專利名稱：銅電解上清液過濾工藝的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種濕法冶金工藝，尤其是一種電解銅工藝中上清液過濾工藝的改進。
背景技術：
在濕法電解銅工藝中，電解槽內的上清液更換陽極時直接回電解液循環(huán)系統(tǒng)，這樣導致 陽極提出時攪混的電解液進入電解液循環(huán)系統(tǒng)，使電解液中懸浮物增加，影響陰極銅的質量。 如附圖1所示，現(xiàn)在的工藝一般為電解液從電解槽1經循環(huán)管3流回低位槽6，再用循環(huán)泵5 送至高位槽7，電解液由高位槽7再自流進電解槽1,這樣形成一個循環(huán)系統(tǒng)。當清槽時槽內 較混濁的電解液經上清液管4直接流進低位槽5,進入循環(huán)系統(tǒng)，導致電解液中懸浮物含量 較髙。

發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于避免上述技術的不足而提供一種電解銅工藝中上清液過濾工藝的改進。
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的銅電解上清液過濾工藝，電解液從電解槽經循環(huán)管流回低 位槽，再用循環(huán)泵送至高位槽，電解液由高位槽再自流進電解槽，電解槽底部有閥門，連接 上清液管，上清液管與清液貯槽相通，由過濾泵送至壓濾機過濾后再返回電解液循環(huán)系統(tǒng)高 位槽，進入循環(huán)系統(tǒng)。
與現(xiàn)有技術相比，本發(fā)明的優(yōu)點是將上清液單獨進行回收，過濾后再返回電解液循環(huán) 系統(tǒng)，使電解液中的懸浮物大降低，由原來的20-100mg/L下降到了 10mg/L以下，陰極銅質 量得到了保證。


附圖1為現(xiàn)有的銅電解上清液過濾工藝流程圖； 附圖2為本發(fā)明的銅電解上清液過濾工藝流程圖。
圖中，l為電解槽，2為閥門，3為循環(huán)管，4為上清液管，5為循環(huán)泵，6為低位槽，7 為高位槽，8為上清液壓濾機，9為過濾泵，10為貯槽具體實施方式
電解液從電解槽l經循環(huán)管3流回低位槽6，再用循環(huán)泵5送至高位槽7，電解液由高位 槽7再自流進電解槽1，這樣形成一個循環(huán)系統(tǒng)。當清槽時，打開閩門2，電解槽l內較混濁 的電解液經上清液管4通往清液忙槽10,實現(xiàn)了電解槽內上清液單獨回收到貯槽10，由過濾 泵9送壓濾機8過濾后再返回電解液循環(huán)系統(tǒng)高位槽7,進入循環(huán)系統(tǒng)，實現(xiàn)了上清液過濾 干凈后回系統(tǒng)的新工藝。
通過使用管道將電解槽1內的上清液單獨進行加收，并能過壓濾機進8行過濾，然后再 返回電解液循環(huán)系統(tǒng)，減少電解液中的懸浮物，以穩(wěn)定產品質量。
權利要求
1. 銅電解上清液過濾工藝，電解液從電解槽經循環(huán)管流回低位槽，再用循環(huán)泵送至高位槽，電解液由高位槽再自流進電解槽其特征在于，電解槽底部有閥門，連接上清液管，上清液管與清液貯槽相通，由過濾泵送至壓濾機過濾后再返回電解液循環(huán)系統(tǒng)高位槽，進入循環(huán)系統(tǒng)。
全文摘要
本發(fā)明提供一種銅電解上清液過濾工藝，本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的銅電解上清液過濾工藝，電解液從電解槽經循環(huán)管流回低位槽，再用循環(huán)泵送至高位槽，電解液由高位槽再自流進電解槽，電解槽底部有閥門，連接上清液管，上清液管與清液貯槽相通，電解液由過濾泵送至壓濾機過濾后再返回電解液循環(huán)系統(tǒng)高位槽，進入循環(huán)系統(tǒng)，將上清液單獨進行回收，過濾后再返回電解液循環(huán)系統(tǒng)，使電解液中的懸浮物大降低，由原來的20-100mg/L下降到了10mg/L以下，陰極銅質量得到了保證。
文檔編號C25D21/00GK101280454SQ20081001571
公開日2008年10月8日 申請日期2008年4月24日 優(yōu)先權日2008年4月24日
發(fā)明者盧士海, 張葉新, 徐全久 申請人:東營方圓有色金屬有限公司