一種金屬件鍍銅的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種金屬件的鍍銅方法，包括對金屬件進(jìn)行預(yù)處理，通過酸性和堿性溶液以及對金屬表面進(jìn)行活化處理，在進(jìn)行電鍍，通過控制電流密度大小的交替變化進(jìn)行電鍍，得出的產(chǎn)品表面鍍層厚度均勻，質(zhì)量高，且污染小，保護(hù)了環(huán)境，具有很好的市場前景。
【專利說明】-種金屬件鍍銅的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種電鍍的方法，特別涉及一種金屬件鍍銅方法。

【背景技術(shù)】
[0002] 在現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)中，金屬電鍍已經(jīng)被人們廣泛的應(yīng)用，電鍍行業(yè)氰化鍍銅工藝中， 生產(chǎn)過程必須使用氰化物氰化鍍銅工藝，存在著劇毒性的氰化物，它對環(huán)境污染極其嚴(yán)重， 對工人身體健康造成嚴(yán)重威脅；隨著人們的環(huán)保意識的增強(qiáng)，迫切要求發(fā)展環(huán)保清潔的鍍 銅工藝，替代傳統(tǒng)的氰化物鍍銅工藝。且現(xiàn)有的電鍍銅中采用恒定的電流密度進(jìn)行電鍍，電 流密度直接影響的就是鍍層沉積速度，電流密度大，沉積速度快，反之則慢，但是電流密度 大了之后，鍍層會(huì)較粗糙，甚至?xí)?，影響外觀和防腐性能。因此如何提高電鍍效率且提 高電鍍質(zhì)量成為一個(gè)很大的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 為解決上述問題，本發(fā)明公開了一種金屬件鍍銅方法。
[0004] 為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：一種金屬件鍍銅的方法，包括如下 步驟： (1) 、對金屬件進(jìn)行超聲波除臘處理； (2) 、將金屬件浸入去PH 10-12的堿性清洗液中浸泡5-8min，并且進(jìn)行電解處理，陰 極電流密度為3-5 A/dm2,進(jìn)行表面清洗，除去表面的油污，電解完畢后用去離子水進(jìn)行沖 洗； (3) 、將金屬件浸入酸性溶劑中進(jìn)行清洗，除去其表面的氧化膜，酸洗后將金屬件放入 去離子水中清洗干凈； (4) 、將經(jīng)步驟3處理后的金屬件進(jìn)行活化處理，處理完畢后再用去離子水沖洗干凈； (5) 、將金屬件放入電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行電鍍，所述的電鍍?nèi)芤喊ㄈ缦碌某煞郑簼舛葹?20 g/L-240 g/L硫酸銅、濃度為320 g/L-400 g/L堿式碳酸銅、濃度為15 g/L-25 g/L的氨基 磺酸鈉、濃度為20 g/L的葡萄糖酸鈉，濃度為20 g/L的硫酸鈉、硝酸鈉的混合溶液，所述溶 液溫度為45-75°C，電流的密度為4-8 A/dm2與25-40A/dm2之間交替，其中低電流與高電 流之間的時(shí)間比為1:2-2:3,電流交替次數(shù)為10-15次，電鍍時(shí)間為15min-20min ; (6) 、將步驟5中鍍好的金屬件經(jīng)過4%-6%的氫氧化鈉溶液中通過； (7) 、將步驟6中的金屬件用去離子水沖洗； (8) 、將步驟7中的金屬件送入真空的烘箱中進(jìn)行烘干，烘箱的溫度控制在280-300°C。
[0005] 作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述的硫酸銅與所述的堿式碳酸銅之間的濃度比為 2:3_3:4〇
[0006] 作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，所述的步驟3中的酸性溶劑的為稀硝酸和稀硫酸的混合 物，其中稀硝酸和稀硫酸之間的濃度比為1:1-1: 2。
[0007] 作為本發(fā)明的一種改進(jìn)，步驟4中對金屬件進(jìn)行活化處理的步驟為將金屬件放入 硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的混合溶液中進(jìn)行浸泡，其中浸泡時(shí)間為3-6min，所述的硬脂 酸，十二烷基苯磺酸鈉的濃度比為1:2-2:3。
[0008] 本發(fā)明提供的一種金屬件鍍銅方法，成本低廉，且環(huán)保，能夠很大程度上的減少了 工業(yè)污染，保護(hù)了環(huán)境，且操作步驟簡單，鍍銅的效率高，且得到的鍍銅的產(chǎn)品的鎳層均勻， 耐腐蝕、耐磨損性，鍍層表面平整，不易產(chǎn)生裂紋，具有廣闊的市場前景。

【具體實(shí)施方式】
[0009] 以下將結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明提供的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)說明，應(yīng)理解下述具體 實(shí)施方式僅用于說明本發(fā)明而不用于限制本發(fā)明的范圍。
[0010] 實(shí)施例1 : 一種金屬件鍍銅的方法，包括如下步驟： (1) 、對金屬件進(jìn)行超聲波除臘處理； (2) 、將金屬件浸入去PH 10的堿性清洗液中浸泡5-8min，并且進(jìn)行電解處理，陰極電 流密度為3 A/dm2,進(jìn)行表面清洗，除去表面的油污，電解完畢后用去離子水進(jìn)行沖洗； (3) 、將金屬件浸入浸入稀硝酸和稀硫酸之間的濃度比為1:1的酸性溶劑中進(jìn)行清洗， 除去其表面的氧化膜，酸洗后將金屬件放入去離子水中清洗干凈； (4) 、將經(jīng)步驟3處理后的金屬件放入硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的混合溶液中進(jìn)行 浸泡，其中浸泡時(shí)間為3-6min，進(jìn)行活化處理，其中硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的濃度比為 1:2-2:3,處理完畢后再用去離子水沖洗干凈； (5 )、將金屬件放入電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行電鍍，所述的電鍍?nèi)芤喊ㄈ缦碌某煞郑簼舛葹?20 g/L硫酸銅、濃度為330 g/L堿式碳酸銅、濃度為15 g/L的氨基磺酸鈉、濃度為20 g/L的葡 萄糖酸鈉，濃度為20 g/L的硫酸鈉、硝酸鈉的混合溶液，所述溶液溫度為45°C，電流的密度 為4 A/dm2與25A/dm2之間交替，其中低電流與高電流之間的時(shí)間比為1:2,電流交替次數(shù) 為10次，電鍍時(shí)間為15min ; (6) 、將步驟5中鍍好的金屬件經(jīng)過4%的氫氧化鈉溶液中通過； (7) 、將步驟6中的金屬件用去離子水沖洗； (8) 、將步驟7中的金屬件送入真空的烘箱中進(jìn)行烘干，烘箱的溫度控制在280°C。
[0011] 實(shí)施例2: 一種金屬件鍍銅的方法，包括如下步驟： (1) 、對金屬件進(jìn)行超聲波除臘處理； (2) 、將金屬件浸入去PH 10的堿性清洗液中浸泡6min，并且進(jìn)行電解處理，陰極電流 密度為4A/dm2,進(jìn)行表面清洗，除去表面的油污，電解完畢后用去離子水進(jìn)行沖洗； (3) 、將金屬件浸入浸入稀硝酸和稀硫酸之間的濃度比為1:1.5的酸性溶劑中進(jìn)行清 洗，除去其表面的氧化膜，酸洗后將金屬件放入去離子水中清洗干凈； (4) 、將經(jīng)步驟3處理后的金屬件放入硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的混合溶液中進(jìn)行浸 泡，其中浸泡時(shí)間為5min，進(jìn)行活化處理，其中硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的濃度比為3:5， 處理完畢后再用去離子水沖洗干凈； (5 )、將金屬件放入電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行電鍍，所述的電鍍?nèi)芤喊ㄈ缦碌某煞郑簼舛葹?30 g/L硫酸銅、濃度為330 g/L堿式碳酸銅、濃度為20g/L的氨基磺酸鈉、濃度為20 g/L的葡
【權(quán)利要求】
1. 一種金屬件鍍銅的方法，其特征在于：包括如下步驟： (1) 、對金屬件進(jìn)行超聲波除臘處理； (2) 、將金屬件浸入去PH 10-12的堿性清洗液中浸泡5-8min，并且進(jìn)行電解處理，陰 極電流密度為3-5 A/dm2,進(jìn)行表面清洗，除去表面的油污，電解完畢后用去離子水進(jìn)行沖 洗； (3) 、將金屬件浸入酸性溶劑中進(jìn)行清洗，除去其表面的氧化膜，酸洗后將金屬件放入 去離子水中清洗干凈； (4) 、將經(jīng)步驟3處理后的金屬件進(jìn)行活化處理，處理完畢后再用去離子水沖洗干凈； (5) 、將金屬件放入電鍍?nèi)芤褐羞M(jìn)行電鍍，所述的電鍍?nèi)芤喊ㄈ缦碌某煞郑簼舛葹?20 g/L-240 g/L硫酸銅、濃度為320 g/L-400 g/L堿式碳酸銅、濃度為15 g/L-25 g/L的氨基 磺酸鈉、濃度為20 g/L的葡萄糖酸鈉，濃度為20 g/L的硫酸鈉、硝酸鈉的混合溶液，所述溶 液溫度為45-75°C，電流的密度為4-8 A/dm2與25-40A/dm2之間交替，其中低電流與高電 流之間的時(shí)間比為1:2-2:3,電流交替次數(shù)為10-15次，電鍍時(shí)間為15min-20min ; (6) 、將步驟5中鍍好的金屬件經(jīng)過4%-6%的氫氧化鈉溶液中通過； (7) 、將步驟6中的金屬件用去離子水沖洗； (8) 、將步驟7中的金屬件送入真空的烘箱中進(jìn)行烘干，烘箱的溫度控制在280-300°C。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬件鍍銅的方法，其特征在于：所述的硫酸銅與所述 的堿式碳酸銅之間的濃度比為2:3-3:4。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬件鍍銅的方法，其特征在于：所述的步驟3中的酸 性溶劑的為稀硝酸和稀硫酸的混合物，其中稀硝酸和稀硫酸之間的濃度比為1:1-1: 2。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬件鍍銅的方法，其特征在于：步驟4中對金屬件進(jìn) 行活化處理的步驟為將金屬件放入硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的混合溶液中進(jìn)行浸泡，其 中浸泡時(shí)間為3-6min，所述的硬脂酸，十二烷基苯磺酸鈉的濃度比為1:2-2:3。
【文檔編號】C25D3/38GK104087985SQ201410289015
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年6月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月25日
【發(fā)明者】吳長青, 何曉俊 申請人:安徽長青電子機(jī)械（集團(tuán)）有限公司