均勻的ps板氧化槽的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及PS板生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】的加工設(shè)備，名稱是均勻的PS板氧化槽，它包括氧化槽本體，氧化槽本體是一個槽體，在靠近槽體底部的位置鋪設(shè)有多塊橫向的電極板，其特征是：所述的電極板上具有多個小孔，所述的相鄰的電極板塊之間的距離小于或等于電極板的寬度，所述的小孔的直徑小于3厘米，小孔的總面積是電極板面積的30—40%，所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑的高度是15—17厘米，這樣的PS板氧化槽能夠保證產(chǎn)生的氧化膜均勻、產(chǎn)品質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】均勻的PS板氧化槽
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及PS板生產(chǎn)【技術(shù)領(lǐng)域】的加工設(shè)備，具體地說是涉及PS板氧化槽。
【背景技術(shù)】
[0002]在加工PS板的過程中，需要在材料板的表面形成一層氧化層，形成氧化層的過程是在PS板氧化槽中進(jìn)行的，氧化槽具有槽體，其長度比較長，一般可以達(dá)到6— 8米，工作時，氧化槽內(nèi)部盛裝導(dǎo)電液，在靠近氧化槽的底部位置鋪設(shè)有多塊橫向(即和氧化槽長度方向垂直)的電極板，材料板經(jīng)過氧化槽，同時在電極板和材料板上施加電壓，就可以在材料板上形成氧化膜；現(xiàn)有技術(shù)中，所使用的電極板上面是沒有小孔的，這樣的氧化槽具有生成氧化膜不均勻的缺點(diǎn)，影響了產(chǎn)品質(zhì)量。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型的目的就是針對上述缺點(diǎn)，提供一種產(chǎn)生出來的氧化產(chǎn)品一氧化膜均勻、產(chǎn)品質(zhì)量更好的均勻的PS板氧化槽。
[0004]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是:均勻的PS板氧化槽，包括氧化槽本體，氧化槽本體是一個槽體，在靠近槽體底部的位置鋪設(shè)有多塊橫向的電極板，其特征是:所述的電極板上具有多個小孔。
[0005]進(jìn)一步地講，所述的相鄰電極板之間的距離小于或等于電極板的寬度。
[0006]進(jìn)一步地講，所述的小孔的直徑小于3厘米，小孔的總面積是電極板面積的30—40%。
[0007]進(jìn)一步的講，所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑的高度是15 —17厘米。
[0008]本實(shí)用新型的有益效果是:這樣的PS板氧化槽能夠保證產(chǎn)生氧化膜均勻、產(chǎn)品質(zhì)量好的優(yōu)點(diǎn)；所述的相鄰的電極板塊之間的距離小于或等于電極板的寬度，所述的小孔的直徑小于3厘米，小孔的總面積是電極板面積的30—40%，所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑是15 —17厘米，都具有產(chǎn)生氧化膜更均勻、產(chǎn)品質(zhì)量更好的優(yōu)點(diǎn)。
【專利附圖】
【附圖說明】
[0009]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖2是電極板的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011]其中:1、氧化槽本體 2、電極板3、小孔 4、路徑。
[0012]D——電極板的寬度
[0013]L——相鄰的電極板塊之間的距離
[0014]H——電極板距離材料板經(jīng)過的路徑的高度。
【具體實(shí)施方式】
[0015]下面結(jié)合附圖對本實(shí)用新型做進(jìn)一步的說明。
[0016]如圖1、2所示，均勻的PS板氧化槽，包括氧化槽本體1，氧化槽本體是一個槽體，在靠近槽體底部的位置鋪設(shè)有多塊橫向的電極板2，其特征是:所述的電極板上具有多個小孔3。
[0017]進(jìn)一步地講，所述的相鄰電極板塊之間的距離L小于或等于電極板的寬度D。
[0018]進(jìn)一步地講，所述的小孔的直徑小于3厘米，小孔的總面積是電極板面積的30—40%。
[0019]進(jìn)一步的講，所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑4的高度H是15 —17厘米。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，但本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)特征并不限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本實(shí)用新型的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本實(shí)用新型的專利范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.均勻的PS板氧化槽，包括氧化槽本體，氧化槽本體是一個槽體，在靠近槽體底部的位置鋪設(shè)有多塊橫向的電極板，其特征是:所述的電極板上具有多個小孔。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的PS板氧化槽，其特征是:所述的相鄰的電極板塊之間的距離小于或等于電極板的寬度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的PS板氧化槽，其特征是:所述的小孔的直徑小于3厘米，小孔的總面積是電極板面積的30— 40%ο
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的PS板氧化槽，其特征是:所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑的高度是15—17厘米。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的PS板氧化槽，其特征是:所述的電極板距離材料板經(jīng)過的路徑的高度是15 —17厘米。
【文檔編號】C25D11/02GK204039530SQ201420471092
【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年8月21日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月21日
【發(fā)明者】張朝陽 申請人:長葛市匯達(dá)感光材料有限公司