍槽(28)中的電鍍液(5)與鍍液循環(huán)裝置(21)中的電鍍液之間形成封閉循環(huán)，電鍍槽(28)中的電鍍液使用后，經(jīng)管路(29、30)和過濾器(24、25)過濾后輸入鍍液循環(huán)裝置的儲液箱(22)中，鍍液補加裝置(16)中的補液箱(17、18)則向儲液箱(22)中不斷補加新的電鍍液，凈化的和新鮮的電鍍液再由循環(huán)泵(27)輸入電鍍槽(28)，形成電鍍液在線循環(huán)。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于作為電鍍陰極的封閉金屬帶(2)的材料為不銹鋼、銅、鈦、鋁以及各種耐腐蝕的合金柔性帶中的任一種，其外表面必須經(jīng)過拋光達(dá)到鏡面狀態(tài)，內(nèi)表面經(jīng)過處理后不導(dǎo)電。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于作為電鍍陽極(3)的材料為不銹鋼、銅、鎳、鐵、鈷、鈦、鋁以及各種耐腐蝕的合金網(wǎng)或平板。
12.根據(jù)權(quán)利要求7、10、11所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于電鍍陰極和電鍍陽極之間的距離可以調(diào)節(jié)。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于電鍍電源采用直流或脈沖兩種電源進行電沉積。
14.根據(jù)權(quán)利要求7所述的金屬薄膜連續(xù)電沉積方法，其特征在于控制系統(tǒng)采用PLC控制，人機界面采用觸摸屏，可以控制鍍液溫度、伺服電機運動狀態(tài)、步進電機運動狀態(tài)。
全文摘要
本發(fā)明屬于磁性材料領(lǐng)域，涉及金屬薄膜的制備方法和裝置。本發(fā)明金屬薄膜連續(xù)電沉積裝置由電鍍槽、支撐輥、剝離輥、清洗裝置、吹干裝置、烘干裝置、張力調(diào)節(jié)裝置、卷曲裝置、電鍍液補充裝置、電鍍液循環(huán)裝置、控制系統(tǒng)和電鍍電源組成；所述的連續(xù)電沉積方法，以柔性封閉金屬帶作為電沉積基帶，當(dāng)封閉金屬帶在電鍍槽內(nèi)循環(huán)回轉(zhuǎn)的過程中、浸在電鍍液內(nèi)的部分就會電沉積一層金屬薄膜，該金屬薄膜先后經(jīng)在線剝離、清洗、吹干、烘干和張力調(diào)節(jié)后由卷曲裝置卷曲成金屬薄膜帶卷；封閉金屬帶不間斷連續(xù)運動，電鍍槽中電鍍液不斷循環(huán)和補充，整個過程不間斷地連續(xù)進行，金屬薄膜帶則連續(xù)形成。
文檔編號C25D1/04GK1793434SQ200510127810
公開日2006年6月28日 申請日期2005年12月6日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月6日
發(fā)明者盧志超, 倪曉俊, 張俊峰, 孫克, 劉天成, 張宏浩, 韓偉, 李德仁, 周少雄 申請人:鋼鐵研究總院, 安泰科技股份有限公司