專利名稱：去除金屬表面污染的電解去污裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及去除表面污染的裝置，具體地說涉及一種去除金屬表面污染的電解去污裝置。
背景技術(shù)：
國外曾將電解去污技術(shù)用于放射性去污，并開發(fā)出很多電解去污裝置，但多為槽式，只適于小型金屬部件的電解去污，對于大型金屬設(shè)備、管道則不適用。核設(shè)施退役去污時有許多大型金屬設(shè)備、管道經(jīng)普通去污后遺留下污染熱點，該污染熱點使用普通去污方法無法去除，對整個金屬設(shè)備、管道電解去污也不可能實現(xiàn)，而且二次廢物產(chǎn)生量過大，去污費用過高，很不經(jīng)濟；如果不對污染熱點去污，金屬廢物無法降級、再循環(huán)、再利用，金屬廢物產(chǎn)生量大，處置費用過高，也很不經(jīng)濟，因此大型金屬設(shè)備、管道的污染熱點是退役去污的難點。開發(fā)一種用于核設(shè)施大型金屬設(shè)備、管道表面污染熱點去污的電解去污裝置具有重要意義。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對現(xiàn)有技術(shù)中無法解決的大型金屬設(shè)備、管道熱點去污問題，提供一種適用于大型金屬設(shè)備、管道表面污染去除的電解去污裝置。
本發(fā)明去除金屬表面污染的電解去污裝置包括能夠抽真空的外腔和放置電解液的內(nèi)腔，外腔設(shè)有抽真空口，內(nèi)腔設(shè)有進液口和出液口，進液口和出液口均伸出外腔，陰極置于內(nèi)腔中，陰極的端部伸出內(nèi)腔與電源的負(fù)極相連，待去污部件作為陽極與電源的正極相連，電解去污裝置與待去污部件接觸的一側(cè)的表面上均設(shè)有密封墊。
如上所述的電解去污裝置，與待去污部件接觸的電解去污裝置一側(cè)的內(nèi)腔突出于外腔，以適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染，同時，置于內(nèi)腔中的陰極為圓弧型。
如上所述的電解去污裝置，與待去污部件接觸的電解去污裝置一側(cè)的內(nèi)腔和外腔平齊，以適用于去除金屬設(shè)備表面污染，同時，置于內(nèi)腔中的陰極為平板型。
本發(fā)明所述的電解去污裝置，采用真空吸附的方式將去污裝置吸附在金屬設(shè)備、管道的表面上，去污裝置為雙腔結(jié)構(gòu)，電解液可在內(nèi)腔循環(huán)進行電解去污，而外腔則維持一定真空度將去污裝置固定在去污工作面上。整個裝置體積小、重量輕，去污時裝置安裝快速、簡便，可減少工作人員受照。該裝置針對大型金屬設(shè)備、管道熱點去污，而不需對整個管道設(shè)備進行去污，從而大大減少了二次廢物產(chǎn)生量，提高了工作效率，降低了去污費用，去污后的金屬廢物可以通過降級、再循環(huán)、再利用，降低處置費用，實現(xiàn)廢物最小化。


圖1為電解去污裝置(適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染)示意圖；圖2為電解去污裝置(適用于去除金屬設(shè)備表面污染)示意圖。
圖中1.外腔；2.待去污部件；3.內(nèi)腔；4.密封墊；5.進液口；6.抽真空口；7.陰極；8.出液口；9.電源。
具體實施例方式
實施例1下面結(jié)合附圖1對電解去污裝置(適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染)作具體描述電解去污裝置包括外腔1和內(nèi)腔3，外腔1設(shè)有抽真空口6，內(nèi)腔3設(shè)有進液口5和出液口8，進液口5和出液口8均伸出外腔1，陰極7為圓弧型(適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染)置于內(nèi)腔3中，陰極7的端部伸出內(nèi)腔3與電源9的負(fù)極相連，待去污部件2作為陽極與電源9的正極相連，電解去污裝置與待去污部件2接觸的一側(cè)的表面上均設(shè)有密封墊4。
進行去污時，將待去污部件2(待去污管道)作為陽極接電源9正極，去污裝置設(shè)有的陰極7(適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染)接電源9負(fù)極，將去污裝置放置在金屬管道內(nèi)表面的污染區(qū)域，用真空泵通過外腔1設(shè)有的抽真空口6抽真空，使去污裝置的外腔1具有一定真空度，從而去污裝置通過真空吸附固定在去污區(qū)域，然后向去污裝置的內(nèi)腔3加入電解液，使電解液充滿內(nèi)腔3，在電流密度0.1～0.6A/cm2下電解一段時間，隨著陽極金屬表面的電解溶解，附著在金屬表面的放射性污染隨金屬表面的溶解進入電解液中，從而達到去除放射性污染的目的。
電解完畢后，排出去污裝置內(nèi)腔3里的電解液，將漂洗液(水)加入去污裝置的內(nèi)腔3對殘留在金屬管道內(nèi)表面的電解液進行漂洗，漂洗的同時外腔1依然維持一定真空度，去污裝置依然通過真空吸附固定在去污區(qū)域；漂洗結(jié)束，排出去污裝置內(nèi)腔3里的漂洗液(水)，解除去污裝置在去污區(qū)域的真空吸附固定，通風(fēng)干燥。
實施例2下面結(jié)合附圖2對電解去污裝置(適用于去除金屬設(shè)備表面污染)作具體描述電解去污裝置包括外腔1和內(nèi)腔3，外腔1設(shè)有抽真空口6，內(nèi)腔3設(shè)有進液口5和出液口8，進液口5和出液口8均伸出外腔1，陰極7為平板型(適用于去除金屬設(shè)備表面污染)置于內(nèi)腔3中，陰極7的端部伸出內(nèi)腔3與電源9的負(fù)極相連，待去污部件2作為陽極與電源9的正極相連，電解去污裝置與待去污部件2接觸的一側(cè)的表面上均設(shè)有密封墊4。
進行去污時，將待去污部件2(待去污設(shè)備)作為陽極接電源9正極，去污裝置設(shè)有的陰極7(適用于去除金屬設(shè)備表面污染)接電源9負(fù)極，將去污裝置放置在金屬設(shè)備表面的污染區(qū)域，用真空泵通過外腔1設(shè)有的抽真空口6抽真空，使去污裝置的外腔1具有一定真空度，從而去污裝置通過真空吸附固定在去污區(qū)域，然后向去污裝置的內(nèi)腔3加入電解液，使電解液充滿內(nèi)腔3，在電流密度0.1～0.6A/cm2下電解一段時間，隨著陽極金屬表面的電解溶解，附著在金屬表面的放射性污染隨金屬表面的溶解進入電解液中，從而達到去除放射性污染的目的。
電解完畢后，排出去污裝置內(nèi)腔3里的電解液，將漂洗液(水)加入去污裝置的內(nèi)腔3對殘留在金屬設(shè)備表面的電解液進行漂洗，漂洗的同時外腔1依然維持一定真空度，去污裝置依然通過真空吸附固定在去污區(qū)域；漂洗結(jié)束，排出去污裝置內(nèi)腔3里的漂洗液(水)，解除去污裝置在去污區(qū)域的真空吸附固定，通風(fēng)干燥。
權(quán)利要求
1. 一種去除金屬表面污染的電解去污裝置，其特征在于該裝置包括能夠抽真空的外腔(1)和放置電解液的內(nèi)腔(3)，外腔(1)設(shè)有抽真空口(6)，內(nèi)腔(3)設(shè)有進液口(5)和出液口(8)，進液口(5)和出液口(8)均伸出外腔(1)，陰極(7)置于內(nèi)腔(3)中，陰極(7)的端部伸出內(nèi)腔(3)與電源(9)的負(fù)極相連，待去污部件(2)作為陽極與電源(9)的正極相連，電解去污裝置與待去污部件(2)接觸的一側(cè)的表面上均設(shè)有密封墊(4)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解去污裝置，其特征在于與待去污部件(2)接觸的電解去污裝置一側(cè)的內(nèi)腔突出于外腔，以適用于去除金屬管道內(nèi)表面污染，同時，置于內(nèi)腔中的陰極為圓弧型。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電解去污裝置，其特征在于與待去污部件(2)接觸的電解去污裝置一側(cè)的內(nèi)腔和外腔平齊，以適用于去除金屬設(shè)備表面污染，同時，置于內(nèi)腔中的陰極為平板型。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種去除金屬表面污染的電解去污裝置。該裝置包括能夠抽真空的外腔和放置電解液的內(nèi)腔，外腔設(shè)有抽真空口，內(nèi)腔設(shè)有進液口和出液口，進液口和出液口均伸出外腔，陰極置于內(nèi)腔中，陰極的端部伸出內(nèi)腔與電源的負(fù)極相連，待去污部件作為陽極與電源的正極相連，電解去污裝置與待去污部件接觸的一側(cè)的表面上均設(shè)有密封墊。本發(fā)明解決了現(xiàn)有技術(shù)中無法解決的大型金屬設(shè)備、管道熱點去污問題，不需對整個管道設(shè)備進行去污，從而大大減少了二次廢物產(chǎn)生量，提高了工作效率，降低了去污費用，去污后的金屬廢物可以通過降級、再循環(huán)、再利用，降低處置費用，實現(xiàn)廢物最小化。
文檔編號C25F7/00GK1986903SQ20051013500
公開日2007年6月27日 申請日期2005年12月23日 優(yōu)先權(quán)日2005年12月23日
發(fā)明者董毅漫 申請人:中國輻射防護研究院