專利名稱：組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于電鍍?cè)O(shè)備領(lǐng)域，特別是一種組裝式電鍍生產(chǎn)用組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，適用于由工件組裝成電鍍腔的電鍍，例如板坯連鑄機(jī)結(jié)晶器銅板的電鍍。
背景技術(shù)：
在組裝式電鍍生產(chǎn)過程中，鍍液儲(chǔ)存槽與生產(chǎn)工位之間用管道、閥門、排空口等相互連接，生產(chǎn)時(shí)，將預(yù)處理合格的工件組裝成內(nèi)腔寬度一致的矩形組件，用相適應(yīng)的密封材料與生產(chǎn)工位組成一體，再通過分設(shè)的管道系統(tǒng)分別將活化液，鍍液等輸送到生產(chǎn)工位上的矩形組件腔內(nèi)，按各項(xiàng)生產(chǎn)工序的工藝參數(shù)進(jìn)行生產(chǎn)。這種生產(chǎn)設(shè)備的缺點(diǎn)是第一、鍍液處于相對(duì)靜止?fàn)顟B(tài)，電鍍生產(chǎn)工位區(qū)域內(nèi)的鍍液組分各項(xiàng)工藝參數(shù)不夠均勻一致，使得電鍍所得到的鍍層達(dá)不到設(shè)計(jì)要求。
第二、在電鍍生產(chǎn)過程中，會(huì)在鍍液中產(chǎn)生并積累金屬雜質(zhì)，這會(huì)對(duì)電鍍質(zhì)量和效果造成不良影響，導(dǎo)致鍍層質(zhì)量不穩(wěn)定，常規(guī)的電解凈化是不能和電鍍生產(chǎn)同時(shí)進(jìn)行的，而是按照電解凈化→生產(chǎn)→金屬雜質(zhì)積累超標(biāo)→再電解凈化→再生產(chǎn)的方式循環(huán)進(jìn)行的，這就會(huì)嚴(yán)重影響電鍍生產(chǎn)效率。因此需要有一種能根據(jù)鍍液中的有害金屬雜質(zhì)含量及時(shí)消除有害金屬雜質(zhì)的裝置來確保鍍層質(zhì)量和電鍍生產(chǎn)的順利進(jìn)行而又不必中止電鍍生產(chǎn)過程。
第三、在組裝式電鍍生產(chǎn)過程中，為了提高鍍層的外觀和內(nèi)在質(zhì)量，盡可能地減少鍍液中的不溶性固體顆粒含量，同時(shí)保持鍍液組分和工藝因素的均勻性是非常重要的。這就需要使用過濾裝置來濾除鍍液中的固體顆粒，目前使用的過濾裝置普遍存在兩方面的缺陷其一是不能保持在整個(gè)生產(chǎn)過程中對(duì)鍍液進(jìn)行完整、連續(xù)地過濾；其二是循環(huán)過濾過程對(duì)改善鍍液組分和工藝因素均勻性的作用甚微，必須輔之以攪拌裝置進(jìn)行攪拌，這就增加了設(shè)備的復(fù)雜程度，因此必須加以改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種帶有能均勻分散鍍液組分并使組裝式電鍍生產(chǎn)區(qū)域內(nèi)的各項(xiàng)工藝參數(shù)趨于一致，同時(shí)與控制液位高度的鍍液溢流裝置形成連續(xù)的循環(huán)回路的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備。
本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種帶有能夠在電鍍生產(chǎn)過程中連續(xù)消除電鍍液中的金屬雜質(zhì)的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備。
本發(fā)明的又一個(gè)目的是提供一種帶有既能連續(xù)過濾鍍液，又能在過濾過程中對(duì)鍍液起到攪拌作用的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備。
本發(fā)明的目的是通過下述技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)的按照本發(fā)明的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍液儲(chǔ)存槽、電鍍工位、兩者之間的連接管路、鍍液輸送泵、添加劑裝置、pH值控制裝置、電極，其特征在于所述的電鍍工位上組裝的電鍍腔內(nèi)設(shè)有電鍍液均勻分散裝置，該裝置包括與組裝式電鍍生產(chǎn)工位進(jìn)液口相連接的安裝定位管，連接在此安裝定位管上的四通，通過連接管與此四通兩側(cè)相連接的三通，與此三通相連接的均勻分散鍍液的噴射管，連接在四通上側(cè)的卡緊管，分別設(shè)在各噴射管端和卡緊管上端的管端封頭，與所述的卡緊管相連接的固定卡件。
所述的安裝定位管、四通、卡緊管各二件，相應(yīng)的三通四個(gè)，管端封頭為六個(gè)，共同組成一個(gè)整體組裝件。
所述的固定卡件由套在此卡緊管端頭的壓帽，連接在此壓帽上的螺桿，與此螺桿作螺紋連接的卡在陽極杠下的卡板所組成。
所述的整體組裝件總長(zhǎng)度等于組裝式電鍍組裝件內(nèi)腔長(zhǎng)度減去18～22mm，在噴射管周壁α角區(qū)域內(nèi)鉆噴射孔，孔徑1.0～3.0mm，孔間距15～30mm，α角為水平面向下10°～45°角。
按照本發(fā)明，所述的鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)設(shè)有連續(xù)電解凈化裝置，該裝置由電解凈化直流電源，通過導(dǎo)線與此電解凈化直流電源相連接的設(shè)置在鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)的模擬陰極和陽極所組成。
所述的模擬陰極采用0.3mm～1.0mm厚的金屬薄板，板長(zhǎng)800～1200mm，寬800～1000mm，每隔100～150mm距離內(nèi)加工成100～150度夾角的瓦楞形。
所述的陽極采用與鍍液主鹽的金屬離子一致的金屬材料件，并套上雙層丙綸布陽極袋，所述的直流電源為30～100A/0～12V。
按照本發(fā)明，所述的鍍液儲(chǔ)存槽底部設(shè)有連續(xù)循環(huán)過濾裝置，其特征在于包括設(shè)在鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)的吸液環(huán)形管路，此環(huán)形管路通過穿越鍍液儲(chǔ)存槽側(cè)壁的管件與一槽外的過濾機(jī)入口相連接，過濾機(jī)的濾液出口與鍍液返回管相連接，返回管跨過儲(chǔ)存槽壁頂端引入槽內(nèi)。
所述的吸液環(huán)形管路靠近儲(chǔ)存槽邊壁布置，在環(huán)形管路的下斜方，每隔50-150mm設(shè)一個(gè)進(jìn)液孔，此進(jìn)液孔與水平面夾角為0～45°，吸液環(huán)形管路內(nèi)徑為30～80mm，進(jìn)液孔的孔徑為8～15mm，所述的返回管路與儲(chǔ)存槽壁成45°夾角，末端切成15～30°斜角切口。
按照本發(fā)明，所述的安裝定位管、四通、噴射管、卡緊管、連接管、管端封頭、固定卡件、吸液環(huán)形管路、返回管均為耐酸堿、耐溫70℃以上的非金屬材料件或鈦金屬件。
采用本發(fā)明時(shí)，從鍍液儲(chǔ)存槽送往工位的鍍液是通過噴射管噴出的，能使工位區(qū)域內(nèi)的鍍液組分和各項(xiàng)工藝參數(shù)更趨于均勻一致，同時(shí)使各部位的流動(dòng)速度和流動(dòng)方向形成有規(guī)律的差別。正是這種差別使組裝式電鍍所生產(chǎn)的鍍層上半部硬度低、韌性好，下半部硬度高、耐磨性好，特別適合特定產(chǎn)品的實(shí)際使用工況條件，從而獲得更好的實(shí)際使用效果。
通過將本裝置與控制液位高度的鍍液溢流裝置相連接，可以形成連續(xù)循環(huán)回路。
采用本發(fā)明時(shí)，應(yīng)通過相應(yīng)的分析儀器，分析鍍液中的各種有害雜質(zhì)含量，并與工藝標(biāo)準(zhǔn)進(jìn)行對(duì)比，根據(jù)超標(biāo)程度選取對(duì)應(yīng)的電解凈化參數(shù)，并隨時(shí)按照儲(chǔ)存槽內(nèi)鍍液的多少調(diào)整電解凈化參數(shù)，同時(shí)按生產(chǎn)作業(yè)頻度分析對(duì)比及時(shí)調(diào)整電解凈化強(qiáng)度，隨時(shí)補(bǔ)充陽極材料，定期更換陽極袋和陰極。采用本發(fā)明就可以在不中止電鍍生產(chǎn)的條件下對(duì)鍍液進(jìn)行連續(xù)電解凈化，使生產(chǎn)和凈化互不干擾，并按分析對(duì)比結(jié)果調(diào)整電解凈化參數(shù)與強(qiáng)度，從而保證鍍層質(zhì)量的穩(wěn)定與提高。
采用本發(fā)明時(shí)，在過濾機(jī)動(dòng)力作用下儲(chǔ)存槽中的鍍液通過吸液循環(huán)管路進(jìn)入過濾機(jī)內(nèi)，濾掉固體顆粒后的鍍液通過返回管噴入儲(chǔ)存槽內(nèi)，對(duì)鍍液起到攪拌作用。這種裝置既能在整個(gè)電鍍生產(chǎn)過程中保持對(duì)鍍液進(jìn)行完整的連續(xù)過濾，又能使鍍液組分和工藝因素均勻性得到最大限度的改善，從而獲得長(zhǎng)期穩(wěn)定、性能均一的電鍍層。環(huán)形布置的吸液管路和回流管的布置方式和出口的布置方式和出口設(shè)計(jì)均有助于達(dá)到上述目標(biāo)。


圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為鍍液均勻分散裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖3為圖2的左視放大圖。
圖4為緊固卡件的示意圖。
圖5為連續(xù)電解凈化裝置示意圖。
圖6為連續(xù)循環(huán)過濾裝置結(jié)構(gòu)俯視圖。
具體實(shí)施例方式
下面結(jié)合

本實(shí)發(fā)明的具體實(shí)施方式
。
如圖1所示，按照本發(fā)明的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍液儲(chǔ)存槽4、電鍍工位6、兩者之間的連接管路5、鍍液輸送泵1、添加劑裝置、pH值控制裝置、電極，其特征在于所述的電鍍工位6上組裝的電鍍工件腔內(nèi)設(shè)有電鍍液均勻分散裝置7，如圖2、3所示，該裝置包括與組裝式電鍍生產(chǎn)工位進(jìn)液口相連接的安裝定位管75，連接在此安裝定位管75上的四通73，通過連接管74與此四通兩側(cè)相連接的三通72，與此三通72相連接的均勻分散鍍液的噴射管77，連接在四通上側(cè)的卡緊管76，分別設(shè)在各噴射管端和卡緊管76上端的管端封頭71，與所述的卡緊管76相連接的固定卡件。
所述的安裝定位管75、四通73、卡緊管76各二件，相應(yīng)的三通72四個(gè)，管端封頭71為六個(gè)，共同組成一個(gè)整體組裝件。
所述的固定卡件由套在此卡緊管76端頭的壓帽79，連接在此壓帽79上的螺桿，與此螺桿作螺紋連接的卡在陽極杠下的卡板78所組成。
所述的整體組裝件總長(zhǎng)度等于裝配式電鍍組裝件內(nèi)腔長(zhǎng)度減去18～22mm，在噴射管周壁α角區(qū)域內(nèi)鉆噴射孔，孔徑1.0～3.0mm，孔間距15～30mm，α角為水平面向下10°～45°角。
如圖1所示，按照本發(fā)明，所述的鍍液儲(chǔ)存槽4設(shè)有連續(xù)電解凈化裝置2，如圖5所示，該裝置由電解凈化直流電源24，通過導(dǎo)線23與此電解凈化直流電源24相連接的設(shè)置在鍍液儲(chǔ)存槽4內(nèi)的模擬陰極22和陽極21所組成。
所述的模擬陰極22采用0.3mm～1.0mm厚的金屬薄板，板長(zhǎng)800～1200mm，寬800～1000mm，每隔100～150mm距離內(nèi)加工成100～150度夾角的瓦楞形。
所述的陽極21采用與鍍液主鹽的金屬離子一致的金屬材料，并套上雙層丙綸布陽極袋，所述的直流電源為30～100A/0～12V。
如圖1所示，按照本發(fā)明，所述的鍍液儲(chǔ)存槽底部設(shè)有連續(xù)循環(huán)過濾裝置3，如圖6所示，該裝置包括設(shè)在鍍液儲(chǔ)存槽4內(nèi)的的吸液環(huán)形管路33，此環(huán)形管路33通過穿越鍍液儲(chǔ)存槽側(cè)壁的管件與一槽外的過濾機(jī)31入口相連接，過濾機(jī)31的濾液出口與鍍液返回管32相連接，返回管跨過儲(chǔ)存槽壁頂端引入槽內(nèi)。
所述的吸液環(huán)形管路靠近儲(chǔ)存槽邊壁布置，在環(huán)形管路33的下斜方，每隔50-150mm設(shè)一個(gè)進(jìn)液孔，此進(jìn)液孔與水平面夾角為0～45°，吸液環(huán)形管路內(nèi)徑為30～80mm，進(jìn)液孔的孔徑為8～15mm，所述的返回管路與儲(chǔ)存槽壁成45°夾角，末端切成15～30°斜角切口。
按照本發(fā)明，所述的安裝定位管、四通、噴射管、卡緊管、連接管、管端封頭、固定卡件、吸液環(huán)形管路、返回管均為耐酸堿、耐溫70℃以上的非金屬材料件或鈦金屬件。
權(quán)利要求
1.一種組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，包括鍍液儲(chǔ)存槽、電鍍工位、兩者之間的連接管路、鍍液輸送泵、添加劑裝置、pH值控制裝置、電極，其特征在于所述的電鍍工位上組裝的電鍍腔內(nèi)設(shè)有電鍍液均勻分散裝置，該裝置包括與組裝式電鍍生產(chǎn)工位進(jìn)液口相連接的安裝定位管，連接在此安裝定位管上的四通，通過連接管與此四通兩側(cè)相連接的三通，與此三通相連接的均勻分散鍍液的噴射管，連接在四通上側(cè)的卡緊管，分別設(shè)在各噴射管端和卡緊管上端的管端封頭，與所述的卡緊管相連接的固定卡件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的安裝定位管、四通、卡緊管各二件，相應(yīng)的三通四個(gè)，管端封頭為六個(gè)，共同組成一個(gè)整體組裝件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的固定卡件由套在此卡緊管端頭的壓帽，連接在此壓帽上的螺桿，與此螺桿作螺紋連接的卡在陽極杠下的卡板所組成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的整體組裝件總長(zhǎng)度等于組裝式電鍍組裝件內(nèi)腔長(zhǎng)度減去18～22mm，在噴射管周壁α角區(qū)域內(nèi)鉆噴射孔，孔徑1.0～3.0mm，孔間距15～30mm，α角為水平面向下10°～45°角。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的鍍液儲(chǔ)存槽設(shè)有連續(xù)電解凈化裝置，該裝置由電解凈化直流電源，通過導(dǎo)線與此電解凈化直流電源相連接的設(shè)置在鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)的模擬陰極和陽極所組成。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的模擬陰極采用0.3mm～1.0mm厚的金屬薄板，板長(zhǎng)800～1200mm，寬800～1000mm，每隔100～150mm距離內(nèi)加工成100～150度夾角的瓦楞形。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的陽極采用與鍍液主鹽的金屬離子一致的金屬材料件，并套上雙層丙綸布陽極袋，所述的直流電源為30～100A/0～12V。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的鍍液儲(chǔ)存槽底部設(shè)有連續(xù)循環(huán)過濾裝置，包括設(shè)在鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)的吸液環(huán)形管路，此環(huán)形管路通過穿越鍍液儲(chǔ)存槽側(cè)壁的管件與一槽外的過濾機(jī)入口相連接，過濾機(jī)的濾液出口與鍍液返回管相連接，返回管跨過儲(chǔ)存槽壁頂端引入槽內(nèi)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的吸液環(huán)形管路靠近儲(chǔ)存槽邊壁布置，在環(huán)形管路的下斜方，每隔50-150mm設(shè)一個(gè)進(jìn)液孔，此進(jìn)液孔與水平面夾角為0～45°，吸液環(huán)形管路內(nèi)徑為30～80mm，進(jìn)液孔的孔徑為8～15mm，所述的返回管路引入槽底后與儲(chǔ)存槽壁成45°夾角，末端切成15～30°斜角切口。
10.根據(jù)權(quán)利要求1或8所述的組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，其特征在于所述的安裝定位管、四通、噴射管、卡緊管、連接管、管端封頭、固定卡件、吸液環(huán)形管路、返回管均為耐酸堿、耐溫70℃以上的非金屬材料件或鈦金屬件。
全文摘要
本明發(fā)明屬于電鍍?cè)O(shè)備領(lǐng)域，特別是一種組裝式電鍍生產(chǎn)用組裝式電鍍生產(chǎn)設(shè)備，適用于由工件組裝成電鍍腔的電鍍。包括鍍液儲(chǔ)存槽、電鍍工位、兩者之間的連接管路、鍍液輸送泵、添加劑裝置、pH值控制裝置、電極，在所述的電鍍工位上組裝的電鍍工件腔內(nèi)設(shè)有電鍍液均勻分散裝置，包括安裝定位管、四通、三通、噴射管、固定卡件，鍍液儲(chǔ)存槽內(nèi)設(shè)有連續(xù)電解凈化裝置，包括直流電源、模擬陰極、袋裝陽極、連接導(dǎo)線，鍍液儲(chǔ)存槽底部設(shè)有連續(xù)循環(huán)過濾裝置，包括帶有進(jìn)液孔的吸液環(huán)形管路、過濾機(jī)、返回管。這種電鍍生產(chǎn)設(shè)備能使鍍液均勻分散，使所生產(chǎn)的工件更符合使用工況條件，連續(xù)電解凈化裝置使清除有害金屬雜質(zhì)和電鍍生產(chǎn)互不干擾，連續(xù)循環(huán)過濾裝置使鍍液更為清潔。
文檔編號(hào)C25D19/00GK101037790SQ200610046019
公開日2007年9月19日 申請(qǐng)日期2006年3月13日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月13日
發(fā)明者王紅 申請(qǐng)人:王紅