專利名稱：垂直電鍍線彎板改良裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及垂直電鍍線生產(chǎn)領(lǐng)域，尤其涉及一種垂直電鍍線彎板改良裝置。
背景技術(shù)：
浮架是垂直電鍍線用來固定生產(chǎn)板在同一水平上的配件，主要用來改善板邊的鍍銅分布，但是由于浮架浮力較大，當(dāng)生產(chǎn)板厚度小于0. 75mm時會出現(xiàn)嚴(yán)重彎板的情況，導(dǎo)致鍍銅均勻性較差且板的翹曲超標(biāo)，因此需要通過調(diào)整浮架重量減少浮架對板的阻力，減少彎板。

實用新型內(nèi)容本實用新型的目的在于，提供一種垂直電鍍線彎板改良裝置，通過在浮架下方增加重物減少浮架的浮力，減少彎板。為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供一種垂直電鍍線彎板改良裝置，包括浮架、 及設(shè)于浮架下方兩端的重物，該兩端的重物質(zhì)量相等，其于浮架下方對稱設(shè)置，兩重物分別到浮架兩端部的距離相等。所述重物包括PVC套筒及容置其內(nèi)的內(nèi)容物，內(nèi)容物通過PVC套筒焊接在浮架下方。所述內(nèi)容物為鐵塊、銅球或砂子。本實用新型的有益效果本實用新型的垂直電鍍線彎板改良裝置，通過在浮架下方增加重物減少浮架的浮力，減少垂直電鍍線中薄板的彎板現(xiàn)象。為了能更進(jìn)一步了解本實用新型的特征以及技術(shù)內(nèi)容，請參閱以下有關(guān)本實用新型的詳細(xì)說明與附圖，然而附圖僅提供參考與說明用，并非用來對本實用新型加以限制。
以下結(jié)合附圖，通過對本實用新型的具體實施方式
詳細(xì)描述，將使本實用新型的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。附圖中，


圖1為本實用新型的垂直電鍍線彎板改良裝置的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實施方式
以下結(jié)合附圖對本實用新型進(jìn)行詳細(xì)描述。如
圖1所示，本實用新型的垂直電鍍線彎板改良裝置，包括浮架10、及設(shè)于浮架 10下方兩端的重物20，所述重物20的質(zhì)量及材質(zhì)要求是通過合理計算浮架10的浮力大小進(jìn)行確定，通過增加重物20來減少浮架浮力，減少垂直電鍍線彎板。所述浮架10下方兩端的重物20質(zhì)量相等，其于浮架10下方對稱設(shè)置，兩重物20 分別到浮架10兩端部的距離相等。重物20包括PVC套筒及容置其內(nèi)的內(nèi)容物，內(nèi)容物通過PVC套筒焊接在浮架10下方，該內(nèi)容物為鐵塊、銅球或砂子等。本實用新型在生產(chǎn)線中置于缸體內(nèi)(如錫缸、銅缸等)，根據(jù)不同缸體設(shè)置相應(yīng)數(shù)量的浮架10。對于浮架10每端增加重量為低銅缸16個浮架共增加4. 5KG的重物，高銅缸10個浮架共增加5KG的重物。重物20通過其PVC套筒連接在浮架10下方。相較于未增加重物的浮架在缸體內(nèi)呈漂浮狀態(tài)，薄板出缸時浮架會跳出也液面，而增加重物后的浮架10在缸體內(nèi)呈懸浮狀態(tài)，薄板出缸時浮架10由于浮力減小而慢慢上升，薄板平直，從而能夠防止薄板的彎板現(xiàn)象。綜上所述，本實用新型的垂直電鍍線彎板改良裝置，通過在浮架下方增加重物減少浮架的浮力，減少垂直電鍍線中薄板的彎板現(xiàn)象。以上所述，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本實用新型的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思作出其他各種相應(yīng)的改變和變形，而所有這些改變和變形都應(yīng)屬于本實用新型權(quán)利要求的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種垂直電鍍線彎板改良裝置，其特征在于，包括浮架、及設(shè)于浮架下方兩端的重物，該兩端的重物質(zhì)量相等，其于浮架下方對稱設(shè)置，兩重物分別到浮架兩端部的距離相等。
2.如權(quán)利要求1所述的垂直電鍍線彎板改良裝置，其特征在于，所述重物包括PVC套筒及容置其內(nèi)的內(nèi)容物，內(nèi)容物通過PVC套筒焊接在浮架下方。
3.如權(quán)利要求1所述的垂直電鍍線彎板改良裝置，其特征在于，所述內(nèi)容物為鐵塊、銅球或砂子。
專利摘要本實用新型提供一種垂直電鍍線彎板改良裝置，包括浮架、及設(shè)于浮架下方兩端的重物，該兩端的重物質(zhì)量相等，其于浮架下方對稱設(shè)置，兩重物分別到浮架兩端部的距離相等。本實用新型的垂直電鍍線彎板改良裝置，通過在浮架下方增加重物減少浮架的浮力，減少垂直電鍍線中薄板的彎板現(xiàn)象。
文檔編號C25D17/06GK202323081SQ20112043966
公開日2012年7月11日 申請日期2011年11月8日 優(yōu)先權(quán)日2011年11月8日
發(fā)明者劉攀, 曾志軍, 曾紅, 黎欽源 申請人:東莞生益電子有限公司