專利名稱：鍍液流向可控的電鍍裝置的制作方法
技術領域：
鍍液流向可控的電鍍裝置技術領域[0001]本實用新型涉及一種掩膜電鍍裝置，具體地說，涉及的是一種鍍液流向可控的電鍍裝置。
背景技術：
[0002]通常電鍍槽的設計，一般都包含如電鍍槽、陰極、陽極、進液口、出液口、過濾裝置、 流量計等部件，鍍液的流向是平行于樣件的。在掩膜電鍍中，對于具有微結構的樣件，液體的流動明顯受到微結構深寬比的影響，使得微結構內部不同部位反應離子濃度不同，導致電鍍層厚度不均勻。為改善這種情況，提出改變電鍍液流動方向的設計，避免出現(xiàn)死角，提高電鍍層的均勻性。實用新型內容[0003]本實用新型的目的是為了克服現(xiàn)有技術中的不足，提供一種鍍液流向可控的電鍍裝置，既能實現(xiàn)鍍液的水平流動，又可以實現(xiàn)鍍液的垂直流動。[0004]為實現(xiàn)以上目的，本實用新型通過以下技術方案實現(xiàn)[0005]所述鍍液流向可控的電鍍裝置，包括電鍍槽，陰極，陽極，進液口，出液口，定位擋板，過濾裝置，流量計，以及液體流向引導裝置，所述液體流向引導裝置設置在電鍍槽的進液口之前，并與進液口連接。所述電鍍槽內設置陰極，多孔陽極，定位擋板，所述電鍍槽上設有出液口，所述出液口后安裝有過濾裝置和流量計。[0006]進一步的，所述液體流向引導裝置包括液體流向轉換機構、引導管、轉接腔體。用于引導液體水平或垂直流向的液體流向轉換機構連接引導管的一端，引導管另一端與轉接腔體連接，轉接腔體的另一端連接多孔陽極。[0007]進一步的，所述液體流向轉換機構包括水平流閥門和垂直流閥門，液體流向轉換機構設有三通接口，其中第一個接口連接到過濾裝置，第二個接口通過水平流閥門、引導管連接到進液口，第三個接口通過垂直流閥門、引導管連接到進液口。[0008]進一步的，所述垂直流閥門與轉接腔體相連，轉接腔體的另一側開有多個出液孔， 多孔陽極嵌在轉接腔體上，陽極上的孔與轉接腔體的孔是重合的，電鍍液在進入電鍍槽之前通過水平流閥門和垂直流閥門可以控制電鍍液的流向。[0009]本實用新型中，通過增加液體流向引導裝置，使電鍍液流向通過液體流向轉換機構調節(jié)，電鍍槽內的液體流向和流量可以自主控制，既可以實現(xiàn)垂直流，也可以實現(xiàn)水平流，保證微結構試樣電鍍層厚度更加均勻。設備結構簡單，使用方便。在陽極和陰極之間安裝了定位擋板，使電場分布更均勻，避免出現(xiàn)死角，提高電鍍層的均勻性。


[0010]圖1為本實用新型一實施例的電鍍裝置結構示意圖。[0011]圖2為本實用新型一實施例的陽極和轉接腔體的主視圖[0012]圖3為本實用新型一實施例的陽極和轉接腔體的側視圖圖中1、陰極；2、進液口 ；3、水平流閥門；4、垂直流閥門；5、轉接腔體；6、流量計； 7、出液口 ；8、多孔陽極；9、電鍍槽；10、過濾裝置；11、定位擋板；12引導管。
具體實施方式
下面對本實用新型的實施例作詳細說明，本實施例以本實用新型技術方案為前提，給出了詳細的實施方式和具體的操作過程，但本實用新型的保護范圍不限于下述的實施例。如圖1所示，本實施例提供一種鍍液流向可控的電鍍裝置，包括1、陰極；2、進液口 ； 6、流量計；7、出液口 ；8、多孔陽極；9、電鍍槽；10、過濾裝置；11、定位擋板，以及液體流向引導裝置，所述液體流向引導裝置設置在電鍍槽的進液口 2之前，并與進液口 2連接。 所述電鍍槽9內設置陰極1，多孔陽極8，定位擋板11，所述電鍍槽9上設有出液口 7，所述出液口后安裝有過濾裝置和流量計。本實施例中，所述液體流向引導裝置包括液體流向轉換機構、引導管12、轉接腔體 5。用于引導液體水平或垂直流向的液體流向轉換機構連接引導管12的一端，引導管12另一端與轉接腔體5連接，轉接腔體5的另一端連接多孔陽極8。本實施例中，所述的轉接腔體5由一個內空圓柱體構成。本實施例中，所述液體流向轉換機構包括水平流閥門3和垂直流閥門4，液體流向轉換機構設有三通接口，其中第一個接口連接到過濾裝置，第二個接口通過水平流閥門3、 引導管12連接到進液口 2，第三個接口通過垂直流閥門4、引導管12連接到進液口 2。如圖2所示，本實施例中，所述垂直流閥門4與轉接腔體5相連，轉接腔體5的另一側開有多個出液孔，多孔陽極8嵌在轉接腔體5上，陽極8上的孔與轉接腔體5的孔是重合的，電鍍液在進入電鍍槽9之前通過水平流閥門3和垂直流閥門4可以控制電鍍液的流向。本實施例中，所述陽極8和陰極1之間裝有定位擋板11。如圖3所示，本實施例中，所述的轉接腔體5的直徑大于引導管12的直徑，轉接腔體5 —側與引導管12相連，另一側與多孔陽極8相連，與多孔陽極8相連的一側具有多個液體流出口。本實施例中，所述的引導管12由直管與彎管構成。本實施例中，通過增加液體流向引導裝置，使電鍍液流向通過液體流向轉換機構調節(jié)，可以實現(xiàn)水平流動和垂直流動。在陽極和陰極之間安裝了定位擋板，使電場分布更均勻。電鍍槽底部安裝有出液口，出液口后安裝有過濾裝置和流量計，使得電鍍液進入電鍍裝置之前過濾掉鍍液中的固體微粒并且電鍍液的流速可控，提高電鍍液的質量。
權利要求1.一種鍍液流向可控的電鍍裝置，包括鍍槽，陰極，陽極，進液口，出液口，定位擋板， 過濾裝置以及流量計，其特征在于，所述的電鍍裝置內安裝有液體流向引導裝置，所述液體流向引導裝置設置在電鍍槽的進液口之前，并與進液口連接；所述電鍍槽內設置陰極，多孔陽極，定位擋板，所述電鍍槽上設有出液口，所述出液口后安裝有過濾裝置和流量計。
2.根據(jù)權利要求1所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述液體流向引導裝置包括液體流向轉換機構、引導管、轉接腔體，其中用于引導液體水平或垂直流向的液體流向轉換機構連接引導管的一端，引導管另一端與轉接腔體連接，轉接腔體的另一端連接多孔陽極。
3.根據(jù)權利要求2所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述液體流向轉換機構包括水平流閥門和垂直流閥門，液體流向轉換機構設有三通接口，其中第一個接口連接到過濾裝置，第二個接口通過水平流閥門、引導管連接到進液口，第三個接口通過垂直流閥門、引導管連接到進液口。
4.根據(jù)權利要求3所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述垂直流閥門與轉接腔體相連，轉接腔體的另一側開有多個出液孔，多孔陽極嵌在轉接腔體上，陽極上的孔與轉接腔體的孔是重合的。
5.根據(jù)權利要求3或4所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述的轉接腔體的直徑大于引導管的直徑，轉接腔體一側與引導管相連，另一側與多孔陽極相連，與多孔陽極相連的一側具有多個液體流出口。
6.根據(jù)權利要求5所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述的引導管由直管與彎管構成。
7.根據(jù)權利要求5所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述的轉接腔體由一個內空圓柱體構成。
8.根據(jù)權利要求1所述的鍍液流向可控的電鍍裝置，其特征在于，所述陽極和陰極之間裝有定位擋板。
專利摘要本實用新型公開了一種鍍液流向可控的電鍍裝置，包括槽體，陰極，陽極，進液口，出液口，定位擋板，過濾裝置，流量計，控制電鍍液流向的引導裝置，電鍍裝置內安裝有液體流向引導裝置，所屬的液體流向引導裝置包括液體流向轉換機構、引導管、轉接腔體。本實用新型的有益效果為電鍍槽內的液體流向和流量可以自主控制，既可以實現(xiàn)垂直流，也可以實現(xiàn)水平流，保證微結構試樣電鍍層厚度更加均勻。設備結構簡單，使用方便。
文檔編號C25D21/12GK202297834SQ201120401679
公開日2012年7月4日 申請日期2011年10月20日 優(yōu)先權日2011年10月20日
發(fā)明者丁桂甫, 李光楊, 李艷春, 汪紅, 趙小林, 陳暉 申請人:上海交通大學