專利名稱：工件電鍍處理用的立式系統(tǒng)以及輸送工件用的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及工件電鍍處理用的立式系統(tǒng)以及將由抓緊設(shè)備以直立方位保持的工
件輸送至處理模塊的方法。 電鍍系統(tǒng)例如用于印刷電路板、印刷電路箔和半導體晶片的處理以及用于光電電 池比如光電太陽能電池以及監(jiān)控板的生產(chǎn)。這些系統(tǒng)中的處理通常包括化學和電化學處理 方法。
背景技術(shù)：
半導體工業(yè)中的芯片生產(chǎn)商目前致力于引進所謂的65納米結(jié)構(gòu) (Computertechnik(10)，2007)。甚至45納米的更小結(jié)構(gòu)正處于開發(fā)過程中。然而，這些尺 寸也僅是通往甚至更小結(jié)構(gòu)的途中的中間步驟。根據(jù)半導體部件的不斷小型化，對于具有 芯片載體的印刷電路板的制造商而言出現(xiàn)新的挑戰(zhàn)，就是讓他們的產(chǎn)品適應(yīng)于新的情況。 這意味著例如如果他們?nèi)匀幌氪嬖谟谑袌錾希敲幢仨殞崿F(xiàn)大約25ym的結(jié)構(gòu)尺寸的當前 需求。同時，已經(jīng)很明顯，在不遠的將來，尺寸將變得更小。在印刷電路板產(chǎn)品中使用目前 的常規(guī)方法和裝置不可能在必要的質(zhì)量之下實現(xiàn)這種精密結(jié)構(gòu)。在結(jié)構(gòu)的小型化中，觀察 到具有不規(guī)則輪廓的結(jié)構(gòu)，甚至觀察到橋接(短路)或中斷。另外，還已經(jīng)確定，沉積金屬 層的均勻性是不夠的。這是不可接受的，因為這樣生產(chǎn)的電路的電特征將以不可預見的方 式削弱，這意味著電路將是不合格的。 對于印刷電路板的高精度生產(chǎn)的上述需求伴隨著需要能以盡可能節(jié)約成本的方
式大量地反復生產(chǎn)這些印刷電路板。 在過去已經(jīng)做出各種建議以獲得上述目標 例如，W02006/002969A2闡述了一種用于待處理材料的化學或電解處理用的裝置， 所述裝置包括用于對待處理材料進行處理的處理容器以及用于傳輸待處理材料的傳輸系 統(tǒng)。該裝置具有連接至處理容器的清潔室區(qū)域。待處理材料能借助傳輸系統(tǒng)傳輸通過清潔 室區(qū)域。清潔室區(qū)域更具體地由清潔室殼體空間地限定，清潔室殼體包括通孔并且通過供 應(yīng)凈化空氣裝載有過度壓力。包括保持元件的傳輸系統(tǒng)用來保持待處理材料。保持元件優(yōu) 選地大致布置于清潔室區(qū)域內(nèi)部。 W02004/022814A2也闡述了一種用于待處理材料的電解處理的裝置，待處理材料 至少在其表面上是導電的，所述裝置包括用于待處理材料的電源設(shè)備。該裝置的電源設(shè)備 每個包括接觸條帶，其在大致彼此相對地定位的側(cè)緣處電接觸待處理材料。接觸條帶能緊 固至支撐框架，并且支撐框架能借助將要容納處理流體的容器中的支撐元件支撐。支撐元 件能是可位移的，這意味著支撐框架相對于容器中的支撐點的位置可變。
W02006/015871A1也闡述了一種用于工件處理的電鍍處理立式系統(tǒng)用的容器，所 述容器具有容器內(nèi)部，其由容器壁和容器底部限定并且由至少兩個容器模塊形成。容器的 壁和底部在所有情況下限定具有相同高度和寬度的模塊內(nèi)部空間。安裝部件設(shè)置于容器 中，比如接觸框架、接觸夾具、電源裝置、移動設(shè)備、用于待處理材料的導向元件、噴嘴(更具體地噴射噴嘴、噴霧噴嘴以及波動噴嘴)、引導空氣的設(shè)備、泵、加熱元件、冷卻元件、過濾
器、傳感器、定量設(shè)備和用于化學處理的設(shè)備。安裝部件能由支撐框架保持并且能與支撐框
架一起被提升進出容器。多個容器能以矩陣狀的方式成排和成列地布置。 另外，W02006/000439A1闡述了一種處理系統(tǒng)，其包括至少一排處理站和至少一個
平移操縱器。這個操縱器包括至少一個可沿著一排至少兩個處理站驅(qū)動的驅(qū)動元件，以及
至少一個提升元件和至少一個安裝在提升元件上的用于待處理材料的抓緊元件。提升元件
和抓緊元件能以模塊化的方式擴展以使得提升元件在擴展的情況下相對于至少兩排處理
站橫向地延伸。每排處理站與至少一個抓緊元件相聯(lián)系。提升元件由至少一個橫向橫梁保
持的至少一個提升單元或由至少一個提升單元保持的至少一個橫向橫梁形成。橫向橫梁延
伸越過成排的處理站。抓緊元件由抓緊待處理材料的兩個夾具形成，借助相應(yīng)的樞轉(zhuǎn)點可
樞轉(zhuǎn)地安裝并且能通過夾具相應(yīng)部分的軸向位移來致動。 另外，DE 19539868C1描述了一種用于輸送直立地定位的板狀物體以便于它們的 化學或電解表面處理的裝置，所述裝置包括夾具狀下部拾取區(qū)域，由此能容納這些物體并 且其能借助在兩個端部位置之間可大致直立地位移的元件致動。該裝置包括夾持部件，它 們以鉗狀方式保持并且在它們的下端處具有作為拾取區(qū)域的接觸部分。接觸部分經(jīng)由樞轉(zhuǎn) 連接來致動，用于借助保持于夾持懸架中的滑動體檢測和釋放物體。樞轉(zhuǎn)連接包括兩個鉸 接臂，一個鉸接臂在一側(cè)上樞轉(zhuǎn)地安裝在滑動體底端處并且在另一側(cè)上安裝在接觸部分的 頂端處?；瑒芋w的移動順序?qū)崿F(xiàn)為接觸部分的兩個連續(xù)性移動順序，即在從保持位置傳輸 至釋放位置或與之相反時，大致水平地延伸的展開或夾持移動以及大致垂直地延伸的上升 或下降移動。 W0 2006/125629A1中闡述了一種用于在電解系統(tǒng)中傳輸待處理材料的裝置。該 裝置以在限定的傳輸平面中沿著傳輸路徑傳輸待處理材料的方式設(shè)計。該裝置包括多個夾 具，它們布置為沿著傳輸路徑間隔開以便可位移。該裝置具有驅(qū)動器以沿著傳輸路徑移動 夾具。夾具包括布置于傳輸平面的一側(cè)上的第一夾持面以及布置于傳輸平面的相對地定位 的側(cè)面上的第二夾持面。夾持面以第一夾持面和第二夾持面都可相對于傳輸平面位移的方 式設(shè)計以便閉合夾具用于抓緊待處理材料或相應(yīng)地打開夾具用于釋放待處理材料。底部夾 持面緊鄰傳輸平面的位置能得到確保，例如，借助止動元件。 另外，DE 9102321Ul涉及用于電鍍印刷電路板的自動裝載裝置。該裝置包括，即， 緊固至支撐框架的多個夾持設(shè)備。夾持設(shè)備包括夾具，每個夾具包括可在中心位置樞轉(zhuǎn)的 前臂和后臂。后臂的頂端固定地連接至牽引桿。另外，夾具布置于氣壓缸定位于其上的支 撐框架中，前臂和后臂能用氣壓缸壓下。在這些氣缸致動時，它們壓靠每個夾具的后臂或前 臂的相應(yīng)頂部，夾具從而被打開，用于抓緊或釋放印刷電路板。 EP 0517349Al描述了一種用于印刷電路板的化學處理的系統(tǒng)的布置，其中板供應(yīng)
至裝載站并且從這里借助由傳輸車移動的飛行桿帶入系統(tǒng)中的處理站并且之后返回至卸
載站。板借助夾具可分離地懸掛在相應(yīng)的飛行桿上并且在此情況下在邊緣區(qū)域處被抓緊。
每個夾具包括夾具臂，夾具臂借助彈簧移動進入夾持位置。夾具臂的一個安裝在飛行桿上，
另一個可逆著彈簧壓力繞著樞轉(zhuǎn)點樞轉(zhuǎn)并且能借助推力件從閉合位置移動至打開位置。 另外，DE 4243252A1闡述了一種借助支撐框架保持印刷電路板的裝置，支撐框架
包括大致水平地延伸的支撐部件，支撐部件設(shè)置有彈簧加載的夾具，夾具提供用于在印刷電路板的邊緣處電力地保持和接觸印刷電路板。夾具保持于上部支柱處。夾具包括固定至 支柱的一個部件，其中所述部件包括可移動部件可繞著其樞轉(zhuǎn)的軸線并且其由彈簧逆著夾 具的閉合位置預偏壓。 最后，EP 0666343A1闡述了一種用于在可涂覆基板上電解沉積金屬的裝置，所述 裝置包括，即夾持設(shè)備?；迥芡ㄟ^其上部邊緣安裝至總線。只要具有基板的總線浸入容 器中，夾持設(shè)備就夾持基板的底部邊緣。夾具包括至少兩個杠桿臂，它們可借助樞轉(zhuǎn)點可旋 轉(zhuǎn)地互相連接，夾具在漂浮于液體的表面上時處于打開位置并且在沉浸時處于閉合位置。
已知裝置具有缺點工件沒有足夠精確地處理以便能以上述結(jié)構(gòu)尺寸反復地生產(chǎn) 金屬結(jié)構(gòu)。尤其在工件較薄且呈箔狀的情況下。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一個目標是改進已知裝置以使得避免所述裝置的缺點并且更具體地，在
前述結(jié)構(gòu)尺寸的工件表面上形成金屬結(jié)構(gòu)的目的之下實現(xiàn)工件的可再現(xiàn)處理。本發(fā)明的另
一個目標是使得能處理也符合前述目標的箔狀工件。另外，本發(fā)明的一個目標是通過減少
由于傳輸條件造成的浴夾帶使得處理浴能具有較高的清潔度和較長的使用壽命。另外，本
發(fā)明的再一目標是能盡可能節(jié)約成本地產(chǎn)生工件。另外，本發(fā)明的另一個目標是以最佳的
方式處理工件。本發(fā)明的另一個目標是建立用于每個處理位置處的工件以及用于每個處理
步驟的最佳處理條件。本發(fā)明的再一目標是發(fā)展處理條件以使得相對于尺寸和時間出現(xiàn)盡
可能少的變化。本發(fā)明的再一目標是建立盡可能可再現(xiàn)的處理條件。本發(fā)明的再一目標是
在具有相同處理目標之下保持不同處理位置之間的處理條件的改變盡可能小。本發(fā)明的再
一目標是相對于處理步驟的順序、處理參數(shù)的可調(diào)節(jié)性以及系統(tǒng)尺寸的適應(yīng)性獲得高級靈
活性。并且本發(fā)明的一個目標是用文件證明每個處理工件各自的處理條件。 這些目標通過根據(jù)權(quán)利要求1用于工件的電鍍處理的系統(tǒng)并且通過根據(jù)權(quán)利要
求27用于輸送保持在直立方位的工件的方法來實現(xiàn)。本發(fā)明優(yōu)選的具體實施例在從屬權(quán)
利要求中闡述。 至于在下面的描述和權(quán)利要求中使用的詞語"立式系統(tǒng)"，其涉及工件能在其中被
處理的處理系統(tǒng)，并且所述工件在處理期間和在從一個處理模塊傳輸至另一個期間都大致
在直立方位上(即，其中工件每個相對于垂直方向傾斜最大20。的方位上)。 至于在下面的描述和權(quán)利要求中使用的詞語"電鍍處理"，其涉及其中工件借助液
體或氣態(tài)處理劑進行處理的一種處理，工件更具體地處于幾個電鍍處理步驟在至少一個方
法步驟例如沉積或溶解金屬層中改變的處理循環(huán)中。電鍍處理能是化學或電化學處理。 至于在下面的描述和權(quán)利要求中使用的詞語"工件"和"產(chǎn)品"，它們尤其涉及板狀
工件，尤其是印刷電路板和印刷電路箔。然而，其還能涉及半導體晶片、光電電池比如光電
太陽能電池、以及監(jiān)控板和玻璃板。對于板狀的工件，它們具有與板表面平行地延伸的工件
平面。對于單數(shù)或復數(shù)形式的詞語"工件"，也相應(yīng)地理解為復數(shù)或單數(shù)。 根據(jù)本發(fā)明的處理系統(tǒng)優(yōu)選地設(shè)計為使得工件能在處理模塊中的處理期間保持
于直立方位。在從一個處理模塊傳輸至另一個時，工件優(yōu)選地還保持于直立方位。自動設(shè)
備能設(shè)置為在裝載和卸載處理期間垂直地定向工件。 根據(jù)本發(fā)明的立式系統(tǒng)包括至少兩個處理模塊和至少一個用于將至少一個工件輸送至處理模塊以及在處理模塊之間輸送所述至少一個工件的傳輸設(shè)備。 保持設(shè)備設(shè)置于處理模塊中用于工件。工件在處理期間由這種保持設(shè)備保持。這
種保持設(shè)備以靜止的方式固定在處理模塊中。傳輸設(shè)備在將工件傳輸至處理模塊之后將工
件傳輸至處理模塊中的保持設(shè)備。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)的特征在于板優(yōu)選地直接由傳輸設(shè)備抓緊，S卩，它們在沒有任 何框架或支撐框架或飛行桿之下在傳輸期間被輸送。 傳輸設(shè)備包括至少一個抓緊設(shè)備，其保持工件并且在所有情況下具有至少一個緊
固設(shè)備，每個緊固設(shè)備包括第一和第二夾持設(shè)備，每個夾持設(shè)備與工件的側(cè)面相聯(lián)系。第一
夾持設(shè)備和第二夾持設(shè)備一起形成一對夾持設(shè)備并且可位移用于抓緊和釋放工件。因此，
工件借助具有在兩側(cè)上打開的夾持設(shè)備的抓緊設(shè)備抓緊并且還以這種方式從一個處理模
塊傳輸至另一個處理模塊。通常，使用一個抓緊設(shè)備來保持和傳輸一個工件或多個工件。 通過使不僅抓緊設(shè)備的每個緊固設(shè)備的一個夾持設(shè)備可位移，而且使兩個夾持設(shè)
備都可位移，能在無需擔心工件會在抓緊期間與夾持設(shè)備之一碰撞之下毫無問題地抓緊精
密工件。這種碰撞尤其能出現(xiàn)在夾持設(shè)備固定并且工件必須導入處于打開位置的兩個夾持
部分之間時。在此情況下是危險的，即，緊固設(shè)備的固定部分，例如被固定的夾持設(shè)備，沿著
工件劃刻并且這樣做時損壞工件。 通過將保持設(shè)備設(shè)置于處理模塊中，保持于直立方位的工件能借助抓緊設(shè)備輸送 至處理模塊，通過 a)將工件輸送至處理模塊；
b)工件由保持設(shè)備抓緊；以及
c)工件由抓緊設(shè)備釋放。 這意味著在從一個處理模塊傳輸至另一個模塊期間，工件能在位于待處理區(qū)域 (有用區(qū)域)外面的點處在工件表面上被抓緊。另外，抓緊設(shè)備僅與處理流體短暫地接觸并 且在電解過程期間沒有暴露至電流。 與工件的第一側(cè)相聯(lián)系的至少一個第一夾持設(shè)備優(yōu)選地設(shè)計并且布置為使得工 件的第一側(cè)的位置由第一夾持設(shè)備限定。工件的所述第一側(cè)能是接觸平面。與此相反，與 工件的第二側(cè)相聯(lián)系的至少一個第二夾持設(shè)備優(yōu)選地設(shè)計和布置為使得能由所述第二夾 持設(shè)備將夾持力施加到工件上。 在一個優(yōu)選實施例中，夾緊設(shè)備傳輸所述力的部分是套管結(jié)構(gòu)的形式，即兩個夾 持設(shè)備安裝為一個在另一個中可旋轉(zhuǎn)。這樣沒有浴流體滲透入所述夾持設(shè)備內(nèi)部，密封能 設(shè)置在管的底部處防止這種滲透。這意味著夾緊設(shè)備具有表面較小的優(yōu)點以使得其僅在邊 上有助于浴夾帶。 第一夾持設(shè)備優(yōu)選地設(shè)計為使得工件的第一側(cè)的位置由所述第一夾持設(shè)備限定。 這意味著工件的接觸側(cè)(第一側(cè))的位置由抓緊設(shè)備精確地傳輸至保持設(shè)備或由其接收。 與此相反，第二夾持設(shè)備優(yōu)選地設(shè)計和布置為使得夾持(閉合)力能由所述第二夾持設(shè)備 施加到工件上。通過兩個夾持設(shè)備的不同設(shè)計和布置并且因此特別限定，保證了所保持的 工件的精確定位是可能的。 為了能實現(xiàn)上述任務(wù)，抓緊設(shè)備如下致動以抓緊工件 i)移動第一夾持設(shè)備以使得第一夾持設(shè)備到達接觸位置并且從而限定工件的第一側(cè)的位置；并且 ii)移動第二夾持設(shè)備以使得第二夾持設(shè)備到達夾持位置并且這樣做時，工件與 所述(至少一個)第一夾持設(shè)備一起夾持就位。 第一夾持設(shè)備優(yōu)選地在第二夾持設(shè)備到達夾持位置之前到達接觸位置。因此，第 一夾持設(shè)備首先進入終端位置并且然后第二夾持設(shè)備進入其終端位置。然而，這不排除兩 個夾持設(shè)備也至少有時候同時移動。實際上，兩個夾持設(shè)備還能一個接一個地移動，即首先 第一夾持設(shè)備并且然后第二夾持設(shè)備。以相反的方式，在緊固設(shè)備打開時，第二夾持設(shè)備能 首先移動進入打開位置并且稍后第一夾持設(shè)備移動進入打開位置。使用這種操作方法以 抓緊工件，一方面能以可再現(xiàn)的方式進行工件的非常精確的定位，并且另一方面，工件能由 緊固設(shè)備在毫無任何問題之下抓緊，而沒有工件與夾持設(shè)備碰撞的危險。處理模塊中的保 持設(shè)備能如同抓緊設(shè)備那樣構(gòu)造為具有成對的夾持設(shè)備(保持設(shè)備的第一和第二夾持設(shè) 備)，它們保持工件。這些類型的夾持設(shè)備在保持設(shè)備中如同抓緊設(shè)備的那些能是第一和第 二夾持設(shè)備的形式，如同抓緊設(shè)備上的夾持設(shè)備的情況，夾持設(shè)備用來限定工件的第一側(cè) 的位置或相應(yīng)地將夾持力施加到工件上并且可為此目的而位移。保持設(shè)備的夾持設(shè)備因此 能優(yōu)選地具有與抓緊設(shè)備的夾持設(shè)備相同的特點，舉例來說，可旋轉(zhuǎn)，并且在適合時，如同 抓緊設(shè)備的夾持設(shè)備那樣，包括相應(yīng)的夾持面。保持設(shè)備例如能借助氣壓驅(qū)動器致動。
在本發(fā)明另一個優(yōu)選的具體實施例中，抓緊設(shè)備包括至少兩個間隔開的緊固設(shè) 備，它們分別在相反的邊緣處保持工件，緊固設(shè)備的相應(yīng)的第一和第二夾持設(shè)備可位移以 使得工件在夾持期間與其第一側(cè)平行地張緊(在緊固設(shè)備之間)以便避免板的彎曲或成弓 形。例如，在保持于直立方位的矩形工件上，如果緊固設(shè)備布置于工件的相反的垂直邊緣 處，這種張緊可在大致水平方向上進行，或如果緊固設(shè)備布置于工件相反的水平邊緣處，這 種張緊可在大致垂直的方向上進行。 在本發(fā)明另一個優(yōu)選的具體實施例中，所述至少兩個緊固設(shè)備設(shè)計和布置為使得 它們在"有用"區(qū)域外面的區(qū)域，例如邊緣區(qū)域，優(yōu)選地底部和頂部邊緣處或側(cè)緣處抓緊工 件，并且在夾持期間，將定向為在朝向彼此相對的方向的張緊力施加到分別在板平面中的 工件上。工件W在圖1A中具有接觸側(cè)(第一側(cè))WE。 板狀工件能用至少兩個間隔開的緊固設(shè)備以這種方式更具體地在相反地定位的 邊緣處抓緊。夾持設(shè)備優(yōu)選地移動以使得在夾持工件時，除了夾持力(垂直地作用在工件 表面上)以外，還施加定向為與工件表面平行地向外(在工件邊緣的方向上)的張緊力。為 了施加這個張緊力，能實施另一種方法步驟，艮卩 (iii)移動第一和第二夾持設(shè)備中的至少一個，更具體地在沒有移動第一夾持設(shè)
備之下移動第二夾持設(shè)備，以使得與工件的第一側(cè)平行地將張緊力施加到工件上。 張緊過程還能與夾持過程同時地發(fā)生。實施非常簡單的移動順序包括這個稍后實
施的第三步驟，所述步驟的實現(xiàn)在于在通過移動第二夾持設(shè)備將夾持力施加到工件上之
后，夾持設(shè)備繼續(xù)移動以使得將定向為與工件表面平行的另外的力施加至工件。 例如，為了在夾持之后張緊箔，第二夾持設(shè)備能進一步旋轉(zhuǎn)以使得經(jīng)由摩擦將相
應(yīng)的力施加至箔邊緣。旋轉(zhuǎn)移動應(yīng)當在其中力拉動箔分開的方向上實現(xiàn)。用于張緊的力和
移動在板的兩側(cè)上能相同，或箔僅在一側(cè)上張緊。 如果具有不同厚度的工件將在系統(tǒng)中傳輸，抓緊設(shè)備在每種情況下能設(shè)置有用于第二夾持設(shè)備的彈性元件。在此情況下，彈簧行程設(shè)置于朝著工件或相應(yīng)地遠離所述工件
的方向上。所述上述具體實施例優(yōu)選地用來以可再現(xiàn)的方式保持箔狀工件并且確保它們在
板平面中以便能均勻地處理產(chǎn)品的每個區(qū)域。通過在夾持期間張緊工件，它們的位置以精
確的方式固定，并且它們能在精確的位置中被傳輸并且傳送至處理站中的保持設(shè)備。另外
的成果的是板和安裝部件比如流動設(shè)備之間的間隔在整個表面上是相同的，因而使得能均
勻處理每個表面元件。甚至在產(chǎn)品移動期間，產(chǎn)品的每個區(qū)域移動相同的路徑。 工件還能用第一 (較大)力在一側(cè)上保持并且僅其另一側(cè)用小于第一力的第二力
向外拉動。 尤其有利的是第一和第二夾持設(shè)備的移動是旋轉(zhuǎn)移動。例如，在本發(fā)明尤其優(yōu)選 的具體實施例中，緊固設(shè)備中的一對夾持設(shè)備的第一夾持設(shè)備可繞著第一旋轉(zhuǎn)軸線旋轉(zhuǎn)并 且緊固設(shè)備中的該對夾持設(shè)備的第二夾持設(shè)備可繞著與第一旋轉(zhuǎn)軸線平行的第二旋轉(zhuǎn)軸 線旋轉(zhuǎn)。這使得能以非常緊湊的方式設(shè)計所述裝置。另外，工件上的閉合力能借助旋轉(zhuǎn)位 置以平緩且精確的方式來調(diào)節(jié)。最后，這個改進還使得箔狀工件能容易抓緊和張緊。
工件的第一側(cè)的位置能借助第一夾持設(shè)備的旋轉(zhuǎn)位置特別精確地限定。為了通過 旋轉(zhuǎn)第一夾持設(shè)備來限定工件的位置，第一夾持設(shè)備的與第一旋轉(zhuǎn)軸線成直角地形成的截 面的外邊界的第一部分在本發(fā)明特別優(yōu)選的具體實施例中能是凸起地彎曲的并且所述截 面的外邊界的第二部分能由切向地連接至外邊界的第一部分的直的邊界線形成。因此，第 一部分能形成為凸輪盤類型。通過第二部分適當?shù)貞?yīng)用為與工件平齊，工件的位置能以精 確的方式限定。第一部分用來在第二部分靠近時平緩地引導工件。在這個具體實施例中， 第一夾持設(shè)備的旋轉(zhuǎn)軸線能優(yōu)選地放置為使得外邊界在旋轉(zhuǎn)期間接近工件表面直到直的 第二部分以平齊的方式抵靠工件表面。 在本發(fā)明格外優(yōu)選的具體實施例中，第一部分由與第一旋轉(zhuǎn)軸線平行的凸形表面 區(qū)段形成并且第二部分由構(gòu)造為抵靠工件第一側(cè)的優(yōu)選地平狀的接觸面形成。這意味著第 一夾持設(shè)備在閉合位置中平滑地抵靠工件表面；從而避免工件在夾持點處的翻倒移動。在 抓緊工件時，第一夾持設(shè)備，在此情況下在方法步驟i)中，能旋轉(zhuǎn)直到平狀表面部分到達 抵靠位置。 第二夾持設(shè)備優(yōu)選地具有凸形夾持面，其構(gòu)造為將夾持力傳送到工件的第二側(cè) 上。第二夾持設(shè)備優(yōu)選地包括凸形夾持面，其設(shè)計為將夾持力傳送至工件的第二側(cè)。為此， 第二夾持面以距第二旋轉(zhuǎn)軸線一個距離地布置，該距離等于或大于第二旋轉(zhuǎn)軸線和這個夾 持將抵靠于此的工件表面之間的距離。這個第二夾持面優(yōu)選地設(shè)計為與第二旋轉(zhuǎn)軸線平 行。 對于緊湊型實施例，緊固設(shè)備包括保持至少一個第一夾持設(shè)備并且相對于第一旋 轉(zhuǎn)軸線同軸的第一扭桿以及保持至少一個第二夾持設(shè)備并且相對于第二旋轉(zhuǎn)軸線同軸的 第二扭桿。扭桿能由實心材料或由管形成。 為了能以堅固的方式保持板狀工件，優(yōu)選地每個由第一和第二夾持設(shè)備構(gòu)成的至 少兩對夾持設(shè)備能保持于包括第一和第二扭桿的扭桿對處并且形成緊固設(shè)備。這些夾持設(shè) 備對能優(yōu)選地布置為在相應(yīng)的緊固設(shè)備處間隔開以便例如使得能保持工件，或在盡可能遠 離彼此地間隔開的其它點處以使得在沒有翻倒的可能性之下保持工件。因而，在工件下降 入處理模塊中的浴時，板不可能偏移。如果夾具具有幾對夾持設(shè)備，必須小心地設(shè)計以確保所有夾持設(shè)備能用充分的夾持力抓緊。在一個緊固設(shè)備上的上部和下部夾持設(shè)備對之間能 設(shè)置另外的夾持設(shè)備對，其然后在側(cè)面處抓緊板的邊緣。 在本發(fā)明的另一個具體實施例中，工件還能專門地在其上表面處由抓緊設(shè)備保 持。在此情況下，工件僅用幾個夾持設(shè)備抓緊，即，經(jīng)由幾個接觸點，優(yōu)選地經(jīng)由僅兩個接觸 點，由此夾持設(shè)備接觸工件。在緊固設(shè)備在這種情況下僅浸入浴中少許時，流體難以被夾帶 出處理模塊。 在一個優(yōu)選的具體實施例中，抓緊設(shè)備由耐腐蝕材料比如不銹鋼或鈦制成。 抓緊設(shè)備直接抓緊產(chǎn)品，S卩，在沒有使用另外的框架或架之下，在傳輸期間或在處
理期間保持產(chǎn)品。因而處理浴的高等級清潔度和較長使用壽命是可能的，因為僅有少量的
涉及傳輸?shù)脑С?drag-out)。這樣還避免了板由于流體粘著至框架而被污染。 保持力借助彈簧機構(gòu)產(chǎn)生。因而這確保產(chǎn)品繼續(xù)保持被抓緊，即使電源中斷。與
之相反，緊固設(shè)備處的打開力經(jīng)由致動驅(qū)動器比如氣壓氣缸或馬達產(chǎn)生。 根據(jù)本發(fā)明在系統(tǒng)中使用的抓緊設(shè)備用來將工件傳輸入處理模塊以便處理。根據(jù)
本發(fā)明，工件在傳輸模塊中被傳送至布置于模塊中的保持設(shè)備。為此，一旦工件已經(jīng)傳送至
抓緊工件的保持設(shè)備，抓緊設(shè)備能釋放工件。之后其能再次從模塊移出。在抓緊設(shè)備將第
一工件存放于模塊中之后，其可用于另一個工件的傳輸。因此，在處理過程期間，在此情況
下，抓緊設(shè)備沒有定位于處理模塊中。因此保持工件的抓緊設(shè)備能移動進入處理模塊以便
在此存放和釋放工件，工件由布置于模塊中的保持設(shè)備接收。抓緊設(shè)備然后從處理模塊移出。 以相應(yīng)的方式抓緊設(shè)備能在方法步驟i)之前移入處理模塊以接收已經(jīng)在處理模 塊中處理的工件以便在此抓緊工件。為此，布置于模塊中的保持設(shè)備釋放工件。 一旦工件 已經(jīng)被抓緊，抓緊設(shè)備與工件一起從處理模塊移出。 為了在移入或移出抓緊設(shè)備時不損害定位于處理模塊中的工件，第一和第二夾持 設(shè)備同時地或在具有時間延遲之下從它們的抓緊位置打開。 為了將工件在浴容器中從抓緊設(shè)備傳送至保持設(shè)備或與之相反，工件的位置必須 沒有改變，因為否則將需要在浴容器中重新對準工件。尤其在非常薄且輕的印刷電路箔的 情況下，每個工件設(shè)置最少兩個緊固設(shè)備。在此情況下，工件從傳輸設(shè)備至保持設(shè)備的傳送 在浴容器中發(fā)生，優(yōu)選地在兩個步驟中在第一步驟中，抓緊設(shè)備的第一夾持設(shè)備打開，而 浴中相關(guān)保持設(shè)備的夾持設(shè)備仍舊打開。抓緊設(shè)備的第二夾持設(shè)備仍然保持處于原始位置 以使得工件然后仍然僅抵靠第二夾持設(shè)備。然后在浴中保持設(shè)備的第一夾持設(shè)備閉合。在 第二步驟中，抓緊設(shè)備的第二夾持設(shè)備打開，然后浴中保持設(shè)備的第二夾持設(shè)備閉合。
這種操作方法防止在工件的位置沒有變化之下導電箔由于傳送過程而損壞。在傳 輸系統(tǒng)處的可位移夾持設(shè)備相對于浴中保持設(shè)備處的固定夾持設(shè)備偏移時，如果抓緊設(shè)備 的夾持設(shè)備和保持設(shè)備的夾持設(shè)備都在板的一側(cè)上同時閉合，那么工件將在由保持設(shè)備抓 緊時由于材料的過度膨脹而損壞。另外，抓緊設(shè)備還能設(shè)計為使得，利用所述抓緊設(shè)備，能產(chǎn)生與保持工件的電接 觸，這意味著極化的電流傳送至移入或移出處理模塊的產(chǎn)品。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)優(yōu)選地包括沖洗設(shè)備(優(yōu)選地噴水設(shè)備)，至少一個抓緊設(shè)備 和/或工件能在從處理模塊移走時用其沖洗(例如用軟管沖洗)。沖洗設(shè)備設(shè)置于浴的液位之上并且在具有或不具有工件的抓緊設(shè)備在提升出來時移動經(jīng)過沖洗設(shè)備例如噴射管 時操作。因此，夾持設(shè)備能在抓緊設(shè)備移動經(jīng)過沖洗設(shè)備時被清潔。因此，尤其能沖洗夾持 設(shè)備上夾持設(shè)備由此接觸工件的區(qū)域。沖洗設(shè)備尤其還能在抓緊設(shè)備處于沒有保持任何工 件的位置(即尤其在抓緊設(shè)備在已經(jīng)存放工件之后移出處理模塊時的位置)時操作。作為 替代，抓緊設(shè)備還能借助設(shè)置于傳輸設(shè)備上的沖洗設(shè)備來沖洗，例如借助安裝于所述位置 處的噴射管，例如在從一個模塊至另一個模塊的行程期間。傳輸系統(tǒng)能設(shè)置有自動接盤以 便避免帶出。 處理模塊中的保持設(shè)備能設(shè)計為使得工件從而保持于處理模塊中的位置能調(diào)節(jié)， 更具體地為在與工件平面平行的一個或多個方向上定中或還相對于其成直角。定位設(shè)備為 此目的設(shè)置于處理模塊中，從而在處理期間保證產(chǎn)品的最佳位置。定位設(shè)備優(yōu)選地定位于 浴區(qū)域中并且能平行于板表面與板對準，例如垂直對準能經(jīng)由止動元件來設(shè)置并且橫向?qū)?準經(jīng)由偏心地安裝的盤或杠桿機構(gòu)來設(shè)置。 為了及早地識別板是否相對于抓緊設(shè)備傾斜地懸掛，傳輸設(shè)備能設(shè)置有傳感器系 統(tǒng)。這在至少兩個點處監(jiān)視板的位置。例如感光傳感器是適合的。 各個處理模塊優(yōu)選地裝配用于自給自足式操作，即，每個處理模塊具有產(chǎn)品處理 所需的所有設(shè)備，例如其自身的容器，自身的流動元件、移動產(chǎn)品的設(shè)備、泵、用于過濾、冷 卻，加熱和定劑量的設(shè)備等。每個處理模塊因此能獨立于其它模塊操作。這使得能停止這些 處理模塊和處理模塊中的工件之間的任何相互干擾，例如通過經(jīng)由共同容器壁的熱傳遞、 通過流體交換、廢氣混合、不同的電源等。這意味著處理參數(shù)以非常精確的方式可控和可測 量并且產(chǎn)生顯著較好且特別均勻的處理結(jié)果。 原則上，系統(tǒng)能設(shè)置為使得使用幾種類型的處理模塊。每個模塊類型就數(shù)量和設(shè) 計(浴循環(huán)、加熱、冷卻、相關(guān)流動設(shè)備等)具有安裝和附屬部件的選擇，它們?nèi)缓蟾鶕?jù)處理 模塊中的過程要求安裝。因此，具有由此選擇部件來安裝處理模塊的最大裝備。這意味著 一個模塊類型的不同處理模塊中的安裝和附屬部件相同地設(shè)計并且布置于相同的位置處。 這降低了設(shè)計和生產(chǎn)上花費的成本和勞動強度。安裝和附屬部件的過程、處理相關(guān)性能在 它們安裝于其中的每個處理模塊中也是相同的。這意味著相同地裝配的處理模塊的性能數(shù) 據(jù)并且因此在所述處理模塊中處理的工件的處理結(jié)果的偏差最小化。但是而且源于不同地 裝配的處理模塊的性能并且因此處理結(jié)果因而也是可比較的。 根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)能設(shè)計為使得至少一個處理模塊包括以下結(jié)構(gòu)特點 a.用于容納處理流體的容器； b.具有保持容器的容納框架的基本框架； c.安裝部件，也就是說定位于容器的內(nèi)部直到蓋的部件，比如舉例來說用于加熱、 冷卻； d.用于與工件平面成直角地移動的安裝部件的支撐框架；
e.用于與工件平面平行地移動的安裝部件的振蕩框架； f.附屬部件，也就是說定位于容器內(nèi)部區(qū)域外面的部件，比如泵、過濾器；以及
g.用于容器的蓋。 由于容器由容納框架支撐并且同時固定地或可分離地連接至所述框架，其無需采 用其自身的任何靜態(tài)功能。其在如此大的游隙之下安裝，例如懸掛于容納框架中，以使得其熱膨脹不會傳遞到容納框架或構(gòu)架上。例如，具有凸緣邊緣的容器能懸掛于由基本框架保 持的容納框架中。每個處理模塊從而能緊固至地板上或天花板上或另外的緊固面上。每個 模塊能具有其自身的基本框架或能是具有其它模塊的共用基本框架。這種類型的基本框架 也能是可膨脹的。基本框架優(yōu)選地由金屬制成以便大大地消除溫度影響?；究蚣苣茇Q立 在地板上或能緊固至壁或天花板。作為處理模塊的部件的附屬和安裝部件沒有緊固至容器 本身。這就使得容器在操作期間能充分地熱膨脹而不會導致所述部件的位置的任何改變。 因此，處理模塊中的各個部件相對于彼此的空間布置與容器必須采用自身的支撐作用相比 顯著地更精確并且更易于再現(xiàn)。由于容器的熱膨脹出于上述原因不會影響處理模塊中的各 個部件的定位，其設(shè)計能簡單并且容器不需要增強，這意味著與傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)相比容器的生產(chǎn) 成本能顯著地降低。 另外，容器優(yōu)選地構(gòu)造為就浴流動而言沒有死區(qū)，S卩，它們具有圓滑化的角部。容 器橫截面能在頂部處大于底部處以使得容易調(diào)換安裝部件。容器優(yōu)選地由塑料制成。為了 獲得節(jié)省成本的生產(chǎn)，容器有利地使用批量生產(chǎn)的節(jié)省成本的方法生產(chǎn)，比如離心模塑、旋 轉(zhuǎn)模塑或容器吹制。容器能由金屬或塑料制成。 支撐框架優(yōu)選地緊固至容納框架。在另外的具體實施例中，支撐框架由容納框架 保持以便可位移。這意味著支撐框架能保持容器安裝部件，它們相對于容器位移并且與產(chǎn) 品成直角，比如舉例來說，保持設(shè)備和流動元件以及電極。支撐框架優(yōu)選地借助氣壓驅(qū)動器 移動。通過氣壓驅(qū)動器的限定的端部位置，支撐框架能到達處理模塊中的限定位置。這以 可再現(xiàn)的方式使得產(chǎn)品在抓緊設(shè)備和保持設(shè)備之間的精確傳送。這些類型的氣壓驅(qū)動器還 能用于處理模塊中的其它設(shè)備，如果所述設(shè)備必須到達限定位置。 不管支撐框架的可位移性，其在處理模塊中的精確定位是重要的，因為安裝于其 上的安裝部件和產(chǎn)品必須相對于抓緊設(shè)備精確地定位。因此，在本發(fā)明的一個具體實施例 中，支撐框架或其導向件在至少一個方向上在至少一個點處可調(diào)節(jié)，優(yōu)選地垂直地和側(cè)向 地。 支撐框架優(yōu)選地由金屬制成以便大大地消除溫度影響。 振蕩框架能緊固至支撐框架以便可位移。能與板表面平行地移動的部件，比如舉 例來說，流動元件或陽極，緊固至振蕩框架。在一個優(yōu)選實施例中，振蕩框架能包括吊桿，其 能用來引導支撐框架上的振蕩框架并且還作為噴霧管的管。這個布置的實現(xiàn)在于將要與 產(chǎn)品平行地移動的部件，尤其是流動元件和陽極，一直處于與產(chǎn)品相距恒定間隔，即使產(chǎn)品 同時相對于其表面以直角移動。這使得能實現(xiàn)產(chǎn)品最佳的均勻處理。
流動設(shè)備優(yōu)選地設(shè)置于每個處理模塊中。 為了保持處理模塊中的溶液容積以及模塊所需的空間盡可能地低，處理模塊優(yōu)選 地設(shè)計為盡可能地緊湊。例如，能在化學地并且無電鍍地操作的模塊中實現(xiàn)液體容積和板 坯之間的比率小于8升/平方分米并且在電鍍模塊中小于15升/平方分米，容器的相應(yīng)尺 寸幾乎不大于工件的那些尺寸。 為了實現(xiàn)各個處理模塊盡可能節(jié)省成本的維護過程，移動的安裝部件保持于其上 的支撐框架能設(shè)計為可從模塊移走。這還允許處理站容易適應(yīng)于不同的處理任務(wù)。
由于處理模塊相對較輕的重量和緊湊性并且由于使用相同的連接以為模塊供應(yīng) 輔助電源和用于移出以及由于在所有情況下空間需求相同，全部處理模塊能以簡單的方式交換。升級系統(tǒng)也比較簡單。預制的處理模塊于處理站的相應(yīng)位置處放置、對準并且連接 并且傳輸設(shè)備被調(diào)節(jié)。 例如用于壓縮空氣和水的供應(yīng)設(shè)備能優(yōu)選地緊固至基本框架。它們在相同類型的
每個處理模塊中定位于相同位置處。因此，為處理模塊準備場地是簡單的。 在本發(fā)明特別優(yōu)選的具體實施例中，系統(tǒng)中的至少一個處理模塊設(shè)計來僅容納和
處理一個工件，即，在任何時候處理模塊中僅具有一個工件。模塊還能設(shè)計來容納布置為在
模塊中彼此相鄰的數(shù)個工件。在此情況下，工件能優(yōu)選地在處理模塊中定位于彼此隔開的
隔室中。然而，在模塊中處理單個工件是優(yōu)選的并且實現(xiàn)了工件高度可再現(xiàn)的、可完成的處
理。每個工件的處理條件能獨立于其它工件非常精確地調(diào)節(jié)。 對于工件的處理，處理模塊能以模塊序列布置以使得能通過一個接一個地將工件 移入各個模塊來以模塊序列一個接一個地處理工件。多個這種類型的處理模塊序列能彼此 緊接地布置以使得產(chǎn)生處理模塊的序列和排的矩陣。因此，在其中實施相同處理步驟的多 個處理模塊能布置為彼此緊接以便能同時處理多個工件。矩陣還能包括使得能實現(xiàn)對于一 個處理排中的處理而言是替換方案的操作模式的模塊，例如，具有偏離過程參數(shù)的模塊。這 種類型的系統(tǒng)能適合于以最佳方式可用的空間。如果使用各個容器，相鄰的容器優(yōu)選地間 隔開，從而不會出現(xiàn)相鄰容器的相互干擾，例如通過熱傳遞。然而，分開的容器能由優(yōu)選地 可堵塞的管線(旁路線)互相連接。這能實現(xiàn)互相連接的容器具有就濃度和溫度而言相同 的浴流體。 傳輸設(shè)備的控制更具體地能設(shè)計為使得容量利用盡可能地最佳。 矩陣狀布置中的模塊對于各個處理站還能設(shè)置為使得用預定處理序列處理的工
件沒有移入一排或序列的模塊矩陣內(nèi)的處理模塊，而是移入與之偏離的序列。因此，模塊以
矩陣形狀布置于此的傳輸設(shè)備更具體地能設(shè)計為使得抓緊設(shè)備從一個處理模塊輸送至任
何另一模塊(通過使用所謂的協(xié)調(diào)傳輸車)，即，傳輸設(shè)備能延伸至所有排的處理模塊以使
得抓緊設(shè)備將工件供應(yīng)至不同排的處理站或?qū)⒐ぜ粋€接一個地輸送至一排內(nèi)的不同模
塊。這還實現(xiàn)了傳輸設(shè)備的最大可能的靈活性和容量利用以及系統(tǒng)對空間和生產(chǎn)需求的適應(yīng)性。 板優(yōu)選地在方法方向上傳輸，這意味著材料以最佳方式傳輸。然而，可自由構(gòu)造的 處理序列也是可能的，比如舉例來說處理步驟的重復。這使得在處理板時具有最大的自由 度。 —種立式系統(tǒng)的特征在于主傳輸方向，其由傳輸車所行進的路徑產(chǎn)生，下文中也 稱為x軸線。y軸線與之成直角地并且在水平面中延伸。與這兩個軸線成直角地，各個處理 模塊的高度借助z軸線描述。 除了相應(yīng)于模塊中的板延伸部分的垂直延伸部分，處理模塊在所有情況下包括相 對地定位的縱向側(cè)面和端面，端面比縱向側(cè)面要窄。 在本發(fā)明優(yōu)選的具體實施例中，處理模塊布置為使得各個縱向側(cè)面在傳輸方向上 延伸。這意味著很多處理模塊能彼此相鄰地放置并且因此很多工件能在傳輸設(shè)備無需跨過 一排中的所有處理模塊的過度寬度之下在這些處理模塊的相應(yīng)一個中同時地被處理。因 此，處理模塊在這個具體實施例中放置為使得它們的縱向側(cè)面與x軸線平行地延伸。實際 上，那么就有兩個不同的處理序列
處理序列1 :用于不同處理的模塊沿著y和x方向布置，因此在y和X方向上都能
對由抓緊設(shè)備傳輸通過該系統(tǒng)的產(chǎn)品進行處理。這能是例如處理位置的蜿蜒狀序列。這個 序列有利地用于較小生產(chǎn)量的系統(tǒng)。 處理序列2 :具有相同處理任務(wù)的模塊布置于y方向上并且具有不同任務(wù)的模塊 布置于x方向上。處理序列于是將僅在x方向上發(fā)生。這個設(shè)計提供為使得傳輸車的x尺
寸在具有給出數(shù)量的板之下盡可能地短。 當然，對于這兩個處理序列也能在y方向上對準縱向側(cè)面。 同樣優(yōu)選的是每兩個處理模塊布置為經(jīng)由端面彼此緊鄰(彼此直接鄰近)。因此， 能容納與每個處理模塊相聯(lián)系的部件以使得它們易于觸及以便維護，因為維護通路能設(shè)置 于每對處理模塊之間。部件能優(yōu)選地布置于模塊的相應(yīng)另一端面處。這使得一方面節(jié)省空 間，并且另一方面具有良好的可觸及性。 由于所使用的每個設(shè)備零件(安裝部件、附屬部件)僅與一個處理模塊和一個工 件(當其在模塊中處理期間)相聯(lián)系，能在任何時候通過評測用于工件的實際供應(yīng)電流、容 器中的流動條件、溫度、浴成分等來獲取關(guān)于某一工件生產(chǎn)條件的信息及其處理數(shù)據(jù)。這意 味著能省略具有傳感器(否則需要記錄處理數(shù)據(jù))的間接措施(用于數(shù)個工件)。
另外，處理模塊能包括用于電源的連接，比如空氣噴射、用于水供應(yīng)和排氣的連 接，每個具有它們自身的傳感器系統(tǒng)以檢測相應(yīng)的輸出。另外，用于溫度、流體水位和流動 條件的傳感器系統(tǒng)和控制系統(tǒng)能根據(jù)處理模塊的具體目的來設(shè)置。這意味著每個處理過程 的處理參數(shù)能被記錄、證實并且與所處理工件相聯(lián)系。 根據(jù)本發(fā)明的立式系統(tǒng)的處理模塊在另一個優(yōu)選的布置中能設(shè)置有蓋，優(yōu)選地具 有自動地致動的蓋。這些類型的蓋能是滑動門的形式，用于將下降入處理模塊的工件。
處理模塊還能設(shè)置有排氣設(shè)備。另外，在本發(fā)明優(yōu)選的具體實施例中，在傳輸設(shè)備 上具有排氣設(shè)備，尤其在傳輸設(shè)備也朝著其中在明顯高于室溫的溫度下實施處理的處理模 塊移動時。在此情況下，傳輸設(shè)備優(yōu)選地裝備有包圍設(shè)備的殼體。排氣設(shè)備的相應(yīng)出口空 氣線路能設(shè)置有相應(yīng)的排氣連接器以使得抽出的空氣被吸出傳輸設(shè)備。連接器能設(shè)置有適 合的閥。 系統(tǒng)能設(shè)計為使用清潔室技術(shù)。所謂的流動盒能設(shè)置于此，即，凈化的(過濾的) 空氣能以分層方式流動穿過其中的盒。這個流動盒能布置為固定在處理模塊上方以使得 傳輸設(shè)備在這個流動盒中移動，或流動盒簡單地包圍傳輸設(shè)備并且與所述傳輸設(shè)備一起移 動。為了產(chǎn)生流動盒中清潔室的條件，能提供一種設(shè)備，例如其在所傳輸工件上方與傳輸設(shè) 備連帶并且向下輸出清潔室空氣，繞著工件流動。僅移動工件進入處理模塊引起安裝在容 器上的蓋打開以便避免雜質(zhì)進入處理流體。 一旦工件已經(jīng)移入或移出，蓋再次閉合。
為了使得從流動盒流動的分層空氣沿著產(chǎn)品保持盡可能地分層，傳輸系統(tǒng)的形狀 與之協(xié)調(diào)。抓緊設(shè)備設(shè)計為使得盡可能少地出現(xiàn)干擾，并且因此例如以有利于流動的方式， 例如滴狀方式，封閉。抓緊設(shè)備緊固于此的橫梁是圓化的，例如具有圓形橫截面。
傳輸設(shè)備能包括絕對的測量系統(tǒng)，其使得傳輸設(shè)備能正確地定位于設(shè)備移動的三 個(正交)方向上。為此，例如，機電定中系統(tǒng)用于每個處理模塊。各個位置在系統(tǒng)開始時 接近直到它們精確地到達，并且在這時獲得的定位值然后存儲于系統(tǒng)控制中以使得它們將 來以精確的方式自動地接近。自動控制的重新調(diào)節(jié)以一定的時間間隔實施。
每個處理模塊能具有其自己的監(jiān)控處理液體參數(shù)的自動系統(tǒng)，S卩，自動測量系統(tǒng)， 優(yōu)選地在線地測量流體中物質(zhì)的濃度，以及另外地這些物質(zhì)的自動定劑量裝置。另外，能 提供與處理模塊相聯(lián)系的記錄裝置，利用記錄裝置能各自地收集每個工件與生產(chǎn)相關(guān)的數(shù) 據(jù)，將這些數(shù)據(jù)與相應(yīng)的工件相聯(lián)系并且然后記錄在報告中。 在根據(jù)本發(fā)明的系統(tǒng)中，每個板能用各自的處理程序處理，因為其必須能處理板，
這需要非常寬范圍的不同處理參數(shù)以便例如能以特別優(yōu)化的方式處理盲孔、具有高縱橫比
的鉆孔、層厚分布偏差特別小的表面、具有較差傳導性涂層的基座材料等。在所有情況下能
優(yōu)化的變量例如能是池成分、處理時間、入射流動、電流參數(shù)、溫度、方法順序等。 為了實現(xiàn)最佳處理結(jié)果，工件能在x方向上(即主傳輸方向上)和/或y方向上
(即相對于傳輸方向橫向地)和/或z方向上(即提升/下降方向上)在數(shù)個處理模塊中
對準。這能在系統(tǒng)自身例如處理模塊中發(fā)生?；蛘咂浔仨毚_保在板于移入系統(tǒng)之前一次性
對準之后，傳輸設(shè)備上和處理模塊內(nèi)部的板導向裝置如此精確地作用以使得不會超過所容
許的公差。


下面描述的附圖用來更詳細地解釋本發(fā)明 圖1是抓緊設(shè)備優(yōu)選的具體實施例的側(cè)視圖； 圖1A是穿過板形工件的示意性截面； 圖2是沿著圖1中的B-B線的截面； 圖3是沿著圖2中的C-C線的截面； 圖4是沿著C-C線穿過圖2所示的處于不同抓緊階段的抓緊設(shè)備的截面； 圖5是根據(jù)本發(fā)明的立式系統(tǒng)的處理模塊的示意性頂視圖； 圖6是圖5中的處理模塊的截面中的示意性側(cè)視圖； 圖7是在存放或拾取工件W時用于抓緊設(shè)備的傳輸設(shè)備的一部分的示意性側(cè)視 圖； 圖8是圖7中的傳輸設(shè)備具有空氣動力學殼體時的示意性側(cè)視圖； 圖9是第一具體實施例的處理模塊的布置的示意性圖示； 圖10是第二具體實施例的處理模塊的布置的示意性圖示； 圖11是第三具體實施例的處理模塊的布置的示意性圖示；
具體實施例方式
相同的附圖標記在所有附圖中涉及相同元件。 圖1示出根據(jù)本發(fā)明的抓緊設(shè)備IO優(yōu)選的具體實施例。工件W由抓緊設(shè)備10抓 緊。工件10是板形工件，例如印刷電路箔。根據(jù)圖1A，工件W具有接觸側(cè)(第一側(cè))WE。其 包括內(nèi)部有用區(qū)域W,，其由虛線與外部邊緣區(qū)域WK分開。抓緊設(shè)備IO包括第一緊固設(shè)備 20和第二緊固設(shè)備30。這些緊固設(shè)備20、30每個包括第一扭桿21、31和第二扭桿22 (圖 2)。第二扭桿在圖1中不能看到，因為它們由工件W覆蓋。第一扭桿21、31和第二扭桿22 進一步向上延伸并且保持于裝配架中，裝配架未示出，但是也形成抓緊設(shè)備10的部件。
與第二夾持設(shè)備(未示出) 一起夾持工件W的第一夾持設(shè)備25、35支撐于第一扭桿21、31上。 抓緊設(shè)備10的第一扭桿21、31和第二扭桿22以及第一夾持設(shè)備25、35和第二夾 持設(shè)備26(圖2)優(yōu)選地由不銹鋼制成。 圖2示出沿著圖1中的B-B線的截面。第一扭桿21(繞著第一旋轉(zhuǎn)軸線201)和 第二扭桿22(繞著第二旋轉(zhuǎn)軸線202)支撐相應(yīng)的第一夾持設(shè)備25和第二夾持設(shè)備26。工 件W示出為被夾持在這些夾持設(shè)備25、26之間。 圖3示出沿著圖2中的C-C線的截面。第一夾持設(shè)備25就座于第一扭桿21 (繞 著第一旋轉(zhuǎn)軸線201)上并且第二夾持設(shè)備26就座于第二扭桿22 (繞著第二旋轉(zhuǎn)軸線202) 上。工件W，例如導體箔，夾持在這兩個夾持設(shè)備之間。在圖3的示圖中(正如圖1和2中 所示)，工件W示出為已經(jīng)完全地被夾持。第一夾持設(shè)備25和第二夾持設(shè)備26借助第一扭 桿21 (繞著第一旋轉(zhuǎn)軸線201)或相應(yīng)地第二扭桿22 (繞著第二旋轉(zhuǎn)軸線202)的旋轉(zhuǎn)而移 動進入閉合位置。在這個閉合位置中，在所示示例中為平狀的接觸面27平坦地抵靠工件W 的表面。這個表面由工件上的接觸平面WE形成。第二夾持設(shè)備26的夾持面29也抵靠工 件并且將夾持力施加到工件W上。第一夾持設(shè)備25的凸狀表面區(qū)段由附圖標記28標識。
抓緊過程的時序在圖4中示出為五個不同階段。示圖相應(yīng)于圖3的示圖。在其中 工件W還沒有被抓緊的第一位置(開始位置A)，兩個夾持設(shè)備25、26都沒有抵靠工件W的 表面。通過逆時針地旋轉(zhuǎn)第一夾持設(shè)備25，凸狀表面區(qū)段28接近工件W的第一表面。同時 在所示示例中，第二夾持設(shè)備26順時針旋轉(zhuǎn)。在第三旋轉(zhuǎn)位置(C)，第一夾持設(shè)備25的接 觸面27抵靠工件W的第一表面，因為這個設(shè)備25已經(jīng)進一步逆時針旋轉(zhuǎn)。第二夾持設(shè)備 26的夾持面29還沒有抵靠工件W的第二表面，盡管這個夾持設(shè)備26也已經(jīng)進一步逆時針 旋轉(zhuǎn)。在旋轉(zhuǎn)位置(D)，夾持面29現(xiàn)在也抵靠工件W的第二表面并且將夾持力施加到工件 W上。如果第二夾持設(shè)備26通過施加增大的旋轉(zhuǎn)力(順時針，參見箭頭)進一步旋轉(zhuǎn)離開 這個旋轉(zhuǎn)位置，工件W能被張緊(旋轉(zhuǎn)位置E)。 為了更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明的立式系統(tǒng)，參照下面附圖，這些附圖以示意性的 方式再現(xiàn)了系統(tǒng)的各個部件。 圖5示出立式系統(tǒng)的處理模塊100的示意性頂視圖 處理模塊100包括容納框架110。所述容納框架110是在圖6中更詳細地示出的 基本框架105的一個部件。容納框架IIO用來保持容器(沒有在圖5中更詳細地示出)，處 理流體保持于容器中并且在其中進行電鍍處理。容納框架iio例如由堅固的型材制成，優(yōu) 選地由金屬制成。其能固定地或可分離地連接至基本框架105的其余部分。圖5示出處理 模塊100的內(nèi)部的視圖。還能識別支撐框架120，其在空間上定位于工件W上方，工件W定 位于容器中并且圍繞容器200的端部區(qū)域延伸。支撐框架120用來保持保持工件W的保 持設(shè)備130(130. 1、130. 2)，以及用來保持不同的安裝部件的振蕩框架140。支撐框架平行 于箭頭PJ主復移動。因此，所有模塊部件并且因而工件W也與這個移動同步地移動。所述 移動借助驅(qū)動器125例如氣壓缸實現(xiàn)，其支撐于容納框架110上。支撐框架經(jīng)由借助調(diào)節(jié) 設(shè)備128精確地定位的軌道127在限定路徑上移動。用于驅(qū)動器125的氣壓缸很小并且與 馬達驅(qū)動器相比，對于通常在電鍍?nèi)萜髦性谠〉谋砻婧蜕w之間盛行的蒸汽并且對于流體不 敏感。另外，它們節(jié)省成本。除此之外，它們使得能限定受驅(qū)的支撐框架120的端部位置。
在支撐框架120也保持振蕩框架140時，其也類似于支撐框架120那樣平行于箭頭Pi往復移動。另外，振蕩框架140經(jīng)由另一個驅(qū)動器145在與支撐框架120的移動方向
Pi成直角地延伸的一個方向上往復移動。這個移動方向由另外的箭頭P2指示。 用于支撐框架120或相應(yīng)地振蕩框架140的驅(qū)動器125和145被氣壓地驅(qū)動或由
電動機驅(qū)動。 在容器200內(nèi)部具有工件W，例如印刷電路板。這個工件W由保持設(shè)備130(130. 1、 130.2)以豎直方位保持于容器中。保持設(shè)備130在其相應(yīng)的端部區(qū)域中抓緊工件W。圖l 示出兩個保持設(shè)備130，即在左邊緣處抓緊工件W的第一保持設(shè)備130. 1，以及在右邊緣處 抓緊工件W的第二保持設(shè)備130. 2。保持設(shè)備130，正如工件W那樣，以豎直方位保持于容 器中。保持設(shè)備130每個包括兩個夾持指狀物組135，它們在夾住工件W時均靠在一個邊 緣側(cè)上。夾持指狀物組135每個可繞著樞轉(zhuǎn)點樞轉(zhuǎn)。因此它們能樞轉(zhuǎn)入釋放位置和夾持位 置。為此目的具有每個致動一個夾持指狀物組135的驅(qū)動器137。所述驅(qū)動器137還在氣 壓力的作用下氣壓地操作、打開和閉合，或替代地在氣壓力的作用下打開，而在此情況下借 助預偏壓彈簧施加閉合力。這意味著如果電源中斷也能一直保持閉合力。
保持設(shè)備130由支撐框架120保持。這意味著保持框架130，因而還有夾持指狀物 組135以及最終所有工件W由支撐框架120的往復移動保持為與箭頭方向Pi平行地恒定 移動。 另外，在容器中的工件W的兩側(cè)上具有由振蕩框架140保持的流動設(shè)備150。在振 蕩框架140以在箭頭方向P工上并且還在箭頭方向P2上的恒定移動而移動時，所述流動設(shè)備 150也在這些方向上恒定地移動。當在箭頭方向P工上的移動的偏轉(zhuǎn)相應(yīng)于支撐框架120并 且因而工件W的偏轉(zhuǎn)時，工件W和流動設(shè)備150之間的間隔一直保持恒定。另外，在流動設(shè) 備150和工件W之間出現(xiàn)與工件W的表面平行的相對移動，以使得能獲得兩個工件表面上 的均勻的碰撞。 容器的外面是附屬部件，即比如過濾器600之類的單元和比如泵700之類的另外 單元，以及用于輔助介質(zhì)500比如壓縮空氣、水等的連接件。這些部件在共同位置處緊固至 基本框架。它們優(yōu)選地定位于其中模塊毗連到維護通路上的基本框架上的位置處。這些連 接件具有使用該介質(zhì)的單元的易于分離的連接部。 未示出還有可能的蓋，其在處理期間覆蓋處理模塊或還在模塊沒有包含工件時覆 蓋模塊。為了覆蓋處理模塊，具有在容納框架上的自動地打開的蓋，所述蓋優(yōu)選地是滑蓋的 形式并且優(yōu)選地氣壓地驅(qū)動。落下的顆粒以這種方式保持在浴的外面，并且要吸出的空氣 容積降低。 圖6是處理模塊100的側(cè)面剖視圖的示意性圖示。處理模塊100包括基本框架 105。基本框架105的一部分是容納框架IIO，其定位于模塊100的上部區(qū)域中用來保持例 如容器200。為此，容納型材115設(shè)置于容納框架110上，所述容納型材嚙合在容器200的 帶凸緣的邊界中。容器200因此懸掛于容納框架110中。 另外，支撐框架120經(jīng)由具有軌道127的導向件緊固至容納框架110。因此，容器 200的熱膨脹不能影響支撐框架120并且因此模塊100的其它部件的定位。在此情況下由 夾持指狀物組135表示的保持設(shè)備緊固至支撐框架120。另外，還示出了平行于附圖平面往 復移動的振蕩框架140。工件W，例如印刷電路板，在其邊緣的側(cè)面處由夾持指狀物組135 抓緊。
圖7是在將工件W存放于處理模塊中或相應(yīng)地從處理模塊中取出期間更詳細的傳 輸設(shè)備的示意性圖示。未示出處理模塊。 在圖7的下部區(qū)域中示出工件W，工件W的外邊界由實線和內(nèi)部功能區(qū)域W,表示， 內(nèi)部功能區(qū)域WN與由虛線示出的圓周外邊緣隔開，工件W同時由抓緊設(shè)備的夾持指狀物組 135和夾持設(shè)備25、35暫時保持。而夾持指狀物組135以夾持的方式專門地在側(cè)緣區(qū)域中 抓緊工件W以便不會不利于處理，抓緊設(shè)備的夾持設(shè)備25、35還能在頂部和底部邊緣處接 觸工件W以便將其傳輸。 夾持設(shè)備25、35由可在處理模塊上方移動的傳輸頭部300保持。傳輸頭部300支 撐抓緊設(shè)備的緊固設(shè)備20、30以及其用于抓緊設(shè)備的操作(旋轉(zhuǎn))的驅(qū)動器。例如，緊固 設(shè)備20、30的扭桿21、31能以最大程度變化的方式驅(qū)動，S卩，借助齒輪系統(tǒng)、杠桿系統(tǒng)、彈簧 系統(tǒng)、馬達或氣壓驅(qū)動器。驅(qū)動器機構(gòu)將開發(fā)為使得工件W在緊固設(shè)備20、30處于閉合狀 態(tài)之下在彈簧機構(gòu)的幫助下保持。為了釋放工件W，致動與抵抗彈簧力工作的打開驅(qū)動器。
傳輸頭部300在其上部中心部分包括燕尾導向件310，其由橫梁350保持。橫梁 350橫向地延伸越過一排相鄰地布置的處理模塊，以使得傳輸頭部300可在整排處理模塊 上方移動。這意味著傳輸頭部300能將緊固設(shè)備20、30降低入這排中的每個處理模塊。如 果數(shù)個這些類型的成排處理模塊以矩陣方式一個接一個地設(shè)置，另外還能在與橫梁350的 方向成直角的方向上移動傳輸頭部300。傳輸設(shè)備包括為此目的的傳輸車(未示出)。
圖8示出具有緊固于此的緊固設(shè)備20的傳輸頭部300，扭桿21、22利用夾持設(shè)備 25、26緊固于緊固設(shè)備20，并且空氣動力學殼體360包圍傳輸頭部300。這個殼體完全包圍 傳輸頭部300并且使得過濾后的空氣能以均勻的方式從上面圍繞產(chǎn)品W流動，這意味著沒 有將形成空氣湍流的風險，這種空氣湍流將導致污染。分層氣流不會由于殼體360的水滴 形狀而受損。 圖9是第一具體實施例中的處理模塊的布置的示意性圖示。這個布置涉及用于清 潔鉆孔的印刷電路板的處理，處理順序為裝載、膨脹、沖洗、高錳酸鹽處理、沖洗、還原、沖 洗、干燥以及卸載。 從鳥瞰示圖示出單獨的盒形式的單獨處理模塊。單個印刷電路板能容納于這些模 塊的每個中。模塊布置為使得它們布置為用其狹窄端面彼此相鄰。印刷電路板從而與主傳 輸方向(在示圖的頂部處的箭頭P)平行地導入模塊。這意味著許多電路板能同時處理，并 且為此目的使用并且延伸越過100R排的這些類型的模塊(未示出)的傳輸設(shè)備能相對較窄。 另外，各個模塊排100R、100R—布置為使得每兩個模塊排布置為彼此緊鄰。兩個相 鄰的模塊排100R、100R—之間是維護通路800。另外，在模塊面向維護通路800的側(cè)面處能 布置附屬部件(未示出)，它們易于接觸以便維護。 在這個具體實施例中，在一個模塊排中布置有用于相同處理步驟的模塊。因此，電 路板平行地下降入各個排IOOR，在此處被處理，并且然后將每個下降入相鄰模塊排100R— 中的模塊。 印刷電路板首先由未在這里示出的設(shè)備移動進入裝載站的各個模塊。由此，電路 板然后借助傳輸設(shè)備從一排IOOR處理模塊傳導至下一排100R—。在電路板已經(jīng)傳送入卸載 站的模塊之后，完成的電路板借助未在這里示出的設(shè)備從系統(tǒng)移走。
圖10是用于處理模塊的布置的第二具體實施例的示意性圖示。這個布置涉及用 于鉆孔清潔的電路板的處理裝載、膨脹、沖洗、高錳酸鉀處理、沖洗、還原、沖洗、無電鍍鍍 銅、沖洗、干燥、卸載。 如在圖9中所示的情況下，僅一個電路板下降入每個處理模塊。然而，模塊在這個
第二具體實施例中沒有重復地布置于與主傳輸方向P成直角的排100R、100R—中。僅一個
相應(yīng)的樣品設(shè)置用于模塊，用于具體的處理步驟，這意味著一個接一個的電路板輸送通過
立式系統(tǒng)。從各個處理模塊的布置能看到每個板以蜿蜒狀的方式輸送通過系統(tǒng)。 還在這個布置中，每兩排100R、100R—的模塊緊密相鄰以使得在這兩排之間產(chǎn)生
維護通路800。 圖11示出圖9的變化，其中處理模塊布置于相對于主傳輸方向P橫向的排IOOR、 100R—中并且在所有情況下形成各排系列100F、100F—的處理模塊。 要理解到，這里描述的示例和實施例僅用于解釋目的并且對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而 言，在本申請教導下各種變型和變化以及本申請所述特點的組合是顯而易見的并且應(yīng)當包
括在所述發(fā)明的精神和范圍內(nèi)并且在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)。這里引用的所有出版物、專 利和專利申請通過參考結(jié)合于此。
權(quán)利要求
用于工件(W)的電鍍處理的立式系統(tǒng)，所述系統(tǒng)包括至少兩個處理模塊(100)和至少一個傳輸設(shè)備，其中用于工件(W)的保持設(shè)備(130)設(shè)置于處理模塊(100)中，并且至少一個傳輸設(shè)備用于將至少一個工件(W)輸送至處理模塊(100)并且用于將工件(W)傳送至處理模塊(100)中的保持設(shè)備(130)，其中傳輸設(shè)備包括至少一個抓緊設(shè)備(10)，其保持工件(W)并且具有至少一個相應(yīng)的緊固設(shè)備(20、30)，并且每個緊固設(shè)備(20、30)包括每個都與工件(W)的一側(cè)相聯(lián)系的第一夾持設(shè)備(25、35)以及第二夾持設(shè)備(26)，其中第一夾持設(shè)備(25、35)和第二夾持設(shè)備(26)都可位移以便抓緊和釋放工件(W)。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1的立式系統(tǒng)，其特征在于，與工件(W)的第一側(cè)相聯(lián)系的至少一個 第一夾持設(shè)備(25、35)被設(shè)計和布置為使得工件(W)的第一側(cè)的位置由第一夾持設(shè)備(25、 35)限定，以及與工件(W)的第二側(cè)相聯(lián)系的至少一個第二夾持設(shè)備(26)被設(shè)計和布置為 使得能由所述第二夾持設(shè)備將夾持力施加到工件(W)上。
3. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，抓緊設(shè)備(10)包括彼此間隔 開的至少兩個緊固設(shè)備(20、30)，緊固設(shè)備的第一夾持設(shè)備(25、35)和第二夾持設(shè)備(26) 中的每個可移動，以使得工件(W)在平行于其第一側(cè)夾持的期間被張緊。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2的立式系統(tǒng)，其特征在于，至少兩個緊固設(shè)備(20、30)被設(shè)計并且布 置為使得它們在相反地定位的邊緣處抓緊工件(W)并且在夾持期間將定向為彼此相對的 張緊力施加到工件(W)上。
5. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，緊固設(shè)備(20、30)的第一夾 持設(shè)備(25、35)能夠繞著第一旋轉(zhuǎn)軸線(201)旋轉(zhuǎn)并且緊固設(shè)備(20、30)的第二夾持設(shè)備 (26)能夠繞著與第一旋轉(zhuǎn)軸線平行的第二旋轉(zhuǎn)軸線(202)旋轉(zhuǎn)。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的立式系統(tǒng)，其特征在于，工件(W)的第一側(cè)的位置由第一夾持設(shè)備 (25、35)的旋轉(zhuǎn)位置限定。
7. 根據(jù)權(quán)利要求5和6的任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，第一夾持設(shè)備(25、35)的 與第一旋轉(zhuǎn)軸線(201)成直角地產(chǎn)生的截面的外邊界的第一部分凸面地彎曲并且所述截 面的外邊界的第二部分由直的邊界線形成，所述直的邊界線以切向的方式連接至外邊界的 第一部分。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7的立式系統(tǒng)，其特征在于，第一部分由與第一旋轉(zhuǎn)軸線(201)平行的 凸狀表面區(qū)段(28)形成并且第二部分由抵靠工件(W)的第一側(cè)的接觸面(27)形成。
9. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，第二夾持設(shè)備(26)包括凸形 夾持面(29)，其被設(shè)計為將夾持力傳遞至工件(W)的第二側(cè)。
10. 根據(jù)權(quán)利要求5-9的任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，至少一個緊固設(shè)備(20、 30) 包括保持第一夾持設(shè)備(25、35)并且相對于第一旋轉(zhuǎn)軸線(201)同軸的第一扭桿(21、31) ，以及至少一個保持第二夾持設(shè)備并且相對于第二旋轉(zhuǎn)軸線(202)同軸的第二扭桿 (22)。
11. 根據(jù)權(quán)利要求10的立式系統(tǒng)，其特征在于，均包括第一夾持設(shè)備(25、35)和第二夾 持設(shè)備(26)的至少兩對夾持設(shè)備保持在緊固設(shè)備(20、30)的扭桿對上，所述扭桿對包括第 一扭桿(21、31)和第二扭桿(22)。
12. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，抓緊設(shè)備以有利于經(jīng)過濾的 空氣入射流動的方式設(shè)計。
13. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，保持設(shè)備(130)被設(shè)計為以 使得由保持設(shè)備保持的工件(W)的位置在處理模塊(100)中可調(diào)節(jié)。
14. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，至少一個處理模塊(100)具 有以下結(jié)構(gòu)特征a. 用于容納處理流體的容器(200);b. 具有支撐容器(加0)的容納框架(110)的基本框架(IO5);c. 安裝部件；d. 用于待與工件平面成直角地移動的安裝部件的支撐框架(120);e. 用于待與工件平面平行地移動的安裝部件的振蕩框架(140);f. 附屬部件；以及g. 用于容器(200)的蓋。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14的立式系統(tǒng)，其特征在于，支撐框架(120)由容納框架(105)保持 以便可移動。
16. 根據(jù)權(quán)利要求15的立式系統(tǒng)，其特征在于，容器(200)不承擔任何靜態(tài)任務(wù)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求14-16的任何 助至少一個氣壓驅(qū)動器(125)移動。
18. 根據(jù)權(quán)利要求14-17的任何 一個方向上可調(diào)節(jié)。
19. 根據(jù)權(quán)利要求14-18的任何 支撐框架(120)上以便可移動。
20. 根據(jù)權(quán)利要求14-19的任何 動的安裝部件由振蕩框架(140)保持。
21. 根據(jù)前述權(quán)利要求的任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，至少一個處理模塊(100) 被設(shè)計為使得僅能在其中處理一個工件(W)。
22. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，多個處理模塊(100)以矩陣 狀方式布置為連續(xù)的成排處理模塊(100)。
23. 根據(jù)權(quán)利要求22的立式系統(tǒng)，其特征在于，處理模塊(100)具有帶相反地定位的縱 向側(cè)的細長的基本外形，并且布置為使得相應(yīng)的縱向側(cè)在工件(W)的傳輸方向上延伸。
24. 根據(jù)權(quán)利要求22和23的任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，處理模塊(100)具有 帶相反地定位的端面的細長的基本外形，并且每兩個處理模塊(100)布置為借助端面彼此 相鄰。
25. 根據(jù)權(quán)利要求22-24的任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，至少一個傳輸設(shè)備被設(shè) 計為使得工件(W)能從一個處理模塊(100)輸送至任何其它的處理模塊(100)。
26. 根據(jù)前述權(quán)利要求任何一個的立式系統(tǒng)，其特征在于，每個處理模塊(100)被裝備 成用于自給自足式操作。
27. 將借助抓緊設(shè)備(10)保持于直立方位的工件(W)輸送至處理模塊(100)的方法， 其中每個抓緊設(shè)備(10)包括至少一個緊固設(shè)備(20、30)，在所述緊固設(shè)備(20、30)上設(shè)置 第一夾持設(shè)備(25、35)以及第二夾持設(shè)備(26)，每個第一夾持設(shè)備與工件(W)的一側(cè)相聯(lián) 系，其中第一夾持設(shè)備(25、35)和第二夾持設(shè)備(26)可移動用于抓緊和釋放工件(W)，并且個的立式系統(tǒng)，其特征在于，支撐框架(120)能夠借 個的立式系統(tǒng)，其特征在于，支撐框架(120)在至少 個的立式系統(tǒng)，其特征在于，振蕩框架(140)保持在 個的立式系統(tǒng)，其特征在于，待與工件(W)平行地移其中用于抓緊工件(W)的方法包括以下方法步驟a. 將工件(W)輸送至處理模塊(100);b. 用布置于處理模塊(100)中的保持設(shè)備(130)抓緊工件(W);以及c. 由抓緊設(shè)備(10)釋放工件(W)。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27的方法，其特征在于，所述方法包括以下進一步的方法步驟以致 動抓緊設(shè)備(10):i. 移動第一夾持設(shè)備(25、35)以使得第一夾持設(shè)備(25、35)到達接觸位置并且從而限 定工件(W)的第一側(cè)的位置；以及ii. 移動第二夾持設(shè)備(26)以使得第二夾持設(shè)備(26)到達夾持位置并且從而工件 (W)與至少一個第一夾持設(shè)備(25、35) —起夾持就位，其中第一夾持設(shè)備(25、35)在第二夾持設(shè)備(26)到達夾持位置之前到達接觸位置。
29. 根據(jù)權(quán)利要求28的方法，其特征在于，抓緊設(shè)備(10)包括間隔開的至少兩個緊固 設(shè)備(20、30)，緊固設(shè)備的相應(yīng)的第一夾持設(shè)備(25、35)和相應(yīng)的第二夾持設(shè)備(26)在相 反地定位的邊緣處將工件(W)夾持就位并且在夾持動作期間將定向為彼此相對的張緊力 施加到工件(W)上。
30. 根據(jù)權(quán)利要求28和29的任何一個的方法，其特征在于，在實施方法步驟ii之后， 所述方法還包括以下進一步的方法步驟iii. 同步移動第一夾持設(shè)備(25、35)以及第二夾持設(shè)備(26)，以使得將張緊力與工件 (W)的第一側(cè)平行地施加到工件上。
31. 根據(jù)權(quán)利要求27-30的任何一個的方法，其特征在于，第一夾持設(shè)備(25、35)和第 二夾持設(shè)備(26)的移動是旋轉(zhuǎn)移動。
32. 根據(jù)權(quán)利要求31的方法，其特征在于，第一夾持設(shè)備(25、35)包括平面部分(27) 并且在方法步驟i中旋轉(zhuǎn)直到平面部分(27)達到接觸位置。
33. 根據(jù)權(quán)利要求27至32的任何一個的方法，其特征在于，在工件(W)的處理之后，抓 緊設(shè)備(10)移入處理模塊(100)以在此處抓緊工件(W)，并且，一旦已經(jīng)抓緊工件(W)，抓 緊設(shè)備(10)移出處理模塊(100)。
34. 根據(jù)權(quán)利要求27-33的任何一個的方法，其特征在于，抓緊設(shè)備(10)將工件(W)存 放于處理模塊(100)中，釋放工件并且然后移出處理模塊(100)。
35. 根據(jù)權(quán)利要求27-34的任何一個的方法，其特征在于，工件(W)的接觸側(cè)的位置由 抓緊設(shè)備(10)精確地傳送至保持設(shè)備(130)并且由所述保持設(shè)備接收。
全文摘要
本發(fā)明涉及電鍍處理工件(W)的立式系統(tǒng)，包括至少兩個處理模塊(100)和至少一個將工件(W)送至處理模塊(100)且送至處理模塊(100)中保持設(shè)備(130)的傳輸設(shè)備。傳輸設(shè)備包括至少一個保持工件(W)的具有至少一個緊固設(shè)備(20、30)的抓緊設(shè)備(10)。緊固設(shè)備(20、30)包括第一夾持設(shè)備(25，35)和第二夾持設(shè)備(26)。至少一個與工件(W)第一側(cè)相聯(lián)的第一夾持設(shè)備(25，35)使工件(W)第一側(cè)的位置由第一夾持設(shè)備(25，35)限定。至少一個與工件(W)第二側(cè)相聯(lián)的第二夾持設(shè)備(26)使夾持設(shè)備將張緊力施于工件(W)。第一夾持設(shè)備(25，35)和第二夾持設(shè)備(26)可移動。抓緊設(shè)備(10)如下致動a)移動第一夾持設(shè)備(25，35)到達接觸位置限定工件(W)第一側(cè)的位置；b)移動第二夾持設(shè)備(26)到達夾持位置使工件(W)與第一夾持設(shè)備(25，35)就位。第一夾持設(shè)備(25，35)在第二夾持設(shè)備(26)到達夾持位置之前到達接觸位置。
文檔編號C25D17/06GK101730761SQ200880019140
公開日2010年6月9日 申請日期2008年6月3日 優(yōu)先權(quán)日2007年6月6日
發(fā)明者B·舍勒, F·維納, H·克林爾, H·孔策, R·施奈德, U·豪夫 申請人:埃托特克德國有限公司