專利名稱：金屬霧化片的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種金屬霧化片，屬于超高精密五金技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
隨著人民生活水平的逐漸提高，對(duì)生活質(zhì)量有了更高的要求，隨著醫(yī)療技術(shù)的不 斷發(fā)展，業(yè)界對(duì)霧化器的性能提出了更高的技術(shù)要求，傳統(tǒng)蝕刻加工不銹鋼工藝生產(chǎn)的金 屬霧化片再也不能滿足更高要求的技術(shù)規(guī)格，其加工不銹鋼霧化片微孔直徑大于20um，蝕 刻工藝已經(jīng)到了極限，不能滿足更微小孔的加工要求，業(yè)界亟需一種微孔達(dá)到3 IOum的 霧化片，來(lái)滿足國(guó)內(nèi)霧化器的膨大需求。

實(shí)用新型內(nèi)容為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，本實(shí)用新型的目的在于提供一種利用特種電沉積加工 方法生產(chǎn)的能夠滿足高性能霧化器對(duì)微孔霧化片的制造要求、降低使用成本、提高使用壽 命的金屬霧化片。本實(shí)用新型是通過以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)的一種金屬霧化片，包括光阻材料以及電鍍沉積在光阻材料表面及四周的電鑄鎳 層，電鑄鎳層上還具有微孔，其特征在于，所述的微孔的孔徑為1 3um，圓度誤差為0. 5um。進(jìn)一步，上述的光阻材料為干膜、濕膜或光刻膠，其厚度為4 5um。上述的電鑄鎳層的材料為鎳金合金，其硬度為450 550hv，厚度為0. 020 0. 060mm，且其材料可以為鎳鈷合金或鎳磷合金。本實(shí)用新型的有益效果是本實(shí)用新型通過采用特種電鑄沉積加工而成，其可以 使自身微孔的孔徑達(dá)到2 IOum的孔徑要求，可以霧化液體顆粒達(dá)到5um以下的直徑水 平，且可以滿足本實(shí)用新型具有2000 5000小時(shí)的使用壽命。

圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的截面放大示意圖。圖中主要附圖標(biāo)記含義為1、光阻材料 2、電鑄鎳層 3、微孔
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖，詳細(xì)說(shuō)明本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式
圖1為本實(shí)用新型一實(shí)施例的截面放大示意圖。如圖1所示金屬霧化片，包括光阻材料1以及電鍍沉積在光阻材料1表面及四周 的電鑄鎳層2，電鑄鎳層2上還具有微孔3，所述的微孔3的孔徑為2 lOum，圓度誤差為 0. 5um，且上述的光阻材料1為干膜(光阻材料也可以為光刻膠或者濕膜)，而電鑄鎳層的材 料則為鎳金合金，其硬度為450 550hv，厚度為0. 020 0. 060mm，所述的鎳金合金可以為鎳鈷合金或鎳磷合金中的任一種。本實(shí)用新型的生產(chǎn)過程為首先將304不銹鋼基板表面研磨處理檢查外觀后，將 304不銹鋼基板置于烘箱中烘烤30分鐘，溫度70 80度；采用光刻膠印刷的辦法，將一定 厚度的光刻膠在200 250目絲網(wǎng)印刷下，使光刻膠平均涂覆在304不銹鋼板上面，使其厚 度在4 5um左右即可；然后將霧化片的文件設(shè)計(jì)好后，制作2000DPI的負(fù)片光罩菲林，在 平行光機(jī)上進(jìn)行高精度曝光，UV光能量控制在3 5KW即可，曝光后的基板在的顯影機(jī) 中進(jìn)行清洗，使圖形停留在基板上，并作圖形尺寸及外觀檢查，然后將基板放入鎳金電鑄槽 中進(jìn)行特種電鑄沉積加工，達(dá)到所需要的厚度后即可將基板上的霧化金屬片取下，放入超 聲波清洗機(jī)上進(jìn)行清洗，完成。本實(shí)用新型孔徑小、精度高、使用壽命長(zhǎng)，價(jià)格較低，降低了使用成本，滿足霧化器 更高的技術(shù)要求。以上已以較佳實(shí)施例公開了本實(shí)用新型，然其并非用以限制本實(shí)用新型，凡采用 等同替換或者等效變換方式所獲得的技術(shù)方案，均落在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求一種金屬霧化片，包括光阻材料(1)以及電鍍沉積在光阻材料(1)表面及四周的電鑄鎳層(2)，電鑄鎳層(2)上還具有微孔(3)，其特征在于，所述的微孔(3)的孔徑為2～10um，圓度誤差為0.5um。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬霧化片，其特征在于，所述的光阻材料(1)為干膜、濕膜 或光刻膠。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬霧化片，其特征在于，所述的光阻材料(1)的厚度為4 5um。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的金屬霧化片，其特征在于，所述的電鑄鎳層(2)的材料為鎳金合金 O
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的金屬霧化片，其特征在于，所述的鎳金合金的硬度為450 550hv,厚度為 0. 020 0. 060mm。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的金屬霧化片，其特征在于，所述的鎳金合金的材料為鎳鈷合金或鎳磷合金。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種金屬霧化片，包括光阻材料以及電鍍沉積在光阻材料表面及四周的電鑄鎳層，電鑄鎳層上還具有微孔，其特征在于，所述的微孔的孔徑為2～10μm，圓度誤差為0.5μm。本實(shí)用新型通過采用特種電鑄沉積加工而成，其可以使自身微孔的孔徑達(dá)到2～10μm的孔徑要求，可以霧化液體顆粒達(dá)到5μm以下的直徑水平，且可以滿足本實(shí)用新型具有2000～5000小時(shí)的使用壽命。
文檔編號(hào)C25D1/08GK201659059SQ20102016995
公開日2010年12月1日 申請(qǐng)日期2010年4月23日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月23日
發(fā)明者周濤, 李真明, 黎增祺 申請(qǐng)人:昆山美微電子科技有限公司