專利名稱：用于凈化工藝溶液的方法和裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種方法和裝置，該方法和裝置用于凈化可用于表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層或金屬合金層的電解液，其適于從工藝溶液中至少部分地除去有機(jī)或無機(jī)雜質(zhì)，并從而提高所述工藝溶液的使用壽命。
由于所希望的質(zhì)量轉(zhuǎn)換、水和雜質(zhì)的引入、電解液的損耗，并由于其他因素的影響例如蒸發(fā)、陽極或陰極的二次反應(yīng)、從空氣中捕獲的組分以及錯(cuò)誤的劑量，表面處理中的工藝浴會受到改變。這是為什么，如果應(yīng)當(dāng)避免從新制備以及與之相關(guān)的舊工藝溶液的排放的話，所用的工藝溶液必須連續(xù)再生或以一定的間隔再生的原因?，F(xiàn)有技術(shù)已知的從工藝溶液中，尤其是從電解液中除去各雜質(zhì)的方法千差萬別。在此必須特別提及過濾、氧化、萃取以及滲析方法。
所提及的方法可以各自分成不同的子方法。從而，過濾工藝溶液以除去粒子如金屬片，塵粒，膠體，微生物，陽極泥等是已知的。在此，為了從工藝溶液中除去雜質(zhì)，通過適當(dāng)?shù)倪^濾器過濾所述的工藝溶液，若需要的話，使用助濾劑如硅藻土或活性炭。該方法的缺點(diǎn)在于在過濾過程中，在過濾器上形成濾餅，該濾餅會引起過濾器前的流阻增大，并最終導(dǎo)致過濾器的堵塞。通過多種工業(yè)裝置例如通過利用帶通濾波器(band filters)來保持過濾裝置的流阻為恒定值是可能的。
通過過濾可以除去的雜質(zhì)取決于過濾器的孔徑大小的設(shè)計(jì)，和相應(yīng)的助濾劑的選擇。過濾的一個(gè)實(shí)施方案涉及利用適當(dāng)?shù)哪V器的微濾和超濾。此處所用的膜濾器具有有高保留力的非常小的孔徑大小，但不利地導(dǎo)致高流阻。微濾或超濾主要用于脫脂浴或者酸性或堿性洗浴。
所述過濾方法的共同點(diǎn)在于，通過這種方法無法從該工藝溶液中除去完全溶于工藝溶液中的附加物質(zhì)(parasitic substance)。
然而，許多用于表面處理中的工藝溶液包括有機(jī)組分，所述的有機(jī)組分在處理過程中分解，并最終形成干擾化學(xué)工藝的分解產(chǎn)物。這些干擾性分解產(chǎn)物通常完全溶于工藝溶液中，無法通過過濾方法來捕獲。
一種除去這些有機(jī)分解產(chǎn)物的方法是通過例如UV-H2O2氧化方法來氧化該分解產(chǎn)物。
此處，用UV/H2O2處理至少部分體積的工藝浴，例如亮鎳電解液。所述電解液的有機(jī)組分在浴外被不連續(xù)地氧化。所有有機(jī)化合物，分解產(chǎn)物還有活性增亮劑和潤濕劑都被氧化。在亮鎳電解液的情況下，該處理的最終產(chǎn)物是可再次混合到工藝浴中的Watts-型堿制劑(basepreparation)。在UV/H2O2氧化過程中也被氧化的活性添加劑，如增亮劑和潤濕劑，必須相應(yīng)地被再次按劑量加入。除此缺點(diǎn)外，UV/H2O2氧化不能從工藝溶液中除去無機(jī)雜質(zhì)，例如雜質(zhì)離子。
另一種可能的工藝溶液凈化方法是利用適當(dāng)?shù)囊后w萃取劑的液-液萃取。此處，通過液體萃取劑，雜質(zhì)被從載液例如待凈化的電(沉積)電解質(zhì)中除去。此處發(fā)生的物質(zhì)從一種流體向另一種流體的傳輸是由該物質(zhì)在流體中的不同溶解度和普遍的濃度梯度所導(dǎo)致的。
此處，萃取劑和載液應(yīng)盡可能是彼此不溶的，以確保良好分離并同時(shí)帶走盡可能少的溶劑。實(shí)踐中，兩相中的一相是水相，另一相是有機(jī)溶劑或萃取劑在有機(jī)溶劑中的溶液。
由于萃取是在兩個(gè)不可混合的相之間的公布，交換以及平衡的建立是通過界面實(shí)現(xiàn)的。大的界面促進(jìn)了平衡的建立。從而，根據(jù)混合器-沉降器原理實(shí)現(xiàn)了大工業(yè)規(guī)模的萃取。此處，在第一室中使萃取劑和裝料的載體溶液(電解液)彼此混合(混合器)?；旌衔锿ㄟ^壩門進(jìn)入到所謂的沉降器即沉降室中。所述的相在此處再次分離。然后將已分離的相分別移出該室。若萃取結(jié)果仍未滿足要求，可在其后設(shè)置若干個(gè)混合器-沉降器單元。
成功利用液-液萃取的條件是找到這樣的溶劑，所述溶劑可以選擇性地溶解待除去的雜質(zhì)并容易再次分離，且留在電解液中的少量殘留物不會干擾所述工藝溶液的應(yīng)用目的。
液-液萃取的一個(gè)實(shí)施方式是通過中空纖維膜組件的支撐膜萃取。此處，有機(jī)萃取劑和載液(電解液)通過多孔膜被彼此分離。在多微孔疏水膜的情況下，有機(jī)相將自發(fā)潤濕該膜并試圖穿過孔隙到達(dá)膜的另一側(cè)。可以通過在載液側(cè)的低的過壓而避免這種穿透。從而，水相和有機(jī)相間的交會可被固定在孔口處。此處物質(zhì)交換的驅(qū)動(dòng)力也在于濃度梯度。所述液體沿所述膜的兩側(cè)通過。此處，兩相的流速均可在寬泛范圍內(nèi)變化。有利的是，液-液趨于形成乳液的系統(tǒng)也可用中空纖維支撐膜液-液萃取處理。此外，與根據(jù)混合器-沉降器原理進(jìn)行的萃取相比，相應(yīng)的用于中空纖維膜組件支撐的液-液萃取的裝置明顯需要更少的移動(dòng)部件。
液-液萃取方法的一個(gè)共同點(diǎn)在于它們局限于相應(yīng)的不可混合性萃取/載液系統(tǒng)，并且通常通過液-液萃取不能從工藝溶液中除去無機(jī)雜質(zhì)，例如雜質(zhì)離子。
其他現(xiàn)有技術(shù)已知的用于凈化工藝溶液的方法為滲析方法，例如擴(kuò)散滲析或電滲析。如同在萃取中一樣，在離子選擇性的滲析中利用濃度梯度在相之間傳輸物質(zhì)，但此處使用的是不透水性的離子交換膜。
這種裝置的中心由象壓濾機(jī)一樣被結(jié)合在一起的膜組成。所述陰離子選擇性的膜理論上截留除了氫離子外的所有的陽離子，氫離子由于它們尺寸小且移動(dòng)性高而遷移通過該膜。陰離子和水合氫離子同時(shí)擴(kuò)散。從而，只有強(qiáng)的離解酸提供良好的使用條件。
通常，待凈化的工藝溶液和所用的滲析溶液例如水，根據(jù)逆流原理流經(jīng)膜堆。通過使分布以交替方式進(jìn)行的膜和框架而將這兩種液體彼此分離。
除陰離子選擇性膜外，還可使用陽離子選擇性膜或陰離子和陽離子選擇性膜的組合。
滲析的一個(gè)實(shí)施方式是電滲析，它是電化學(xué)方法，其中將離子組分從溶液中除去或交換，且若需要的話，通過離子交換膜和電場的驅(qū)動(dòng)力而濃縮。
此處，產(chǎn)生的電場可增強(qiáng)物質(zhì)沿濃度梯度方向的傳輸，或也可使其反向。
電滲析單元也能選擇性地分離溶解在工藝溶液中的離子。不利的是，所用的膜是敏感性的，并且尤其是在電滲析的情況下，該方法會涉及要求高能量。
除了已經(jīng)說明的方法外，由DE 43 28 876 A1及DE 43 18 793 A1可知使用吸附性聚合物(absorbent polymer)除去有機(jī)雜質(zhì)。此處，所述的有機(jī)雜質(zhì)至少部分被吸附到吸附性聚合物的表面上，并從而從工藝溶液中除去。有利的是，這種方法可連續(xù)進(jìn)行，且所用的吸附性聚合物可通過適當(dāng)?shù)娜芤豪绾羞^氧化氫的氧化溶液而再生。
然而，該方法的缺點(diǎn)在于所述的吸附性聚合物必須適用于相應(yīng)的待除去的有機(jī)雜質(zhì)，并且僅僅選擇性很高地除去該雜質(zhì)。此外，通過這種方法無法除去無機(jī)雜質(zhì)，例如雜質(zhì)離子。
從而，本發(fā)明的目的在于提供能以簡單且經(jīng)濟(jì)的方式除去待凈化的工藝溶液中的多種雜質(zhì)的方法和裝置，同時(shí)克服已知現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)。
關(guān)于所述方法，該目的通過用于凈化可用于表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的方法而實(shí)現(xiàn)，該方法通過能從所述工藝溶液中吸收雜質(zhì)并從而至少部分地從所述工藝溶液中除去雜質(zhì)的聚合物樹脂來實(shí)現(xiàn)，其特征在于使所述的工藝溶液與至少兩種聚合物樹脂連續(xù)接觸，或者使部分的所述工藝溶液流與至少兩種聚合物樹脂平行接觸，其中所述的聚合物樹脂彼此的物理-化學(xué)性質(zhì)不同。此處，吸附性聚合物的使用不限于浴。它們也可以與立式漂洗單元(stand rinsing unit)或漂洗級聯(lián)的最提濃的漂洗單元相連，且若需要，經(jīng)凈化的漂洗用水可在再次濃縮后返回。從而，術(shù)語工藝溶液包括浴或漂洗單元。
此處，本發(fā)明意義的聚合物樹脂是吸附樹脂和/或離子交換樹脂，其至少能夠部分除去工藝溶液中的有機(jī)和/或無機(jī)雜質(zhì)。它們包括帶有和不帶有官能團(tuán)的有機(jī)吸附樹脂，和/或無機(jī)吸附樹脂，例如硅酸鹽、鋁硅酸鹽、氮化硼還有沸石。有機(jī)吸附性聚合物可以是交聯(lián)的聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯酰胺和二乙烯基苯/苯乙烯共聚合產(chǎn)物。
本發(fā)明意義的聚合物樹脂的物理-化學(xué)特性尤其包括其吸附能力，離子交換能力，顆粒尺寸或孔徑大小。
根據(jù)本發(fā)明，使所述的工藝溶液與彼此分離的聚合物樹脂的單獨(dú)容納單元(accommodating unit)內(nèi)的聚合物樹脂相接觸。所述聚合物樹脂的單獨(dú)容納單元有利地彼此流體連通，這樣待凈化的工藝溶液可連續(xù)地通過容納單元，或部分的工藝溶液流可分別平行通過所述的容納單元。
根據(jù)本發(fā)明，所述的聚合物樹脂可通過適當(dāng)?shù)脑偕芤涸偕?。對于這一點(diǎn)，通過使聚合物樹脂與所述的再生溶液在容納單元中接觸而再生該聚合物樹脂。有利的是，該聚合物樹脂可通過不同的再生溶液而彼此獨(dú)立地再生。在本發(fā)明方法的一個(gè)實(shí)施方式中，所述的聚合物樹脂通過相同的再生溶液至少部分地再生。
在本發(fā)明方法的另一個(gè)實(shí)施方式中，所述的工藝溶液至少部分地從工藝浴中轉(zhuǎn)移到吸附裝置中，其中所述的吸附裝置至少包括三個(gè)用于容納至少兩種不同的聚合物樹脂的容納單元，這樣所述的工藝溶液連續(xù)地與所述的聚合物樹脂在容納單元中接觸，其中前兩個(gè)容納單元容納有至少能夠部分地吸附工藝溶液中的有機(jī)雜質(zhì)的聚合物樹脂，最后的容納單元容納至少能夠部分除去工藝溶液中的無機(jī)雜質(zhì)的離子交換樹脂。
在本發(fā)明方法的這樣的一個(gè)實(shí)施方式中，至少離子交換樹脂可有利地在與所述的工藝溶液接觸之前，裝載該工藝溶液中所含的物質(zhì)，所述的物質(zhì)在表面處理工藝過程中被分解或消耗，并從而在工藝溶液中待補(bǔ)償，這樣在工藝溶液與裝料的離子交換樹脂的接觸過程中，該物質(zhì)轉(zhuǎn)移到工藝溶液中，并理解為至少部分補(bǔ)償了工藝溶液中在表面處理工藝中已經(jīng)分解或消耗的該物質(zhì)的量。
本發(fā)明方法尤其適于凈化用于以金屬層對表面進(jìn)行電鍍涂層或自催化涂層的電解液。
可用于本發(fā)明方法的聚合物樹脂有利的是得自二乙烯基苯/苯乙烯共聚合產(chǎn)物的樹脂。
本發(fā)明方法中所用的聚合物樹脂可通過一種或多種再生溶液再生，所述的再生溶液包括水、堿性水溶液、醇的水溶液、堿性醇溶液、酸性溶液或酸性醇溶液。
此外，所述的再生溶液可以包括用于聚合物樹脂再生的氧化劑或還原劑。
有利的，至少一種再生溶液包括過氧化氫作為氧化劑。
所述的再生溶液可包括氧化劑或還原劑，其濃度為約0.1-約10wt％，優(yōu)選為1-5wt％，更優(yōu)選為1.5-3wt％。
由于用含有氧化劑的再生溶液處理帶有有機(jī)雜質(zhì)的聚合物樹脂，該有機(jī)雜質(zhì)被氧化。已發(fā)現(xiàn)被氧化的有機(jī)雜質(zhì)不再被所用的聚合物樹脂吸附。從而，含有氧化劑的溶液可有利地使用若干次，用于所述聚合物樹脂的再生，這是本發(fā)明方法的另一個(gè)經(jīng)濟(jì)和環(huán)保優(yōu)點(diǎn)。
可用于本發(fā)明方法的離子交換樹脂在再生后，與所述工藝溶液接觸前，可與含糖精的溶液接觸，其中該離子交換樹脂裝載有糖精。此外，所述的吸附樹脂還可裝載有適當(dāng)?shù)耐繉踊钚晕镔|(zhì)。
可通過本發(fā)明的方法連續(xù)凈化工藝溶液。此外，本發(fā)明方法可與現(xiàn)有技術(shù)已知的其他凈化工藝溶液的方法結(jié)合，例如過濾，滲析，電滲析，UV-H2O2，UV.H2O2氧化，萃取，結(jié)晶，沉淀。
關(guān)于裝置，該目的通過用于凈化表面處理中的工藝溶液，尤其是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的裝置實(shí)現(xiàn)，包括至少兩個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元，其特征在于所述用于容納聚合物樹脂的單元流體連通，這樣工藝溶液連續(xù)地流動(dòng)通過用于容納聚合物樹脂的容納單元，或者部分的工藝溶液流分別平行地流動(dòng)通過所述的單元，其中所述的單元容納了物理-化學(xué)性質(zhì)不同的聚合物樹脂。
在本發(fā)明裝置的一個(gè)實(shí)施方式中，一個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元容納了離子交換樹脂。
此外，用于容納吸附樹脂和/或離子交換樹脂的單元可以與至少一個(gè)再生溶液存貯器流體連通，這樣為了再生樹脂，再生溶液連續(xù)流動(dòng)通過所述的單元，或者部分的再生溶液流分別平行流動(dòng)通過所述單元。
用于容納吸附樹脂的單元至少容納一種吸附樹脂，該吸附樹脂選自由聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯酰胺和二乙烯基苯/苯乙烯共聚合產(chǎn)物組成的組。
根據(jù)本發(fā)明，容納離子交換樹脂的單元容納至少一種離子交換樹脂，該離子交換樹脂選自由強(qiáng)酸、強(qiáng)堿、中等強(qiáng)度酸、中等強(qiáng)度堿、弱酸或弱堿離子交換樹脂組成的組。


圖1表示本發(fā)明裝置的一個(gè)實(shí)施方式。
圖1表示本發(fā)明裝置的一個(gè)實(shí)施方式。將待凈化的工藝溶液從工藝浴中移出，并通過供給路徑4供給到裝置14用于工藝溶液的處理。所述的裝置14包括兩個(gè)用于容納吸附樹脂的單元1和2，和用于容納離子交換樹脂的單元3。供給路徑4與單元1、2和3流體連通，這樣從工藝浴中移出的工藝溶液可以至少部分平行地和/或連續(xù)地流動(dòng)通過所述單元1、2和3，并之后可通過返回路徑5回到工藝浴中。所述的單元1、2和3包括用于酸性再生溶液的進(jìn)料管10，以及用于含有氧化劑的溶液、堿性再生溶液和漂洗用水的供給路徑11、12和13。此外，所述的單元1、2和3包括用于相應(yīng)的再生溶液的返回路徑10a、11a和12a。從而，單元1、2和3中的吸附樹脂和離子交換樹脂可彼此獨(dú)立地與再生溶液和/或氧化劑溶液接觸用于再生，并且在與吸附樹脂和/或離子交換樹脂接觸后可分別收集所述的溶液。從而，用于再生所述吸附樹脂和/或離子交換樹脂的再生溶液可使用若干次。
實(shí)施例將用于基材表面上鎳層的無電流沉積的電解液從鍍槽中移出，并供給到本發(fā)明的裝置。本發(fā)明的裝置包括用二乙烯基苯/苯乙烯共聚合產(chǎn)物吸附樹脂裝填的柱子以及用酸性離子交換樹脂裝填的柱子。通過泵，使從工藝浴中移出的鎳電解液與所述的吸附樹脂和離子交換樹脂連續(xù)接觸，其中吸附樹脂吸附存在于鎳電解液中的有機(jī)分解產(chǎn)物，離子交換樹脂吸收存在于電解液中的附加離子，如鋁離子，并由氫離子取代所述附加離子。
部分的工藝溶液流也可通過適當(dāng)?shù)牧黧w連通方式，分別平行地流動(dòng)通過吸附柱和離子交換柱。需要的話，為了能與離子交換樹脂分離地再生吸附樹脂，也可設(shè)置吸附柱的支路。
為了再生，使吸附柱和離子交換柱以上述方式與相應(yīng)的不同再生溶液存貯器接觸。所述的吸附性聚合物可通過以下的再生步驟再生1.用水漂洗2.用2.5％H2O2/2.5％HCl溶液再生約2小時(shí)3.用6％NaOH溶液再生。
在最后的步驟中，可用弱硫酸溶液酸化所述的堿性再生吸附樹脂，以防止鎳鹽的沉淀。在步驟2和/或3后，可任選地繼之漂洗步驟。
可使用本發(fā)明的方法和本發(fā)明的裝置的表面處理工藝的其他實(shí)施例為，例如由Taschenbuch für Galvanotechnik，13theditin 1988可知的在基材上亮鎳層或半亮鎳層的沉積，或由EP 05009183可知的脈沖反向鍍銅浴。
本發(fā)明也可應(yīng)用于酸性錫/銀浴以用于無鉛的銀合金層的電解沉積，其用不溶的陽極操作。此處，產(chǎn)生必須除去的分解產(chǎn)物。與吸附性聚合物結(jié)合使用的陽離子交換劑可之前或之后定期裝載錫。酸性錫浴從陽離子交換劑中洗脫錫，不然則必須再次按劑量加入。由于從陽離子交換劑中洗脫，所以沒有另外的雜質(zhì)陰離子(contrary anions)被引入，即陰離子負(fù)載沒有增加。如在其他實(shí)施例中一樣，吸附樹脂可用H2O2和NaOH再生。
本發(fā)明的方法及本發(fā)明的裝置還可用于由EP 1 408 141 A1可知的用于青銅的沉積的電解液。
由于本發(fā)明的方法和本發(fā)明的裝置是作為多柱系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)的，就確保了單獨(dú)的吸附性聚合物和離子交換聚合物可彼此分離地再生，并從而可以就其吸附或離子交換性能廣泛適用于電解液。此外，由于本發(fā)明方法和本發(fā)明裝置的使用，需要更少體積的再生溶液和漂洗溶液。
參考編號表1 吸附柱2 吸附柱3 離子交換柱4 來自工藝浴的供給路徑5 向工藝浴的返回路徑6 支路7 管8 管9 管10供給酸性再生溶液10a 返回酸性再生溶液11供給含氧化劑的溶液
11a 返回含氧化劑的溶液12 供給堿性再生溶液12a 返回堿性再生溶液13 供給水14 用于凈化工藝溶液的裝置
權(quán)利要求
1.一種用于凈化能夠用于表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的方法，該方法通過能吸附所述工藝溶液中的雜質(zhì)的聚合物樹脂，從而至少部分地除去所述工藝溶液中的雜質(zhì)，其特征在于，使所述工藝溶液與至少兩種聚合物樹脂連續(xù)接觸，或使部分的所述工藝溶液流與至少兩種聚合物樹脂平行接觸，其中所述的聚合物樹脂的物理-化學(xué)性質(zhì)彼此不同。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的方法，其特征在于，所述的聚合物樹脂至少能夠部分除去所述的工藝溶液中的有機(jī)和/或無機(jī)雜質(zhì)。
3.根據(jù)前述任一項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述的聚合物樹脂在獨(dú)立分離的聚合物樹脂容納單元中與所述的工藝溶液接觸。
4.根據(jù)前述一項(xiàng)或多項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述的聚合物樹脂通過至少一種適當(dāng)?shù)脑偕芤涸偕?br> 5.根據(jù)前述一項(xiàng)或多項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，至少一種聚合物樹脂至少能夠部分除去工藝浴中的有機(jī)雜質(zhì)，并且至少一種聚合物樹脂是至少能夠部分除去工藝溶液中的無機(jī)雜質(zhì)的離子交換樹脂。
6.根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其特征在于，在與所述的工藝溶液接觸前，至少所述的離子交換樹脂裝載有工藝溶液中含有的物質(zhì)，當(dāng)工藝溶液與離子交換樹脂接觸時(shí)，該物質(zhì)至少部分地轉(zhuǎn)移到所述的工藝溶液中。
7.根據(jù)前述一項(xiàng)或多項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述的工藝溶液是用于以金屬層對表面進(jìn)行電鍍涂層或自催化涂層的電解液。
8.根據(jù)權(quán)利要求4-7的一項(xiàng)或多項(xiàng)的方法，其特征在于，所述的再生溶液包括氧化劑或還原劑。
9.根據(jù)前述一項(xiàng)或多項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述的工藝溶液通過所述的方法而連續(xù)凈化。
10.根據(jù)前述一項(xiàng)或多項(xiàng)權(quán)利要求的方法，其特征在于，所述的方法與至少一種用于凈化工藝溶液的其他方法相結(jié)合。
11.一種用于凈化表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的裝置，包括至少兩個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元，其特征在于，所述的至少兩個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元是流體連通的，這樣所述的工藝溶液連續(xù)流動(dòng)通過用于容納聚合物樹脂的單元，或者部分的所述工藝溶液流分別平行流動(dòng)通過所述的單元，其中用于容納聚合物樹脂的單元容納物理-化學(xué)性質(zhì)不同的聚合物樹脂。
12.根據(jù)權(quán)利要求11的裝置，其特征在于，至少一個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元容納離子交換樹脂。
13.根據(jù)權(quán)利要求11和12的一項(xiàng)或多項(xiàng)的裝置，其特征在于，所述的用于容納聚合物樹脂的單元與至少一個(gè)再生溶液存貯器流體連通，這樣為了再生所述樹脂，再生溶液能夠連續(xù)流動(dòng)通過用于容納聚合物樹脂的單元，或者部分的再生溶液流能夠分別平行流動(dòng)通過所述的單元。
14.根據(jù)權(quán)利要求11-13的一項(xiàng)或多項(xiàng)的裝置，其中用于容納吸附樹脂的單元至少容納一種聚合物樹脂，該聚合物樹脂選自由聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、聚丙烯酰胺和二乙烯基苯/苯乙烯共聚合產(chǎn)物組成的組。
15.根據(jù)權(quán)利要求11-14的一項(xiàng)或多項(xiàng)的裝置，其中用于容納離子交換樹脂的單元容納至少一種離子交換樹脂，該離子交換樹脂選自由強(qiáng)酸、強(qiáng)堿、中等強(qiáng)度酸、中等強(qiáng)度堿、弱酸或弱堿離子交換樹脂組成的組。
16.權(quán)利要求13-15的一項(xiàng)或多項(xiàng)的裝置用于實(shí)施權(quán)利要求1-10的一項(xiàng)或多項(xiàng)的方法的用途。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于凈化可用于表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的方法，該方法通過能吸附所述工藝溶液中的雜質(zhì)的聚合物樹脂，而至少部分地除去所述工藝溶液中的雜質(zhì)，其特征在于使所述工藝溶液與至少兩種聚合物樹脂連續(xù)接觸，或使部分所述工藝溶液流與至少兩種聚合物樹脂平行接觸，其中所述的聚合物樹脂的物理－化學(xué)性質(zhì)彼此不同。此外，本發(fā)明涉及一種用于凈化表面處理中的工藝溶液，特別是凈化用于在基材上電鍍沉積或自催化沉積金屬層的電解液的裝置，包括至少兩個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元，其特征在于至少兩個(gè)用于容納聚合物樹脂的單元是流體連通的，這樣所述的工藝溶液連續(xù)流動(dòng)通過用于容納聚合物樹脂的單元，或部分的工藝溶液流分別平行流動(dòng)通過所述的單元，其中用于容納聚合物樹脂的單元容納物理－化學(xué)性質(zhì)不同的聚合物樹脂。
文檔編號C25D21/22GK1974879SQ20061016283
公開日2007年6月6日 申請日期2006年11月24日 優(yōu)先權(quán)日2005年11月25日
發(fā)明者克里斯托夫·沃納, 阿克塞爾·富爾曼, 安德烈亞斯·默比烏斯 申請人:恩通公司