專利名稱：：網(wǎng)的處理方法、處理槽、連續(xù)電解電鍍裝置及帶有電鍍膜的塑料膜的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及網(wǎng)(々工7")的處理方法、處理槽、連續(xù)電解電鍍裝置以及帶有電鍍膜的塑料膜的制造方法。
背景技術(shù)：
：在對(duì)連續(xù)傳送的網(wǎng)使用處理液來(lái)處理網(wǎng)的裝置，例如對(duì)連續(xù)傳送的塑料膜的表面，利用依次通過(guò)容納有作為處理液的電鍍液的多個(gè)電鍍槽來(lái)實(shí)施規(guī)定的電鍍處理的網(wǎng)的處理裝置中，在各電鍍槽中設(shè)置用于傳送網(wǎng)的例如狹縫狀的入口、出口，但是通常實(shí)施液封以使槽內(nèi)的電鍍液不會(huì)大量流出到外部。作為這種裝置的例子，圖1表示對(duì)作為基材的塑料膜1(例如聚酰亞胺膜、以下簡(jiǎn)稱為"膜")實(shí)施鍍銅(Cu)的裝置的例子。圖1為表示膜的處理裝置的簡(jiǎn)要構(gòu)成的平面示意圖。從巻出部2在膜傳送方向上傳送的膜1，在給電部3給電(給電步驟)后，在具備電鍍槽4的電鍍部5實(shí)施電鍍處理(電鍍步驟)。該給電步驟和電鍍步驟依次重復(fù)多次，形成目標(biāo)厚度的電鍍層，形成規(guī)定的電鍍層后，在巻取部6進(jìn)行巻取。在給電部3中，如圖2所示，在傳送輥11(例如表面SUS制)與傳送輥12(例如表面SUS制)之間配置有給電輥13(例如，表面銅制)以擠壓膜1，對(duì)膜1的電鍍面10給電。在電鍍部5中，如圖3所示，在容納有電鍍液14(例如硫酸銅)和銅塊15的電鍍槽4內(nèi)連續(xù)地通過(guò)膜l，但是通常為了抑制電鍍槽4內(nèi)的電鍍液14向外部的漏出量，在電鍍槽4的入口、出口設(shè)置液封機(jī)構(gòu)。已知該液封機(jī)構(gòu)使用圖3所示的一對(duì)液封輥7(例如專利文獻(xiàn)1)。應(yīng)予說(shuō)明，在圖1的膜的處理裝置中，將膜1從巻出部2直至巻取部6、使其寬度方向基本保持在鉛直方向上的同時(shí)傳送，由此確保良好的操作性和電鍍的均一性(以下將膜寬度方向保持大致鉛直方向的同時(shí)進(jìn)行傳送稱為縱向傳送(縦型搬送))。為了確保作為上述處理槽的電鍍槽4的入口和/或出口的液封性，以往使用專利文獻(xiàn)1中公開(kāi)的圖4所示的機(jī)構(gòu)。即，沿著充滿有電鍍液14的電鍍槽4的入口和/或出口的電鍍槽4的內(nèi)側(cè)的壁面，或如圖4所示的例子所示，在入口和/或出口部的外側(cè)形成小腔31，在其外壁面25的內(nèi)側(cè)設(shè)置2個(gè)(一對(duì))表面為海綿的輥21，配置成兩海綿輥21夾著傳送的膜l的同時(shí)，海綿輥21與壁面A(25)接近，進(jìn)行液封。(在與壁面B(26)之間形成比較大的間隙)。而且該情況下，輥21間的間隙被固定。而且，壁面A、B指的是圖4中引出線出來(lái)側(cè)的面。但是利用該方法時(shí)，有可能存在在網(wǎng)與液封輥之間進(jìn)入異物或在網(wǎng)表面上產(chǎn)生缺陷或傷痕，產(chǎn)生皺褶或張力不均等問(wèn)題。為了避免這種問(wèn)題，對(duì)與網(wǎng)非接觸地抑制漏液的方法進(jìn)行了研究。在專利文獻(xiàn)2中公開(kāi)了通過(guò)使一對(duì)液封輥的間隔比網(wǎng)厚度大、非接觸地抑制漏液的方法，根據(jù)該方法，可以消除由于液封輥接觸而產(chǎn)生的各種問(wèn)題。但是該方法中，若使輥間隔大，則由于漏出量過(guò)大而需要非必要地提高處理液的循環(huán)裝置的能力，此外，被處理網(wǎng)為樹(shù)脂膜等柔軟網(wǎng)時(shí)，由于漏出的液體多而產(chǎn)生網(wǎng)搖擺(Oft，<)的問(wèn)題，若搖擺過(guò)大則有可能與輥接觸而產(chǎn)生表面缺陷。相反地，通過(guò)減小輥間隔可以減少漏出量，但是由于輥與網(wǎng)的間隙過(guò)窄，即使網(wǎng)的傳送少，若混亂則也有可能與輥接觸而產(chǎn)生缺陷。該趨勢(shì)網(wǎng)越柔軟則越顯著地表現(xiàn)出來(lái)。此外，作為同樣地非接觸地抑制漏液的技術(shù)，可以舉出專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)的技術(shù)。在專利文獻(xiàn)3中公開(kāi)了以不接觸網(wǎng)(鋼帶)的方式，在電鍍槽的開(kāi)口部設(shè)置具有通過(guò)鋼帶的矩形狹縫部的防止電鍍液流出板(設(shè)置在與鋼帶的通過(guò)板的方向垂直的方向上的板)的方法。記載了對(duì)于防止電鍍液流出板的狹縫部的間隙，除了電鍍的鋼帶的厚度的最大值之外，還需估計(jì)到富余份來(lái)決定，從而即使通過(guò)板時(shí)的鋼帶搖擺或形狀不良，鋼帶也可以不與狹縫接觸而通過(guò)板。簡(jiǎn)言之，其是以適合于通過(guò)板的鋼帶的搖擺或形狀不良的方式來(lái)決定狹縫部的間隙的技術(shù)思想，而不是利用狹縫部的間隙來(lái)減輕通過(guò)板的鋼帶的搖擺等的技術(shù)思想。此外，專利文獻(xiàn)3的防止電鍍液流出板的厚度(鋼帶的通過(guò)板的方向的長(zhǎng)度)，在實(shí)施例中記載了防止電鍍液流出板的材質(zhì)為合成樹(shù)脂的情況下為10mm，金屬板的情況下為8mm。認(rèn)為這如該實(shí)施例所述，防止電鍍液流出板的尺寸為寬度2200mm、高度400mm的細(xì)長(zhǎng)尺寸，是根據(jù)材質(zhì)通過(guò)改變厚度來(lái)具有規(guī)定的剛性。但是，這種構(gòu)成中，與專利文獻(xiàn)2同樣地，存在若防止電鍍液流出板間隙寬則漏出量增大、相反地若間隙窄則網(wǎng)與防止電鍍液流出板接觸而產(chǎn)生缺陷的問(wèn)題，因而極其難以適用于柔軟網(wǎng)的處理裝置中。專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2003-147582號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)平9-263980號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)3:日本特開(kāi)平11-256393號(hào)公報(bào)
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于，提供解決上述問(wèn)題、不被網(wǎng)的柔軟性所左右地抑制漏出量、還不會(huì)產(chǎn)生因接觸所導(dǎo)致的缺陷等表面缺點(diǎn)的網(wǎng)的處理方法，處理槽，電解電鍍裝置。用于解決上述問(wèn)題的本發(fā)明的構(gòu)成如下。即根據(jù)本發(fā)明，提供網(wǎng)的處理方法，其為在加入到在側(cè)壁設(shè)置有成為網(wǎng)的出入口的開(kāi)口部和用于抑制處理液從該開(kāi)口部漏出的液封部的處理槽中的前述處理液中使前述網(wǎng)連續(xù)地通過(guò)來(lái)對(duì)前述網(wǎng)實(shí)施藥液處理的處理方法，其特征在于，作為前述液封部，使用具備隔著規(guī)定的間隙、夾著通過(guò)的前述網(wǎng)對(duì)置的一對(duì)壁面，該一對(duì)壁面的前述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度為由前述一對(duì)壁面形成的狹縫的前述處理槽的深度方向的長(zhǎng)度的5%以上、100%以下的液封部。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理方法，其特征在于，從前述液封部漏出的前述處理液的漏出量，每1個(gè)前述液封部為5L/min以上、300L/min以下。此外，根據(jù)本發(fā)明的其它方式，提供網(wǎng)的處理槽，其為在側(cè)壁設(shè)置有開(kāi)口部和用于抑制處理液從該開(kāi)口部漏出的液封部的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，作為前述液封部，具備具有規(guī)定的間隙、夾著前述網(wǎng)的傳送路徑對(duì)置的一對(duì)壁面，該一對(duì)壁面的前述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度為由前述一對(duì)壁面形成的狹縫的前述處理槽的深度方向的長(zhǎng)度的5%以上、100%以下。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，前述一對(duì)壁面的間隙的前述網(wǎng)傳送方向的平均值為0.25mm以上、10mm以下。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，具有前述規(guī)定的間隙而配設(shè)的壁面具有夾著前述網(wǎng)的傳送路徑而相對(duì)配設(shè)的平面。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，前述平面的法線方向的間隙為0.25mm以上、10mm以下。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，從前述液封部漏出的前述處理液的漏出量滿足式1。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage6</formula>p:處理液的密度[kg/m3]n:處理液的粘度[Pasee]g:重力加速度[m/sec]C:壁面間的間隙[m]L:壁面的網(wǎng)傳送方向長(zhǎng)度[m]H:壁面的深度方向長(zhǎng)度[m]H':從壁面的深度方向下端部至液面的距離[m]此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，前述壁面的間隙，下側(cè)比上側(cè)窄。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的處理槽，其特征在于，前述壁面的前述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度，下側(cè)比上側(cè)長(zhǎng)。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，提供網(wǎng)的連續(xù)電解電鍍裝置，其為將預(yù)選將導(dǎo)電性薄膜成膜于一面或兩面的塑料膜連續(xù)地通過(guò)多個(gè)電鍍處理槽來(lái)實(shí)施電解電鍍的連續(xù)電解電鍍裝置，其特征在于，由在至少1處配設(shè)上述處理槽而成。此外，根據(jù)本發(fā)明的其它方式，提供帶有電鍍膜的塑料膜的制造方法，其特征在于，作為網(wǎng)使用塑料膜，在制造步驟的至少一部分使用上述任意一項(xiàng)記載的處理方法或上述任意一項(xiàng)記載的處理槽。本發(fā)明中，"網(wǎng)"指的是如紙、樹(shù)脂膜、金屬箔等的相對(duì)于寬度來(lái)說(shuō)厚度充分薄、長(zhǎng)度充分長(zhǎng)的物質(zhì)。顯著地得到本發(fā)明效果的是樹(shù)脂膜或紙的網(wǎng)。作為樹(shù)脂膜的材質(zhì)，優(yōu)選使用聚酰亞胺樹(shù)脂、聚酯樹(shù)脂。形成電子電路材料等中使用的鍍銅膜時(shí)，優(yōu)選使用廣泛應(yīng)用的聚酯樹(shù)脂，由于電路IC等的安裝中的焊接(八>夕')耐熱性的關(guān)系而優(yōu)選使用聚酰亞胺樹(shù)脂。本發(fā)明中，"壁面"指的是具有規(guī)定面積的面。例如，平面、曲面或帶槽的平面都包含在"壁面"的范疇內(nèi)。本發(fā)明中，"平面"指的是壁面中JISB0021:1998中規(guī)定的平面度為lmm以下的面。本發(fā)明中，"平均值"指的是對(duì)將壁面的網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度20等分得到的20個(gè)點(diǎn)的壁面間的間隙進(jìn)行測(cè)定，求得其平均值而算出的值。根據(jù)本發(fā)明，提供網(wǎng)可以經(jīng)由液封部大致非接觸地出入處理槽內(nèi)，因此不會(huì)產(chǎn)生接觸缺陷等表面缺點(diǎn)的網(wǎng)的處理方法。此外，根據(jù)本發(fā)明的其它方式，提供通過(guò)夾著網(wǎng)的傳送路徑而相對(duì)地配設(shè)壁面，可以利用壁面與處理液的摩擦阻力來(lái)賦予流路阻力，因此與網(wǎng)大致非接觸且可以抑制漏出量的處理槽。此外，由于液封部的各結(jié)構(gòu)構(gòu)件與網(wǎng)大致非接觸，不易產(chǎn)生因接觸所導(dǎo)致的劣化，可以在非常長(zhǎng)的期間維持性能，而沒(méi)有必要定期更換或維修，不易產(chǎn)生更換部件成本或隨著處理停止而導(dǎo)致的工作效率變差等。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，夾著網(wǎng)的傳送路徑而相對(duì)地配設(shè)2個(gè)平面，使該2個(gè)平面之間的空間形成處理液的流路，由此不易產(chǎn)生不穩(wěn)定的壓力分布，因此可以抑制因網(wǎng)的搖擺等所導(dǎo)致的傳送混亂。此外，根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選方式，由于可以將從液封部漏出的漏出量抑制減小，可以設(shè)計(jì)使處理液的循環(huán)系統(tǒng)設(shè)備的處理容量減小，從而可以顯著有助于低成本化。連續(xù)電解電鍍裝置由于通常具有多個(gè)處理槽，故利用本發(fā)明實(shí)現(xiàn)的低成本化的好處大，此外由于與網(wǎng)非接觸而可以最大限度地利用不會(huì)產(chǎn)生因接觸所導(dǎo)致的各種表面缺點(diǎn)的優(yōu)點(diǎn)。[圖1]為可以適用本發(fā)明的膜的電鍍裝置的平面簡(jiǎn)圖。[圖2]為圖1的裝置的給電部的放大平面圖。[圖3]為圖1的裝置的以往的電鍍部的放大橫截面簡(jiǎn)圖。[圖4]為以往技術(shù)中的液封部的構(gòu)成簡(jiǎn)圖。[圖5]為本發(fā)明的一實(shí)施方式所述的網(wǎng)的電鍍裝置的電鍍部的放大橫截面簡(jiǎn)圖。[圖6a]為對(duì)圖5的液封部進(jìn)行放大的結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖。[圖6b]為壁面形狀的一例(平行平面)的概念圖。[圖6c]為壁面形狀的一例(曲面)的概念圖。[圖6d]為壁面形狀的一例(圓柱)的概念圖。[圖6e]為壁面曲線的切線與膜傳送方向所成角度的說(shuō)明圖。[圖7]為基于本發(fā)明的側(cè)視簡(jiǎn)圖。[圖8]為基于本發(fā)明的側(cè)視簡(jiǎn)圖。[圖9]為基于本發(fā)明的前視簡(jiǎn)圖。符號(hào)說(shuō)明1膜2巻出部3給電部4作為處理槽的電鍍槽5電鍍部6巻取部7密封輥10電鍍面實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的711、12傳送輥13給電輥14作為處理液的電鍍液15銅塊16回收區(qū)域21海綿輥22基材24小腔25壁面A26壁面B27壁面c28a、28b狹縫29a、29b整流構(gòu)件30從液封部漏出的處理液31小腔32開(kāi)口部9點(diǎn)A處的切線與膜傳送方向所成的角度具體實(shí)施例方式以下，作為本發(fā)明的具體實(shí)施方式的例子，以將處理槽適用于作為網(wǎng)的聚酰亞胺膜(以下簡(jiǎn)稱為膜)的縱向傳送式連續(xù)電解鍍銅裝置的情況為例，參照附圖的同時(shí)進(jìn)行說(shuō)明。圖1為可以適用本發(fā)明的膜的電鍍裝置的平面簡(jiǎn)圖。對(duì)于從巻出部2在膜傳送方向上傳送來(lái)的膜l，在給電部3給電(給電步驟)之后，在具備電鍍槽4的電鍍部5實(shí)施電鍍處理(電鍍步驟)。該給電步驟和電鍍步驟依次重復(fù)多次，形成目標(biāo)厚度的電鍍層，形成規(guī)定的電鍍層后，在巻取部6巻取。給電部3中，如圖2所示，在傳送輥11(例如表面SUS制)與傳送輥12(例如表面SUS制)之間配置給電輥13(例如表面銅制)以擠壓膜l，對(duì)膜1的電鍍面10給電。圖5為本發(fā)明的一實(shí)施方式所述的膜的電鍍裝置的電鍍部的放大橫截面簡(jiǎn)圖。圖1所示的電鍍部5中，如圖5所示，在容納有電鍍液14和銅塊15的電鍍槽4內(nèi)連續(xù)地通過(guò)膜1，但是為了抑制電鍍槽4內(nèi)的電鍍液14向外部的漏出量，在電鍍槽4的入口、出口設(shè)置液封部7。液封部7與電鍍槽4的入口、出口的側(cè)壁密接而設(shè)置，構(gòu)成為電鍍液14幾乎不從液封部7與電鍍槽4的側(cè)壁之間流出。在液封部7與電鍍槽4的側(cè)壁之間可以設(shè)置或不設(shè)置用于防止從其間漏出的密封構(gòu)件。從其間的漏出若為對(duì)膜的傳送不造成影響的程度，則可以不設(shè)置密封構(gòu)件。圖6a表示圖5的液封部7的放大結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)圖。液封部7，在容納有電鍍液14的電鍍槽4的出入口配設(shè)夾著膜1的傳送路徑對(duì)置的整流構(gòu)件29a、29b而構(gòu)成。作為整流構(gòu)件29a、29b的材質(zhì)，優(yōu)選使用對(duì)電鍍液具有耐性的材質(zhì)。例如，若為硫酸銅電鍍?cè)?，則理想地使用氯乙烯或聚酯系樹(shù)脂。圖6a中，在電鍍槽4內(nèi)部配設(shè)整流構(gòu)件29a、29b，但是也可以是在電鍍槽4外部。圖7表示基于本發(fā)明的一實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的側(cè)視簡(jiǎn)圖。如圖7所示，整流構(gòu)件29a、29b的深度方向的長(zhǎng)度理想的是與設(shè)置在電鍍槽4的側(cè)壁的成為膜出入口的開(kāi)口部32的深度方向相同，或比開(kāi)口部32的長(zhǎng)度長(zhǎng)。整流構(gòu)件29a、29b的上面可以構(gòu)成為大致與電鍍液面的高度相同，但是不特別限定。整流構(gòu)件29a、29b的上面可以在液面下或液面上。如圖6a所示，膜1與整流構(gòu)件29a僅距離Cl，與整流構(gòu)件29b僅距離C2，在整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b之間非接觸地傳送，電鍍液14沿著膜1從整流構(gòu)件29a與膜1之間(即Cl)、從整流構(gòu)件29b與膜1之間(即C2)分別漏出(從液封部漏出的處理液30)。從使整流構(gòu)件29a與膜1之間、整流構(gòu)件29b與膜1之間分別流出的液體的液流穩(wěn)定化的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選整流構(gòu)件29a、29b的位于膜l側(cè)的面為相互平行的平面。應(yīng)予說(shuō)明，此時(shí)處理液30的漏出量理論上由下式2導(dǎo)出。TTJ(12X77XL/TTJpxgxC23、A、hdh式乂2Q:流量[m3/sec]P:處理液的密度[kg/m3]n:處理液的粘度[Pasec]g:重力加速度[m/sec2]CI:整流板29a與膜1的間隙[m]C2:整流板29b與膜1的間隙[m]L:壁面的網(wǎng)傳送方向長(zhǎng)度[m]&:從狹縫的上側(cè)端部至液面的距離[m]H2:從狹縫的下側(cè)端部至液面的距離[m]此處，對(duì)在整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b之間非接觸地穩(wěn)定傳送的機(jī)理進(jìn)行說(shuō)明。在成為CI(整流構(gòu)件29a與膜1之間)=C2(整流構(gòu)件29b與膜1之間)的狀態(tài)下傳送膜時(shí)，由于從膜l的兩面作用相同的壓力，故變得在穩(wěn)定的狀態(tài)下進(jìn)行傳送。另一方面，從Cl=C2的穩(wěn)定狀態(tài)，對(duì)膜1作用任意外力、使膜1偏向整流構(gòu)件29a側(cè)時(shí)，C2側(cè)的流路擴(kuò)大(CI<C2)，因此整流構(gòu)件29b與膜1之間(C2)的流路阻力減少、壓力降低。結(jié)果，欲將膜1吸引到整流構(gòu)件29b側(cè)、返回原狀態(tài)的力發(fā)揮作用。相反地，膜1偏向整流構(gòu)件29b側(cè)時(shí)，力在吸引到整流構(gòu)件29a側(cè)的方向發(fā)揮作用。通過(guò)這種機(jī)理，膜1在不易與整流構(gòu)件29a、29b接觸的狀態(tài)下穩(wěn)定地傳送。應(yīng)予說(shuō)明，為了使該機(jī)理有效地發(fā)揮作用，傳送的對(duì)象物優(yōu)選薄、輕。因此，理想的是厚度為lOym以上、100ym以下的網(wǎng)，特別是塑料膜由于輕且柔軟，易有效地發(fā)揮上述作用而優(yōu)選。此外，網(wǎng)的傳送張力優(yōu)選為50N/m以上、500N/m以下。其低于50N/cm時(shí)，網(wǎng)被從液封部漏出的液流搖動(dòng)而產(chǎn)生搖擺，超過(guò)500N/m時(shí)具有表觀上提高網(wǎng)的剛性的作用，因此難以使上述機(jī)理有效地發(fā)揮作用。整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙(即，整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的膜側(cè)的壁面的膜的傳送路徑的面的法線方向的間隙)Cl+C2從減少處理液30的漏出量的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為10mm以下。但是，若過(guò)小則膜1易與整流構(gòu)件29a、29b等接觸，因此優(yōu)選為0.25mm以上。應(yīng)予說(shuō)明，由于處理液30沿著膜1漏出，若漏出量過(guò)大則有必要延長(zhǎng)圖5所9示的回收區(qū)域16的膜傳送方向的長(zhǎng)度。因此，為了縮短回收區(qū)域16的膜傳送方向的長(zhǎng)度且通過(guò)防止膜1的接觸來(lái)穩(wěn)定傳送，更優(yōu)選使整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙C1+C2為lmm3mm的范圍內(nèi)。此處，整流構(gòu)件的壁面的形狀可以為平面或曲面。曲面的情況下，整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2以相關(guān)于膜傳送方向的間隙的平均值近似即可。圖6b、圖6c、圖6d表示壁面形狀的一例。為如圖6b所示的2個(gè)平行平面的情況下，Cl+C2為平行平面的間隙本身。為如圖6c所示的曲面的情況下，Cl+C2根據(jù)膜傳送方向的位置變化而變化。這種情況如上所述，C1+C2的相關(guān)于膜傳送方向的平均值可以將壁面的網(wǎng)傳送方向長(zhǎng)度L20等分，將20點(diǎn)的間隙Cl+C2平均來(lái)求得。如圖6d所示，為2個(gè)圓柱并列的形狀的情況下，由于同樣地Cl+C2根據(jù)膜傳送方向的位置變化而變化，因此取相關(guān)于膜傳送方向的平均值。在此必須注意的是，若為了改變C1+C2而改變圓柱的外徑，則壁面的網(wǎng)傳送方向長(zhǎng)度L也同時(shí)變化。對(duì)于L的作用、期待效果如后所述，但是基本上L越大則越可以減少流量。但是，若欲減少流量而增大L，則Cl+C2也自動(dòng)增大。由于Cl+C2越小則越可以減少流量，故該部分處于權(quán)衡的關(guān)系，非常難以最適化。因此，本發(fā)明的實(shí)施中，應(yīng)避免以如圖6所示的2個(gè)圓柱并列的形狀來(lái)構(gòu)成。此外，壁面曲線中，壁面曲線的切線與網(wǎng)傳送方向所成的角度(切線與網(wǎng)傳送方向平行時(shí)為0度。參照?qǐng)D6e。圖6e為壁面曲線的切線與膜傳送方向所成角度的說(shuō)明圖)為-20度以上、20度以下的部分超過(guò)壁面整體的40%從減少流量的觀點(diǎn)考慮優(yōu)選，若壁面曲線的切線與網(wǎng)傳送方向所成的角度為-20度以上、20度以下的部分超過(guò)壁面整體的70%，則由于可以形成非常光滑的壁面、液流穩(wěn)定而更優(yōu)選。應(yīng)予說(shuō)明，壁面曲線，表示壁面的宏觀性輪廓，不包括所謂的粗度曲線等微觀性的曲線。在整流構(gòu)件29a與膜1之間、在整流構(gòu)件29b與膜1之間分別流通的液流具有使膜1不與整流構(gòu)件29a、29b接觸的功能。因此，處理液30的漏出量?jī)?yōu)選為5L/min以上。此外，該漏出量過(guò)多時(shí)，用于使電鍍液14循環(huán)的泵的能力、或預(yù)先儲(chǔ)存電鍍液14的貯槽的容量增大，因此從將它們抑制在適當(dāng)范圍內(nèi)的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為300L/min以下。應(yīng)予說(shuō)明，本實(shí)施方式的液封部7的結(jié)構(gòu)可以適用于縱向傳送方式的電鍍槽。如圖7所示，整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向的長(zhǎng)度L從減少處理液30的漏出量的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選為以整流構(gòu)件29a、29b形成的狹縫的深度方向長(zhǎng)度的5X以上。這是由于，如式2所示，若確定了處理液30的種類、整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2、從狹縫的上側(cè)端部至液面的距離Hl、從狹縫的下側(cè)端部至液面的距離H2，則整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L越長(zhǎng)，因整流構(gòu)件29a、29b的壁面而產(chǎn)生壓力損失，處理液30從電鍍槽4漏出的漏出量則越少。此外，整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L過(guò)長(zhǎng)時(shí)，膜1與整流構(gòu)件29a、29b接觸的可能性增大。進(jìn)一步地，由于漏出量可以如上所述通過(guò)式2算出，膜傳送方向長(zhǎng)度L增大為某種程度以上時(shí)，則漏出量減少效果降低。因此，考慮到漏出量減少效果與接觸的可能性的平衡，優(yōu)選為100%以下。更優(yōu)選為70%以下，進(jìn)一步優(yōu)選為50%以下。應(yīng)予說(shuō)明，漏出量減少效果在狹縫深度方向長(zhǎng)度長(zhǎng)、寬寬度網(wǎng)用的處理槽中特別顯著地表現(xiàn)出來(lái)。因此，可以特別理想地用于網(wǎng)寬度超過(guò)300mm的網(wǎng)的處理槽中。應(yīng)予說(shuō)明，整流構(gòu)件29a、29b的膜側(cè)的壁面平行時(shí)，處理液30的漏出量在電鍍槽10上側(cè)減少、在上側(cè)增多。這是因?yàn)?，由于水頭差而電鍍槽4內(nèi)的處理液30的壓力根據(jù)部位不同而不同。電鍍槽上側(cè)的壓力水頭小，從間隙漏出的處理液的流量少，而電鍍槽下側(cè)的壓力水頭大，從間隙漏出的處理液的流量多。因此，如圖8所示，整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向的長(zhǎng)度L，與上側(cè)相比下側(cè)優(yōu)選根據(jù)從液面至狹縫上端的距離與從液面至狹縫下端的距離之比適當(dāng)延長(zhǎng)。圖8為基于本發(fā)明的一實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的側(cè)視簡(jiǎn)圖。通過(guò)這樣構(gòu)成，可以抑制在整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙漏出的處理液的流量的由整流構(gòu)件29a、29b形成的狹縫的深度方向的不均。其結(jié)果，與深度方向的位置無(wú)關(guān)，欲將膜的傳送位置穩(wěn)定化的的前述作用易于變得恒定，因而可以使膜在膜的全部寬度上不與整流構(gòu)件29a、29b的壁面接觸而穩(wěn)定地傳送膜。此外，如圖9所示，下側(cè)的整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2優(yōu)選比上側(cè)的間隙小。圖9為基于本發(fā)明的一實(shí)施方式的液封部適用于縱向傳送方式的電鍍槽時(shí)的前視簡(jiǎn)圖。通過(guò)這樣構(gòu)成，可以抑制在整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙漏出的處理液的流量的由整流構(gòu)件29a、29b形成的狹縫的深度方向的不均，變得可以使膜不與整流構(gòu)件29a、29b的壁面接觸而穩(wěn)定地傳送膜。結(jié)果，優(yōu)選深度方向的C3XH/L的最大值與最小值之比為8倍以下。應(yīng)予說(shuō)明，整流構(gòu)件29a、29b形成這種構(gòu)成時(shí)，設(shè)置在電鍍槽4的側(cè)壁的成為膜出入口的開(kāi)口部可以以適合于由整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送路徑側(cè)的壁面形成的狹縫的形狀的方式來(lái)形成，也可以在不比整流構(gòu)件29a、29b的電鍍槽4側(cè)的面大的范圍內(nèi)比狹縫的形狀大地來(lái)形成。此外，開(kāi)口部的下端以適合于整流構(gòu)件29a、29b的下端的方式來(lái)形成。認(rèn)為整流構(gòu)件29a、29b受到狹縫內(nèi)部與外部的壓力差而彎曲，但是如式l所示，由于從狹縫漏出的漏出量與狹縫間隙的三次方成比例，小的變化就形成大的漏出量的差異。因此，優(yōu)選增大構(gòu)件的厚度t來(lái)盡可能地減少?gòu)澢?。此外，在距離整流構(gòu)件29a、29b的電鍍槽內(nèi)側(cè)端部的膜1側(cè)的角520mm的范圍內(nèi)，優(yōu)選稍微預(yù)先擴(kuò)展，以便即使膜1因槽內(nèi)的液流而搖動(dòng)大，也不與整流構(gòu)件29a、29b接觸。若擴(kuò)展過(guò)大則由于流路阻力減小而漏出量增加，此外由于液流變得不穩(wěn)定，更優(yōu)選實(shí)施10mm100mm的曲面加工。應(yīng)予說(shuō)明，實(shí)施了曲面加工的部分嚴(yán)格地說(shuō)狹縫間隙擴(kuò)展，但只要是上述范圍內(nèi)的曲面加工，則可以如圖6所示將包括曲面加工部分的長(zhǎng)度作為壁面的膜傳送方向長(zhǎng)度L。若將基于本實(shí)施方式的電鍍槽用于塑料膜的連續(xù)電解電鍍裝置中，則可以抑制微小的缺陷或粗糙等的產(chǎn)生，此外可以對(duì)于軋輥方式的接觸旋轉(zhuǎn)密封方式以無(wú)需維修的方式來(lái)運(yùn)用，故可以降低運(yùn)轉(zhuǎn)成本，所以優(yōu)選?？梢蕴貏e優(yōu)選用于撓性電路基板用基材等同時(shí)強(qiáng)烈要求高品質(zhì)和低成本的用途中。應(yīng)予說(shuō)明，本實(shí)施方式中，以將處理槽適用于聚酰亞胺膜的縱向傳送式連續(xù)電解鍍銅裝置的情況為例進(jìn)行了說(shuō)明，但是，處理槽還可以適用于其它用途，例如網(wǎng)的洗滌槽或無(wú)電解電鍍槽等網(wǎng)的全部濕式處理槽中。實(shí)施例以下舉出具體的實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行具體的說(shuō)明。應(yīng)予說(shuō)明，本發(fā)明不被這些具體的實(shí)施例所限定。[實(shí)施例l]在縱向傳送方式的電鍍槽內(nèi)側(cè)設(shè)置圖、圖7所示構(gòu)成的液封部。S卩，設(shè)置整流構(gòu)件29a、29b的壁面平行，此外整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L與狹縫深度方向長(zhǎng)度相同的液封部。整流構(gòu)件29a、29b用硬質(zhì)氯乙烯制成。使整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2為2mm。使整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L為75mm。使整流構(gòu)件29a、29b的構(gòu)件的厚度為30mm。使狹縫深度方向長(zhǎng)度為600mm(整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L為狹縫深度方向長(zhǎng)度的12.5%)。此外，如圖6a所示，對(duì)整流構(gòu)件29a、29b的電鍍槽內(nèi)側(cè)端部，以在圖的橫方向上與距離整流構(gòu)件的膜側(cè)表面僅50mm的基材的相反方向、在圖的縱方向上距離整流構(gòu)件下側(cè)端部10mm上偏移的位置作為中心，實(shí)施描繪半徑50mm的圓弧的曲面加工。在如上構(gòu)成的電鍍槽中容納自來(lái)水進(jìn)行漏液確認(rèn)。將電鍍槽內(nèi)的液面保持恒定所必需的泵排出量，用設(shè)置在循環(huán)系統(tǒng)配管內(nèi)的浮動(dòng)式流量計(jì)進(jìn)行測(cè)定。從液面直至位于液面下的狹縫上端部的距離為50mm，從液面直至狹縫下端部的距離為650mm，狹縫的深度方向的長(zhǎng)度為700mm。作為膜，使用在一面用濺射法將銅形成厚度0.1ym膜的厚度38ym、寬度520mm的聚酰亞胺膜。結(jié)果確認(rèn)液封部每1處約100L/min的漏出量。將上述構(gòu)成適用于縱向傳送的連續(xù)電解鍍銅裝置，進(jìn)行帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的制造實(shí)驗(yàn)。電鍍裝置具有10個(gè)電鍍槽，在各入口側(cè)和出口側(cè)設(shè)置有液封部(總計(jì)20處)。原巻膜(原反)使用在一面用濺射法形成厚度O.liim銅膜的厚度38iim、寬度520mm的聚酰亞胺膜。張力以最初的電鍍槽的入口為40N/總寬度、最后的電鍍槽的出口側(cè)為190N/總寬度來(lái)漸增地設(shè)定。適當(dāng)設(shè)定電流密度以使出自最后的電鍍槽的膜的銅膜厚度為8.5ym。應(yīng)予說(shuō)明，這些條件為與液封部使用現(xiàn)有技術(shù)的軋輥方式的接觸旋轉(zhuǎn)密封時(shí)相同的條件(參照比較例1)。如此制造帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的結(jié)果，可以得到擦傷或粗糙非常少的高品質(zhì)的電鍍膜。條件和結(jié)果集中示于表l。[表l]<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>[實(shí)施例2]用與實(shí)施例相同的電鍍槽，使用整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙C1+C2為3mm的裝置，進(jìn)行與實(shí)施例1相同的實(shí)驗(yàn)。漏出量在液封部每1處約為180L/min。電鍍實(shí)驗(yàn)也用與實(shí)施例1相同的方法實(shí)施，可以得到擦傷或粗糙非常少的高品質(zhì)的電鍍膜。條件和結(jié)果集中示于表l。[實(shí)施例3]用與實(shí)施例相同的電鍍槽，使用整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2為上側(cè)3mm、下側(cè)2mm，中間部以恒定的斜率變化的裝置，進(jìn)行與實(shí)施例1相同的實(shí)驗(yàn)。漏出量在液封部每1處約為130L/min。電鍍實(shí)驗(yàn)也用與實(shí)施例1相同的方法實(shí)施，可以得到擦傷或粗糙非常少的高品質(zhì)的電鍍膜。條件和結(jié)果集中示于表l。[實(shí)施例4]用與實(shí)施例相同的電鍍槽，使用整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2為上側(cè)3mm、下側(cè)2mm，中間部以恒定的斜率變化，整流構(gòu)件的傳送方向長(zhǎng)度L為45mm的裝置(整流構(gòu)件的膜傳送方向長(zhǎng)度L為狹縫深度方向長(zhǎng)度的7.5%)，進(jìn)行與實(shí)施例1相同的實(shí)驗(yàn)。漏出量在液封部每1處約為170L/min。電鍍實(shí)驗(yàn)也用與實(shí)施例1相同的方法實(shí)施，可以得到擦傷或粗糙非常少的高品質(zhì)的電鍍膜。條件和結(jié)果集中示于表l。[實(shí)施例5]在實(shí)施例1的結(jié)構(gòu)的電鍍槽中，使整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2為20mm時(shí)，可以得到擦傷或粗糙非常少的高品質(zhì)的電鍍膜，但是從狹縫漏出的漏液量過(guò)多，必需泵能力大的裝置。條件和結(jié)果集中示于表l。[實(shí)施例6]在實(shí)施例1的構(gòu)成的電鍍槽中，使整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2為0.lmm、與實(shí)施例1相同地進(jìn)行帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的制造實(shí)驗(yàn)，結(jié)果雖然從狹縫漏出的漏液量少，但是稍微產(chǎn)生擦傷。條件和結(jié)果集中示于表1。[比較例1]在實(shí)施例1的構(gòu)成的電鍍槽中，液封部如圖4所示構(gòu)成。海綿輥21的材質(zhì)使用氯乙烯。形成夾成輥徑為直徑40mm，2個(gè)輥的軸間距離為38mm的結(jié)構(gòu)。將上述構(gòu)成適用于縱向傳送的連續(xù)電解鍍銅裝置，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的制造實(shí)驗(yàn)。結(jié)果確認(rèn)在表面產(chǎn)生微小的擦傷。此外，使用海綿輥表面污染的輥的情況下，進(jìn)而產(chǎn)生污染對(duì)電鍍膜的轉(zhuǎn)印，進(jìn)而還確認(rèn)產(chǎn)生微小粗糙或擦傷。如此，非常難以得到高品質(zhì)的電鍍膜。條件和結(jié)果集中示于表1。[比較例2]在實(shí)施例1的構(gòu)成的電鍍槽中，使整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L為10mm(整流構(gòu)件的膜傳送方向長(zhǎng)度L為狹縫深度方向長(zhǎng)度的約1.7%)時(shí)，從狹縫漏出的漏出量過(guò)多，必需泵能力大的裝置。此外，由于從狹縫漏出的漏液量多、流速快，確認(rèn)膜在靠近電鍍槽的外側(cè)大幅搖擺，可知傳送不穩(wěn)定。條件和結(jié)果集中示于表1。[比較例3]在實(shí)施例1的構(gòu)成的電鍍槽中，將整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L設(shè)定為10mm，將整流構(gòu)件29a與整流構(gòu)件29b的間隙Cl+C2設(shè)定為0.4mm。在如上構(gòu)成的電鍍槽中容納自來(lái)水進(jìn)行漏液確認(rèn)。將電鍍槽內(nèi)的液面保持恒定所必需的泵排出量，用設(shè)置在循環(huán)系統(tǒng)配管內(nèi)的浮動(dòng)式流量計(jì)進(jìn)行測(cè)定。從液面直至狹縫上端部的距離為50mm，從液面直至狹縫下端部的距離為650mm，作為膜，使用在一面用濺射法將銅形成厚度0.1iim膜的厚度38iim、寬度520mm的聚酰亞胺膜。結(jié)果確認(rèn)液封部每1處約180L/min的漏液量。將上述構(gòu)成適用于縱向傳送的連續(xù)電解鍍銅裝置，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的制造實(shí)驗(yàn)。結(jié)果確認(rèn)在表面產(chǎn)生擦傷。此外，確認(rèn)膜在靠近電鍍槽的外側(cè)搖擺，可知傳送不穩(wěn)定。條件和結(jié)果集中示于表1。[比較例4]在實(shí)施例1的構(gòu)成的電鍍槽中，使用直徑30mm的圓棒來(lái)替代整流構(gòu)件29a、29b，將該圓棒之間的間隙設(shè)定為2mm。此時(shí)，相當(dāng)于整流構(gòu)件29a、29b的膜傳送方向長(zhǎng)度L的長(zhǎng)度為零。在如上構(gòu)成的電鍍槽中容納自來(lái)水進(jìn)行漏液確認(rèn)。將電鍍槽內(nèi)的液面保持恒定所必需的泵排出量，用設(shè)置在循環(huán)系統(tǒng)配管內(nèi)的浮動(dòng)式流量計(jì)進(jìn)行測(cè)定。從液面直至狹縫上端部的距離為50mm，從液面直至狹縫下端部的距離為650mm，作為膜，使用在一面用濺射法將銅形成厚度0.1iim膜的厚度38iim、寬度520mm的聚酰亞胺膜。結(jié)果確認(rèn)液封部每1處約200L/min的漏液量。將上述構(gòu)成適用于縱向傳送的連續(xù)電解鍍銅裝置，與實(shí)施例1相同地進(jìn)行帶有鍍銅膜的聚酰亞胺膜的制造實(shí)驗(yàn)。結(jié)果確認(rèn)在表面產(chǎn)生擦傷。此外，確認(rèn)膜在靠近電鍍槽的外側(cè)搖擺，可知傳送不穩(wěn)定。條件和結(jié)果集中示于表1。產(chǎn)業(yè)實(shí)用性本發(fā)明由于為可以與網(wǎng)非接觸地穩(wěn)定傳送的結(jié)構(gòu)，適用于網(wǎng)本身非常柔軟、且要求非常苛刻的表面品質(zhì)的作為撓性電路基板用基材的塑料膜的連續(xù)電解電鍍裝置中，但是不限于塑料膜的連續(xù)電解電鍍裝置，還可以應(yīng)用于其它的網(wǎng)的連續(xù)電解電鍍裝置或電解處理裝置等使用藥液對(duì)網(wǎng)進(jìn)行處理的全部裝置中，但是其應(yīng)用范圍不限于此。1權(quán)利要求網(wǎng)的處理方法，其為在加入到在側(cè)壁設(shè)置有成為網(wǎng)的出入口的開(kāi)口部和用于抑制處理液從該開(kāi)口部漏出的液封部的處理槽中的所述處理液中使所述網(wǎng)連續(xù)地通過(guò)來(lái)對(duì)所述網(wǎng)實(shí)施藥液處理的處理方法，其特征在于，作為所述液封部，使用具備隔著規(guī)定的間隙、夾著通過(guò)的所述網(wǎng)對(duì)置的一對(duì)壁面，該一對(duì)壁面的所述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度為由所述一對(duì)壁面形成的狹縫的所述處理槽的深度方向的長(zhǎng)度的5％以上、100％以下的液封部。2.如權(quán)利要求1所述的網(wǎng)的處理方法，其特征在于，從所述液封部漏出的所述處理液的漏出量，每1個(gè)所述液封部為5L/min以上、300L/min以下。3.網(wǎng)的處理槽，為在側(cè)壁設(shè)置有開(kāi)口部和用于抑制處理液從該開(kāi)口部漏出的液封部的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，作為所述液封部，具備具有規(guī)定的間隙、夾著所述網(wǎng)的傳送路徑對(duì)置的一對(duì)壁面，該一對(duì)壁面的所述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度為由所述一對(duì)壁面形成的狹縫的所述處理槽的深度方向的長(zhǎng)度的5%以上、100%以下的液封部。4.如權(quán)利要求3所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，所述一對(duì)壁面的間隙的所述網(wǎng)傳送方向的平均值為0.25mm以上、10mm以下。5.如權(quán)利要求3所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，具有所述規(guī)定的間隙而配設(shè)的壁面具有夾著所述網(wǎng)的傳送路徑而相對(duì)配設(shè)的平面。6.如權(quán)利要求5所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，所述平面的法線方向的間隙為0.25mm以上、10mm以下。7.如權(quán)利要求36中任意一項(xiàng)所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，從所述液封部漏出的所述處理液的漏出量滿足式1，<formula>formulaseeoriginaldocumentpage2</formula>P:處理液的密度[kg/m3]n:處理液的粘度[Pasec]g:重力加速度[m/sec2]C:壁面間的間隙[m]L:壁面的網(wǎng)傳送方向長(zhǎng)度[m]H:壁面的深度方向長(zhǎng)度[m]H':從壁面的深度方向下端部至液面的距離[m]。8.如權(quán)利要求37中任意一項(xiàng)所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，所述壁面的間隙，下側(cè)比上側(cè)窄。9.如權(quán)利要求38中任意一項(xiàng)所述的網(wǎng)的處理槽，其特征在于，所述壁面的所述網(wǎng)的傳送方向的長(zhǎng)度，下側(cè)比上側(cè)長(zhǎng)。10.網(wǎng)的連續(xù)電解電鍍裝置，為將預(yù)選將導(dǎo)電性薄膜成膜于一面或兩面的塑料膜連續(xù)地通過(guò)多個(gè)電鍍處理槽來(lái)實(shí)施電解電鍍的連續(xù)電解電鍍裝置，其特征在于，由在至少1處配設(shè)如權(quán)利要求39中任意一項(xiàng)所述的處理槽而成。11.帶有電鍍膜的塑料膜的制造方法，其特征在于，作為網(wǎng)使用塑料膜，在制造步驟的至少一部分使用如權(quán)利要求1或2所述的處理方法或如權(quán)利要求39中任意一項(xiàng)所述的處理槽。全文摘要使用具有與網(wǎng)非接觸、且可以抑制漏液的非接觸液封部的處理槽。文檔編號(hào)C25D21/00GK101796223SQ20088010577公開(kāi)日2010年8月4日申請(qǐng)日期2008年9月2日優(yōu)先權(quán)日2007年9月6日發(fā)明者川下守,野村文保申請(qǐng)人:東麗株式會(huì)社;東麗薄膜先端加工股份有限公司