一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及版輥制造【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟：（1）圖案分層；（2）版輥預(yù)處理；（3）版輥包膠；（4）多次雕刻腐蝕：將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第n層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第n層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。采用本發(fā)明的工藝，只用一支版輥就可以達(dá)到以往多支版輥才能達(dá)到的效果，降低了制版、印刷成本及印刷套印風(fēng)險(xiǎn)。
【專利說明】一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及版輥制造【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工
-H-
O

【背景技術(shù)】
[0002]隨著各種技術(shù)的不斷推進(jìn)，印刷及轉(zhuǎn)移等對(duì)各種圖案深淺不同的需求越來越多，但由于對(duì)于刻膜蝕刻出來的不同深淺圖案不能緊貼，給制版的工藝及印刷需要造成較多困惑。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了克服現(xiàn)有技術(shù)中存在的缺點(diǎn)和不足，本發(fā)明的目的在于提供一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝。
[0004]本發(fā)明的目的通過下述技術(shù)方案實(shí)現(xiàn):一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。每次腐蝕完成后的保護(hù)為本領(lǐng)域的公知常識(shí)，在此不作贅述。
[0005]本發(fā)明的工藝采用圖案分層、多次雕刻和多次腐蝕等步驟，可以生產(chǎn)出不同深淺圖案的版棍，可以有效解決印刷對(duì)不同深淺圖案的需要，滿足更多客戶的需求。采用本發(fā)明的工藝，只用一支版輥就可以達(dá)到以往多支版輥才能達(dá)到的效果，降低了制版、印刷成本及印刷套印風(fēng)險(xiǎn)。
[0006]優(yōu)選的，所述步驟(3)中，膠液為粘度在30-34s的膠液。更為優(yōu)選的，所述膠液為粘度在30-34s的Κ-500型膠液。本發(fā)明的膠液粘度好，性能穩(wěn)定。
[0007]優(yōu)選的，所述步驟(3)中，掛起速度為0.4-0.6m/min，涂膠厚度為8-12 μπι。更為優(yōu)選的，掛起速度為0.5m/min，涂膠厚度為10 μπι。
[0008]優(yōu)選的，所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0009]優(yōu)選的，所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版輥上兩次。
[0010]優(yōu)選的，所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將550-650g三氧化鉻加1.4-1.5L波美度為40-44的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為4_8。本發(fā)明的去除雜質(zhì)液去除雜質(zhì)效果好，能有效的去除氧化層，便于后續(xù)腐蝕。
[0011]優(yōu)選的，所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在36-40的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為20-40°C，腐蝕時(shí)間為5-20s。本發(fā)明通過采用波美度在36-40的三氯化鐵溶液作為腐蝕液，其腐蝕效果好，性能穩(wěn)定。
[0012]優(yōu)選的，所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，所述鍍鉻液包括Cr03、Cr3+、H2S0#添加劑，其中，CrO 3的濃度為290-310g/L，Cr 3+的濃度為2-6g/L，003與H2SO4的重量比為100:1.1-1.2，添加劑的濃度為4-lOg/L ;所述電鍍的溫度為59-63°C ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:3-5:1.5-2.5:1組成的混合物。
[0013]在正常的鍍鉻工藝規(guī)范中，鉻酸酐與硫酸的重量比應(yīng)該保持在100:1，本發(fā)明采用的鉻酸酐與硫酸的重量比為100:1.1-1.2，在其它濃度不變時(shí)，提高硫酸含量，鉻層的硬度也相應(yīng)增高；但在二者比值為100:1.3時(shí)，再提高硫酸含量硬度值又會(huì)下降。
[0014]本發(fā)明的鍍鉻液通過將003與H2SOj^重量比控制在100:1.1_1.2，并控制住CrO3, Cr3+和添加劑的用量，得到的鍍鉻層硬度高，且鍍鉻層與版輥的結(jié)合能力強(qiáng)，不易脫落，工藝簡(jiǎn)單，成本低。
[0015]本發(fā)明的鍍鉻方法得到的鍍鉻層不易脫落，工藝簡(jiǎn)單，操作控制方便，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)效率高，可大規(guī)模工業(yè)化生產(chǎn)。
[0016]優(yōu)選的，所述電鍍的溫度為59-63 °C。在較高溫度(59-63 °C )下，由稀溶液鍍出的鉻層比由濃鍍液鍍出的鉻層硬度高15?20% ;在較低溫度(35?45°C)下，由稀溶液鍍出的鉻層比由濃鍍液鍍出的鉻層硬度沒有多大差別。更為優(yōu)選的，所述電鍍的溫度為61°C。
[0017]所述電鍍時(shí)版輥的轉(zhuǎn)速為40-60m/min。版輥的轉(zhuǎn)速不宜過快或過慢，本發(fā)明通過將版輥的轉(zhuǎn)速控制在50m/min，電鍍均勻，得到的鍍鉻層穩(wěn)定，硬度高。
[0018]所述電鍍的送電方式為:先用小電流4-6A/dm2電解2.5-3.5min，再用沖擊電流70-100A/dm2電鍍50-70s ;最后用正常電流至電鍍完。所述正常電流為55_75A/dm2。在正常溫度下，鉻層硬度隨著電流密度的增加而提高，當(dāng)電流密度達(dá)到一定極限時(shí)硬度趨向穩(wěn)定。本發(fā)明通過采用小電流、沖擊電流和正常電流三段電鍍，電鍍效果好，得到的鍍鉻層硬度高，且鍍鉻層與版輥的結(jié)合能力強(qiáng)，不易脫落。更為優(yōu)選的，所述電鍍的送電方式為:先用小電流5A/dm2電解3min，再用沖擊電流85A/dm2電鍍60s ;最后用正常電流65A/dm2至電鍍完。
[0019]優(yōu)選的，所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為10-15 μπι。鍍鉻層的厚度不宜過厚或過薄，本發(fā)明通過將鍍鉻層的厚度控制在10-15 μπι，既不浪費(fèi)電鍍?cè)?，又能獲得較好的硬度和結(jié)合力。
[0020]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為650-950HV。鍍鉻層的硬度影響鍍鉻層的性能，本發(fā)明通過將鍍鉻層的硬度控制在650-950HV，鍍鉻層有較好的耐熱性，在500°C以下加熱，其光澤性、硬度均無明顯變化，還具有較好的耐磨性。本發(fā)明可以根據(jù)版輥使用不同的油墨，采用不同的電鍍工藝，如:當(dāng)版輥使用酸性油墨，可以將鍍鉻層的硬度控制在650-750Hv ;當(dāng)版輥使用醇溶性油墨，可以將鍍鉻層的硬度控制在750-850HV ;當(dāng)版輥使用水溶性油墨或酯溶性油墨，可以將鍍鉻層的硬度控制在820-950HV。具體地，可以通過采用高溫低電流得到硬度低的鉻層，采用低溫高電流得到硬度高的鉻層。
[0021]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0022]本發(fā)明的有益效果在于:本發(fā)明的工藝采用圖案分層、多次雕刻和多次腐蝕等步驟，可以生產(chǎn)出不同深淺圖案的版輥，可以有效解決印刷對(duì)不同深淺圖案的需要，滿足更多客戶的需求。采用本發(fā)明的工藝，只用一支版輥就可以達(dá)到以往多支版輥才能達(dá)到的效果，降低了制版、印刷成本及印刷套印風(fēng)險(xiǎn)。

【具體實(shí)施方式】
[0023]為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員的理解，下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說明，實(shí)施方式提及的內(nèi)容并非對(duì)本發(fā)明的限定。
[0024]實(shí)施例1
一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
[0025]所述步驟(3)中，膠液為粘度在30s的膠液。
[0026]所述步驟(3)中，掛起速度為0.4m/min，涂膠厚度為8 μπι。
[0027]所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0028]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版棍上兩次。
[0029]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將550g三氧化鉻加1.4L波美度為40的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為4。
[0030]所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在36的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為20°C，腐蝕時(shí)間為5s。
[0031]所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，003的濃度為290g/L，Cr 3+的濃度為2g/L，CrO ^H2SO4的重量比為100:1.1，添加劑的濃度為4g/L ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:3:1.5:1組成的混合物。
[0032]所述電鍍的溫度為63 °C。
[0033]所述電鍍時(shí)版輥的轉(zhuǎn)速為40m/min。
[0034]所述電鍍的送電方式為:先用小電流4A/dm2電解2.5min，再用沖擊電流7OA/dm 2電鍍50s ;最后用正常電流55A/dm2至電鍍完。
[0035]所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為10 μπι。
[0036]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為650Ην。
[0037]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0038]實(shí)施例2
一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
[0039]所述步驟(3 )中，膠液為粘度在31 s的膠液。
[0040]所述步驟(3)中，掛起速度為0.45m/min，涂膠厚度為9 μπι。
[0041]所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0042]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版棍上兩次。
[0043]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將575g三氧化鉻加1.42L波美度為41的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為5。
[0044]所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在37的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為22°C，腐蝕時(shí)間為9s。
[0045]所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，003的濃度為295g/L，Cr 3+的濃度為3g/L，CrO 3與H2SO4的重量比為100:1.12，添加劑的濃度為5g/L ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:3.5:
1.7:1組成的混合物。
[0046]所述電鍍的溫度為62 °C。
[0047]所述電鍍時(shí)版輥的轉(zhuǎn)速為45m/min。
[0048]所述電鍍的送電方式為:先用小電流4.2A/dm2電解2.7min，再用沖擊電流77A/dm2電鍍55s ;最后用正常電流60A/dm2至電鍍完。
[0049]所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為11 μ m。
[0050]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為750Hv。
[0051]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0052]實(shí)施例3
一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
[0053]所述步驟(3)中，膠液為粘度在32s的膠液。
[0054]所述步驟(3)中，掛起速度為0.5m/min，涂膠厚度為10 μπι。
[0055]所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0056]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版棍上兩次。
[0057]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將600g三氧化鉻加1.45L波美度為42的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為6。
[0058]所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在38的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為30°C，腐蝕時(shí)間為13s。
[0059]所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，003的濃度為300g/L，Cr 3+的濃度為4g/L，CrO 3與H2SO4的重量比為100:1.15，添加劑的濃度為7g/L ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:4:2:1組成的混合物。
[0060]所述電鍍的溫度為61°C。
[0061]所述電鍍時(shí)版輥的轉(zhuǎn)速為50m/min。
[0062]所述電鍍的送電方式為:先用小電流5A/dm2電解3min，再用沖擊電流85A/dm 2電鍍60s ;最后用正常電流65A/dm2至電鍍完。
[0063]所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為13 μ m。
[0064]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為820Hv。
[0065]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0066]實(shí)施例4
一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
[0067]所述步驟(3)中，膠液為粘度在33s的膠液。
[0068]所述步驟(3)中，掛起速度為0.55m/min，涂膠厚度為11 μπι。
[0069]所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0070]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版棍上兩次。
[0071]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將625g三氧化鉻加1.48L波美度為43的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為7。
[0072]所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在39的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為35°C，腐蝕時(shí)間為17s。
[0073]所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，003的濃度為305g/L，Cr 3+的濃度為5g/L，CrO 3與H2SO4的重量比為100:1.18，添加劑的濃度為9g/L ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:4.5:
2.3:1組成的混合物。
[0074]所述電鍍的溫度為60 °C。
[0075]所述電鍍時(shí)版棍的轉(zhuǎn)速為55m/min。
[0076]所述電鍍的送電方式為:先用小電流5.5A/dm2電解3.3min，再用沖擊電流93A/dm2電鍍65s ;最后用正常電流70A/dm2至電鍍完。
[0077]所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為14 μ m。
[0078]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為850Hv。
[0079]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0080]實(shí)施例5
一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，包括如下步驟:
(1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序；
(2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理；
(3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干；
(4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
[0081]所述步驟(3)中，膠液為粘度在34s的膠液。
[0082]所述步驟(3)中，掛起速度為0.6m/min，涂膠厚度為12 μπι。
[0083]所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
[0084]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版棍上兩次。
[0085]所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將650g三氧化鉻加1.5L波美度為44的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為8。
[0086]所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在40的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為40°C，腐蝕時(shí)間為20s。
[0087]所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍；
其中，003的濃度為310g/L，Cr3+的濃度為6g/L，Cr0#H2S04的重量比為100: 1.2，添加劑的濃度為10g/L ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:5:2.5:I組成的混合物。
[0088]所述電鍍的溫度為59 °C。
[0089]所述電鍍時(shí)版輥的轉(zhuǎn)速為60m/min。
[0090]所述電鍍的送電方式為:先用小電流6A/dm2電解3.5min，再用沖擊電流100A/dm2電鍍70s ;最后用正常電流75A/dm2至電鍍完。
[0091]所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為15 μπι。
[0092]所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為950Ην。
[0093]一種具有不同深淺圖案的版輥，所述版輥根據(jù)上述所述的制作工藝制得。
[0094]本發(fā)明的工藝采用圖案分層、多次雕刻和多次腐蝕等步驟，可以生產(chǎn)出不同深淺圖案的版棍，可以有效解決印刷對(duì)不同深淺圖案的需要，滿足更多客戶的需求。采用本發(fā)明的工藝，只用一支版輥就可以達(dá)到以往多支版輥才能達(dá)到的效果，降低了制版、印刷成本及印刷套印風(fēng)險(xiǎn)。
[0095]上述實(shí)施例為本發(fā)明較佳的實(shí)現(xiàn)方案，除此之外，本發(fā)明還可以其它方式實(shí)現(xiàn)，在不脫離本發(fā)明構(gòu)思的前提下任何顯而易見的替換均在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:包括如下步驟: (1)圖案分層:將需要印刷的圖案根據(jù)不同的深度分為η層，第一層至第η層的圖案由淺到株排序； (2)版輥預(yù)處理:將鍍銅后的版輥進(jìn)行表面脫脂處理，再經(jīng)過酸洗、拋毛和清潔處理； (3)版輥包膠:將預(yù)處理后的版輥掛起，在版輥的外側(cè)均勻地涂覆一層膠液，涂覆完成后自然晾干； (4 )多次雕刻腐蝕:將包膠晾干后的版輥放入激光雕刻機(jī)內(nèi)，按第一層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第一層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第一層的圖案進(jìn)行保護(hù)；然后按第二層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第二層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，腐蝕后對(duì)第二層的圖案進(jìn)行保護(hù)；依此類推，按第η層的圖案進(jìn)行激光雕刻，去除雜質(zhì)后對(duì)第η層雕刻的圖案進(jìn)行腐蝕，得到具有不同深淺圖案的版輥。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(3)中，膠液為粘度在30-34s的膠液。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(3)中，掛起速度為0.4-0.6m/min，涂膠厚度為8_12 μπι。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(4)中，雕刻采用波長(zhǎng)為1064nm的連續(xù)激光進(jìn)行雕刻。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)的具體步驟為:旋轉(zhuǎn)版輥，將去除雜質(zhì)液均勻澆淋在版輥上兩次。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(4)中，去除雜質(zhì)液的制備方法為:將550-650g三氧化鉻加1.4-1.5L波美度為40-44的三氯化鐵混合后，加水稀釋至波美度為4-8。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(4)中，腐蝕采用的腐蝕液為波美度在36-40的三氯化鐵溶液，腐蝕溫度為20-40°C，腐蝕時(shí)間為5-20s。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述步驟(4)之后還包括步驟(5)脫膠鍍鉻:將多次腐蝕后的版輥進(jìn)行脫膠，并放入裝有鍍鉻液的電鍍槽中進(jìn)行電鍍； 其中，所述鍍鉻液包括Cr03、Cr3+、H2S0#添加劑，其中，CrO 3的濃度為290-310g/L，Cr 3+的濃度為2-6g/L，003與H2SO4的重量比為100:1.1-1.2，添加劑的濃度為4-lOg/L ;所述電鍍的溫度為59-63°C ;所述添加劑是由甲基二磺酸鈉、氨基磺酸和碘酸鉀以重量比:3-5:1.5-2.5:1組成的混合物。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種具有不同深淺圖案的版輥的制作工藝，其特征在于:所述電鍍的溫度為59-63°C ;所述電鍍時(shí)版棍的轉(zhuǎn)速為40-60m/min ;所述電鍍的送電方式為:先用小電流4-6A/dm2電解2.5-3.5min，再用沖擊電流70_100A/dm 2電鍍50_70s ;最后用正常電流至電鍍完；所述電鍍后得到的鍍鉻層的厚度為10-15 μπι ;所述電鍍后得到的鍍鉻層的硬度為650-950Ην。
10.一種具有不同深淺圖案的版輥，其特征在于:所述版輥根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的制作工藝制得。
【文檔編號(hào)】C25D3/04GK104476938SQ201410819115
【公開日】2015年4月1日 申請(qǐng)日期:2014年12月25日 優(yōu)先權(quán)日:2014年12月25日
【發(fā)明者】樊問博 申請(qǐng)人:東莞運(yùn)城制版有限公司