發(fā)明涉及一種將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法、一種具有特殊光澤度的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材以及一種用于將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的水性堿性電鍍浴，和鍍鋅浴添加劑在將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法中以改善金屬基材上的鋅或鋅合金涂層的光學(xué)外觀和/或粘合性的用途。發(fā)明背景由堿性溶液將鋅電解沉積至金屬基材上以制備鋅涂覆的金屬基材的方法廣泛用于防止該類金屬基材腐蝕且用于賦予所得最終產(chǎn)品以特殊的光學(xué)和機(jī)械性能。該電解沉積方法通常包括將電流密度施加至待涂鋅的金屬基材上，同時(shí)將所述基材置于鍍鋅浴中。由于所施加的電流，溶解于鍍鋅浴中的鋅離子沉積在金屬基材表面上，從而在其上形成鋅涂層。在本領(lǐng)域中，已經(jīng)提出改善在堿性溶液中將鋅電解沉積至金屬基材上的若干嘗試。例如，US2012/0138473A1涉及一種能快速形成的鋅涂層的鍍鋅浴添加劑，取決于在待電鍍對象表面上的位置，該鋅涂層的厚度變化較小。鍍鋅浴添加劑包含具有兩種胺化合物作為結(jié)構(gòu)單元的水溶性共聚物。WO03/006360A2涉及一種堿性鋅-鎳電鍍浴，其包含鋅離子、鎳離子、主光亮劑(其為在吡啶環(huán)的3位置處被羧酸酯基或可水解成羧酸酯基的基團(tuán)取代的N-甲基吡啶化合物)和次光亮劑(其為脂族胺)。US3,886,054A涉及用于光亮鍍鋅的非氰化物堿性電鍍浴，其包含優(yōu)選與醛類光亮劑混合的亞烷基多胺與1，3-二鹵代-2-丙醇的季銨化縮聚物以作為晶粒細(xì)化劑，以及能在寬電流密度范圍內(nèi)產(chǎn)生光亮的、細(xì)粒狀沉積物的巰基取代的雜環(huán)化合物。US2005/133376A1涉及一種水性鋅-鎳電鍍浴，其包含水、鎳離子、鋅離子、至少一種絡(luò)合劑，以及至少一種非離子表面活性聚氧亞烷基化合物，其中所述浴具有堿性pH。然而，通過將鋅或鋅合金電解沉積至基材上制備鋅涂覆的金屬基材具有挑戰(zhàn)性。例如，在將鋅或鋅合金電解沉積至金屬基材上期間，產(chǎn)生氫氣，其往往作為小氣泡粘附在涂層表面上，從而導(dǎo)致在金屬基材上形成的鋅或鋅合金涂層具有劣化的光學(xué)外觀。該劣化的光學(xué)外觀通常可以以條帶形式見于表面上。此外，該氣泡(其可作為表面上的小起泡檢測到)的形成也降低了鋅涂層在金屬基材上的粘合性，因此也獲得了降低的機(jī)械性能。因此，希望將表面活性物添加至電鍍浴中以便輔助在金屬基材上形成均勻涂層，且因此改善鋅或鋅合金涂覆的金屬基材表面的光學(xué)外觀。就此而言，應(yīng)指出的是，被視為適于鍍鋅方法中的表面活性物應(yīng)可溶于電鍍浴。然而，該水溶性表面活性物也往往使沉積工藝期間產(chǎn)生的泡沫穩(wěn)定化，而該泡沫可隨后干擾鋅或鋅合金在金屬基材上的沉積，從而使得在其上形成不均勻的涂層，從而再次導(dǎo)致光學(xué)外觀劣化。與此相反，已知為在泡沫的非穩(wěn)定化方面具有足夠能力的表面活性物通常不溶于水性鍍鋅浴中，且因此被認(rèn)為不適用于該浴中。因此，本領(lǐng)域需要提供一種避免前述缺點(diǎn)且尤其允許制備賦予所得最終產(chǎn)品以極好的光學(xué)特性，同時(shí)其機(jī)械性能保持在高水平下或甚至改善的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材的方法。特別地，希望提供一種將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法，其一方面，因在電鍍浴中不形成泡沫和氣泡而產(chǎn)生的光學(xué)外觀，和另一方面，鋅或鋅合金涂層在金屬基材上的粘合性之間具有良好平衡。因此，本發(fā)明的目的是提供一種將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法。此外，本發(fā)明的目的是提供一種方法，其中在金屬基材上形成的鋅或鋅合金涂層具有均勻厚度。本發(fā)明的另一目的是提供一種方法，其中在金屬基材上形成的所得鋅或鋅合金涂層的光學(xué)外觀得以改善。本發(fā)明的另一目的是提供一種方法，其中在金屬基材上形成的所得鋅或鋅合金涂層的機(jī)械性能保持在高水平下或甚至得以改善。本發(fā)明的又一目的是提供一種方法，其中實(shí)現(xiàn)了金屬基材表面的良好潤濕，從而導(dǎo)致氣泡釋放得以改善，由此改善所得鋅或鋅合金涂覆的金屬基材的光學(xué)外觀。本發(fā)明的另一目的是提供一種方法，其中所獲得的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材是就金屬基材上的鋅或鋅合金涂層的潤濕性能和粘合性而言的良好平衡性能的結(jié)果。其他目的可由下文的本發(fā)明描述了解。發(fā)明概述前述和其他目的通過本發(fā)明的主題解決。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法。所述方法至少包括如下步驟：a)提供包含如下組分的水性堿性電鍍?。篿)鋅離子源，ii)氫氧根離子源，和iii)為至少一種通式(I)的化合物的鍍鋅浴添加劑：其中R為C4-C10烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值，和b)將金屬基材置于所述水性堿性電鍍浴中，從而在所述金屬基材上形成鋅或鋅合金涂層。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種具有由不等式(1)定義的光澤度的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材：(GU使用)/(GU不使用)≥1.05(I)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的水性堿性電鍍浴，其中所述浴包含：a)如本文所定義的鋅離子源，b)如本文所定義的氫氧根離子源，和c)如本文所定義的鍍鋅浴添加劑。根據(jù)本發(fā)明的另一方面，提供了一種如本文所定義的鍍鋅浴添加劑在將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法中的用途。根據(jù)又一方面，提供了一種如本文所定義的鍍鋅浴添加劑用于改善金屬基材上的鋅或鋅合金涂層的光學(xué)外觀和/或粘合性的用途。根據(jù)再一方面，提供了一種鍍鋅浴添加劑用于改善鑄鐵基材上的鋅或鋅合金涂層的光學(xué)和/或機(jī)械表面性能的用途。本發(fā)明的將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法的有利實(shí)施方案定義于相應(yīng)的從屬權(quán)利要求中。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，鋅離子源為氧化鋅和/或鋅離子以2.0-30.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。根據(jù)另一實(shí)施方案，氫氧根離子源為氫氧化鈉和/或氫氧根離子以50.0-250.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。根據(jù)又一實(shí)施方案，在通式(I)中R為C4-C8烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；且x為1-2。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，在通式(I)中R為C4烷基；G1為葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖；且x為1-1.8。根據(jù)另一實(shí)施方案，所述鍍鋅浴添加劑以0.1-10.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。根據(jù)又一實(shí)施方案，所述水性堿性電鍍浴具有12.0-14.0的pH。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，所述水性堿性電鍍浴進(jìn)一步包含至少一種選自如下組的常規(guī)添加劑：光亮劑，例如高光澤光亮劑、堿性光亮劑及其混合物、水溶性聚合物、流平劑、水軟化劑、絡(luò)合劑、氰離子源及其混合物。根據(jù)另一實(shí)施方案，工藝步驟b)在10-40℃的溫度下進(jìn)行。根據(jù)又一實(shí)施方案，工藝步驟b)在0.05-15.0A/dm2的電流密度下進(jìn)行。根據(jù)一個(gè)實(shí)施方案，在金屬基材上形成的鋅或鋅合金涂層的厚度為2.0-30.0μm。在下文中，將更詳細(xì)地描述本發(fā)明方法的細(xì)節(jié)和優(yōu)選實(shí)施方案。應(yīng)理解的是，這些技術(shù)細(xì)節(jié)和實(shí)施方案也適用于可通過所述方法獲得的本發(fā)明的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材、本發(fā)明的用于將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的水性堿性電鍍浴及其用途。發(fā)明詳述根據(jù)本發(fā)明方法的步驟a)，提供一種水性堿性電鍍浴。術(shù)語“水性”堿性電鍍浴是指其中溶劑包含水，優(yōu)選由水組成的體系。然而，應(yīng)指出的是所述術(shù)語不排除溶劑包含少量選自包含甲醇、乙醇、丙酮、乙腈、四氫呋喃及其混合物的水混溶性有機(jī)溶劑。如果溶劑包含水混溶性有機(jī)溶劑，則所述水混溶性有機(jī)溶劑以基于溶劑總重量為0.01-10.0重量％，優(yōu)選0.01-7.5重量％，更優(yōu)選0.01-5.0重量％，最優(yōu)選0.01-2.5重量％的量存在。例如，所述水性堿性電鍍浴的溶劑由水組成。如果所述水性堿性電鍍浴的溶劑由水組成，則所用的水可為任何可獲得的水，例如自來水和/或去離子水，優(yōu)選去離子水。術(shù)語水性“堿性”電鍍浴是指pH>7的體系。例如，所述水性堿性電鍍浴的pH為12.0-14.0，更優(yōu)選為13.0-14.0。本發(fā)明方法的一個(gè)要求是所述水性堿性電鍍浴包含鋅離子源。應(yīng)理解的是，所述水性堿性電鍍浴可含有本領(lǐng)域技術(shù)人員已知適于作為水性堿性電鍍浴中的鋅離子源的鋅離子源。例如，鋅離子源選自鋅、氧化鋅、硫酸鋅、碳酸鋅、氨基磺酸鋅、乙酸鋅及其混合物。優(yōu)選地，鋅離子源為氧化鋅。氧化鋅以鋅酸鹽的形式存在于所述水性堿性電鍍浴中。所述水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含鋅離子源，從而使得所述浴中的鋅離子的量處于該類浴的常見范圍之內(nèi)。因此，鋅離子優(yōu)選以2.0-30.0g/L浴，優(yōu)選5.0-25.0g/L浴，最優(yōu)選5.0-20.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。用于本發(fā)明方法中的鋅離子源的相應(yīng)量通過適當(dāng)計(jì)算確定，從而獲得鋅離子的給定量。在一個(gè)實(shí)施方案中，除鋅離子源之外，所述水性堿性電鍍浴包含其他金屬離子源，從而借助本發(fā)明的方法在金屬基材上形成鋅合金涂層。應(yīng)理解的是，所述其他金屬離子源可為本領(lǐng)域技術(shù)人員已知適于作為水性堿性電鍍浴中的與鋅離子源組合的金屬離子源的任何金屬離子源。然而，所述其他金屬離子源優(yōu)選包括鎳、錳、鈷、鐵的離子及其混合物。優(yōu)選地，所述其他金屬離子源可為可溶于所述水性堿性電鍍浴中的任何金屬離子源。例如，所述金屬離子源選自硫酸鎳、氯化錳、硫酸鈷、硫酸鐵及其混合物。如果所述水性堿性電鍍浴包含其他金屬離子源，則所述浴可包含寬泛范圍的其他金屬離子源。例如，獲自其他金屬離子源的金屬離子以0.1-100.0g/L浴，優(yōu)選0.2-75.0g/L浴，最優(yōu)選0.5-50.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。因此，如果所述水性堿性電鍍浴包含其他金屬離子源，則所述浴優(yōu)選包含其量為2.0-30.0g/L浴，優(yōu)選5.0-25.0g/L浴，最優(yōu)選5.0-20.0g/L浴的鋅離子以及其量為0.1-100.0g/L浴，優(yōu)選0.2-75.0g/L浴，最優(yōu)選0.5-50.0g/L浴的獲自其他金屬離子源的金屬離子。為了達(dá)到金屬離子的給定量，通過適當(dāng)計(jì)算確定待用于本發(fā)明方法的其他金屬離子源的相應(yīng)量。應(yīng)理解的是，所述水性堿性電鍍浴充當(dāng)陰極電解液。陽極可為本領(lǐng)域技術(shù)人員已知適于將鋅或鋅涂層電解沉積至金屬基材上的方法中的任何陽極，例如不銹鋼或鉑涂覆的鈦陽極或可溶性鋅陽極，在所述方法中，在水性堿性電鍍浴中形成鋅或鋅合金涂層。如上所述，所述電鍍浴具有堿性pH。因此，本發(fā)明方法的另一要求是所述水性堿性電鍍浴包含氫氧根離子源。應(yīng)理解的是，所述水性堿性電鍍浴包含本領(lǐng)域技術(shù)人員已知適于將水性堿性電鍍浴的pH調(diào)節(jié)至所需的堿性pH的氫氧根離子源。例如，所述氫氧根離子源選自氫氧化鈉和/或氫氧化鉀，優(yōu)選氫氧化鈉。所述水性堿性電鍍浴包含其量足以為所述水性堿性電鍍浴提供所需的堿性pH的氫氧根離子源。優(yōu)選地，所述水性堿性電鍍浴包含其量使得該水性堿性電鍍浴具有>7，優(yōu)選12.0-14.0，最優(yōu)選13.0-14.0的pH的氫氧根離子源。例如，氫氧根離子優(yōu)選以50.0-250.0g/L浴，優(yōu)選50.0-200.0g/L浴，最優(yōu)選50.0-150.0g/L浴的量存在于所述水性堿性電鍍浴中。為了達(dá)到氫氧根離子的給定量，通過適當(dāng)計(jì)算確定待用于本發(fā)明方法中的氫氧根離子源的相應(yīng)量。所述水性堿性電鍍浴進(jìn)一步包含鍍鋅浴添加劑。所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C10烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值。所述鍍鋅浴添加劑改善了將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法，因?yàn)閮H形成少量泡沫或者不形成泡沫，且如果形成泡沫，則其可容易地由金屬基材沖洗掉。當(dāng)從所述水性堿性電鍍浴取出時(shí)，這還大大減少了附著至金屬基材上的鋅或鋅合金涂層的泡沫量，從而使得在本發(fā)明方法中涂覆基材表面上的泡沫痕跡的形成明顯減少。因此，出人意料地發(fā)現(xiàn)，在將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法中添加本發(fā)明鍍鋅浴添加劑導(dǎo)致了具有改善的光學(xué)外觀的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材。此外，所述鍍鋅浴添加劑具有如下優(yōu)點(diǎn)：其顯示出良好的潤濕性能，從而改善自金屬基材的氣泡釋放，由此導(dǎo)致具有較少由該氣泡造成的條帶或者無條帶的涂覆基材表面。另外，通過使用所述鍍鋅浴添加劑，鋅或鋅合金涂層在金屬基材上的粘合性是優(yōu)異的。因此，通過使用所述鍍鋅浴添加劑，光學(xué)性能得以改善，即較少或無泡沫痕跡和條帶，且在金屬基材上形成的所得鋅或鋅合金涂層的機(jī)械性能保持在高水平下或者甚至改善。術(shù)語“至少一種”鍍鋅浴添加劑意指所述鍍鋅浴添加劑包含一種或多種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由一種或多種鍍鋅浴添加劑組成。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述至少一種鍍鋅浴添加劑包含一種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由一種鍍鋅浴添加劑組成?；蛘撸鲋辽僖环N鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑組成。例如，所述至少一種鍍鋅浴添加劑包含兩種或三種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由兩種或三種鍍鋅浴添加劑組成。換言之，如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑組成，則所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含不同鍍鋅浴添加劑的混合物，優(yōu)選由不同鍍鋅浴添加劑的混合物組成。如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為不同鍍鋅浴添加劑的混合物，則所述混合物包含3-20種通式(I)的鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由3-20種通式(I)的鍍鋅浴添加劑組成。例如，通式(I)的鍍鋅浴添加劑的混合物包含5-15種通式(I)的鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由5-15種通式(I)的鍍鋅浴添加劑組成，或通式(I)的鍍鋅浴添加劑的混合物包含5-10種通式(I)的鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由5-10種通式(I)的鍍鋅浴添加劑組成。優(yōu)選地，所述至少一種鍍鋅浴添加劑包含一種鍍鋅浴添加，更優(yōu)選由一種鍍鋅浴添加劑組成。在通式(I)中，R為C4-C10烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C10烷基，優(yōu)選R為C4-C9烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C9烷基，更優(yōu)選R為C4-C8烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C8烷基，甚至更優(yōu)選R為C4-C7烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C7烷基，仍更優(yōu)選R為C4-C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C6烷基。例如，R為C4烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4烷基；或R為C5烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C5烷基；或R為C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C6烷基。最優(yōu)選地，R為C4烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4烷基，例如取代或未取代的直鏈C4烷基。本文中所用的術(shù)語“烷基”為飽和脂族基團(tuán)的基團(tuán)，包括直鏈烷基和支化烷基，其中該直鏈和支化烷基可各自任選被羥基取代。在一個(gè)實(shí)施方案中，R為未取代的直鏈C4-C10烷基，更優(yōu)選R為未取代的直鏈C4-C9烷基，甚至更優(yōu)選R為未取代的直鏈C4-C8烷基，仍更優(yōu)選R為未取代的直鏈C4-C7烷基，最優(yōu)選R為未取代的直鏈C4-C6烷基。例如，R為未取代的直鏈C4烷基或未取代的直鏈C5烷基或未取代的直鏈C6烷基。最優(yōu)選R為未取代的直鏈C4烷基?；蛘撸琑為未取代的支化C4-C10烷基，更優(yōu)選R為未取代的支化C4-C9烷基，甚至更優(yōu)選R為未取代的支化C4-C8烷基。例如，R為未取代的支化C5烷基，例如異戊基；R為未取代的支化C8烷基，例如2-乙基己基；或未取代的支化C10烷基，例如2-丙基庚基。在通式(I)中，G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖。例如，G1選自丁糖、戊糖和己糖。丁糖的實(shí)例為赤蘚糖、蘇糖和赤蘚酮糖。戊糖的實(shí)例為核酮糖、木酮糖、核糖、阿拉伯糖、木糖和來蘇糖。己糖的實(shí)例為半乳糖、甘露糖和葡萄糖。單糖可為合成的或者由天然產(chǎn)品衍生或分離，下文簡稱為天然糖或天然多糖，優(yōu)選為天然糖、天然多糖。更優(yōu)選為如下天然單糖：半乳糖、葡萄糖、阿拉伯糖、木糖及前述的混合物，甚至更優(yōu)選為葡萄糖、阿拉伯糖和木糖，特別為葡萄糖。單糖可選自其對映異構(gòu)體、天然存在的對映異構(gòu)體中的任一種，優(yōu)選天然存在的對映異構(gòu)體的混合物。當(dāng)然，在一個(gè)具體分子中僅可存在整數(shù)組G1。因此，如果通式(I)中G1為丁糖，則該丁糖可選自赤蘚糖，如D-赤蘚糖、L-赤蘚糖及其混合物，優(yōu)選D-赤蘚糖；蘇糖，例如D-蘇糖、L-蘇糖及其混合物，優(yōu)選D-蘇糖；和赤蘚酮糖，例如D-赤蘚酮糖、L-赤蘚酮糖及其混合物，優(yōu)選D-赤蘚酮糖。如果通式(I)中的G1為戊糖，則該戊糖可選自核酮糖，例如D-核酮糖、L-核酮糖及其混合物，優(yōu)選D-核酮糖；木酮糖，例如D-木酮糖、L-木酮糖及其混合物，優(yōu)選D-木酮糖；核糖，例如D-核糖、L-核糖及其混合物，優(yōu)選D-核糖；阿拉伯糖，例如D-阿拉伯糖、L-阿拉伯糖及其混合物，優(yōu)選L-阿拉伯糖；木糖，例如D-木糖、L-木糖及其混合物，優(yōu)選D-木糖；和來蘇糖，例如D-來蘇糖、L-來蘇糖及其混合物，優(yōu)選D-來蘇糖。如果通式(I)中的G1為己糖，則該己糖可選自半乳糖，例如D-半乳糖、L-半乳糖及其混合物，優(yōu)選D-半乳糖；甘露糖，例如D-甘露糖、L-甘露糖及其混合物，優(yōu)選D-甘露糖；和葡萄糖，例如D-葡萄糖、L-葡萄糖及其混合物，優(yōu)選D-葡萄糖。更優(yōu)選地，通式(I)中的G1為葡萄糖，優(yōu)選D-葡萄糖；半乳糖，優(yōu)選D-半乳糖；阿拉伯糖，優(yōu)選D-阿拉伯糖；木糖，優(yōu)選D-木糖；及前述的混合物，甚至更優(yōu)選通式(I)中的G1為葡萄糖，優(yōu)選D-葡萄糖；阿拉伯糖，優(yōu)選L-阿拉伯糖；和木糖，優(yōu)選D-木糖；特別為葡萄糖，優(yōu)選D-葡萄糖。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，G1選自具有6個(gè)碳原子的單糖，優(yōu)選葡萄糖，最優(yōu)選D-葡萄糖。在通式(I)中，x為1-4，優(yōu)選x為1-2，最優(yōu)選x為1-1.8。在一個(gè)實(shí)施方案中，x為1。就本發(fā)明而言，x是指平均值，且x不一定為整數(shù)。在一個(gè)具體分子中僅可存在整數(shù)組的G1。優(yōu)選通過高溫氣相色譜法(HTGC，例如400℃)根據(jù)K.Hill等，烷基Polyglycosids，VCHWeinheim，NewYork，Basel，Cambrigde，Tokyo，1997，特別是第28頁及隨后各頁而確定x。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C8烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值。在另一實(shí)施方案中，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C6烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值。例如，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C6烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值。或者，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C5烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值?；蛘撸鲥冧\浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4烷基；G1選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖；x為1-4且是指平均值。因此，優(yōu)選所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C8烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；x為1-2且是指平均值。優(yōu)選地，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C6烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；x為1-2且是指平均值。例如，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C6烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；x為1-2且是指平均值?；蛘撸鲥冧\浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C5烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；x為1-2且是指平均值?；蛘?，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4烷基；G1選自具有5或6個(gè)碳原子的單糖；x為1-2且是指平均值。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C6烷基；G1為葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖；x為1-1.8且是指平均值。例如，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C6烷基；G1為葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖；x為1-1.8且是指平均值。或者，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C5烷基；G1為葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖；x為1-1.8且是指平均值。更優(yōu)選地，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4烷基；G1為葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖；x為1-1.8且是指平均值。在另一實(shí)施方案中，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4-C6烷基；G1為葡萄糖；x為1-1.8且是指平均值。例如，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物，其中R為C6烷基；G1為葡萄糖；x為1-1.8且是指平均值?；蛘撸鲥冧\浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C5烷基；G1為葡萄糖；x為1-1.8且是指平均值。最優(yōu)選地，所述鍍鋅浴添加劑為至少一種通式(I)的化合物：其中R為C4烷基；G1為葡萄糖；x為1-1.8且是指平均值。如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑組成，則存在于所述水性堿性電鍍浴中的所述兩種或更多種鍍鋅浴添加劑在通式(I)中的基團(tuán)R、G1和x中的至少一個(gè)方面不同。即，基團(tuán)R、G1和/或x可彼此獨(dú)立地選擇。例如，如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑組成，則對于各鍍鋅浴添加劑R可獨(dú)立地選自C4-C10烷基，例如取代或未取代的直鏈或支C4-C10烷基；優(yōu)選C4-C9烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C9烷基；更優(yōu)選C4-C8烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C8烷基；甚至更優(yōu)選C4-C7烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C7烷基；仍更優(yōu)選C4-C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C6烷基；最優(yōu)選C4烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4烷基，或C5烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C5烷基，或C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C6烷基，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的G1和x相同?；蛘撸瑇可獨(dú)立地選自1-4，優(yōu)選1-2，最優(yōu)選1-1.8，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的R和G1相同?；蛘?，對于各鍍鋅浴添加劑，G1可獨(dú)立地選自具有4-6個(gè)碳原子的單糖，優(yōu)選具有5或6個(gè)碳原子的單糖，更優(yōu)選葡萄糖和/或木糖和/或阿拉伯糖，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的R和x相同。例如，如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選兩種鍍鋅浴添加劑)，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選兩種鍍鋅浴添加劑)組成，則對于一種鍍鋅浴添加劑G1為葡萄糖且對于另一鍍鋅浴添加劑G1為木糖，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的R和x相同?；蛘撸绻鲋辽僖环N通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選兩種鍍鋅浴添加劑)，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選兩種鍍鋅浴添加劑)組成，則對于一種鍍鋅浴添加劑G1為阿拉伯糖且對于另一鍍鋅浴添加劑G1為木糖，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的R和x相同?；蛘撸绻鲋辽僖环N通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選三種鍍鋅浴添加劑)，優(yōu)選由兩種或更多種鍍鋅浴添加劑(優(yōu)選三種鍍鋅浴添加劑)組成，則對于一種鍍鋅浴添加劑G1為葡萄糖且對于另一鍍鋅浴添加劑G1為木糖且對于另一鍍鋅浴添加劑G1為阿拉伯糖，同時(shí)對于各鍍鋅浴添加劑通式(I)中的R和x相同。單糖G1的有利混合物的其他實(shí)例描述于例如DE69504158T2和DE69712602T2的實(shí)施例部分中，其公開內(nèi)容通過引用并入本文中。具有人工制備單糖的單糖G1的有利混合物的實(shí)例也描述于例如DE69504158T2和DE69712602T2中，其公開內(nèi)容通過引用并入本文中。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為烷基糖苷。應(yīng)理解的是，術(shù)語“糖苷”是指上文所定義的通式(I)中的(G1)x。優(yōu)選地，術(shù)語“糖苷”是指其中x大于1的通式(I)中的(G1)x。因此，術(shù)語“糖苷”優(yōu)選是指為寡糖，更優(yōu)選二糖的(G1)x，其中所述至少兩個(gè)單糖G1選自木糖、葡萄糖、半乳糖和阿拉伯糖。例如，術(shù)語“糖苷”是指由木糖和葡萄糖，或木糖和半乳糖，或木糖和阿拉伯糖，或葡萄糖和半乳糖，或葡萄糖和阿拉伯糖，或半乳糖和阿拉伯糖，更優(yōu)選木糖和葡萄糖組成的二糖的(G1)x。例如，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為烷基糖苷，其中所述烷基為C4-C10烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C10烷基，優(yōu)選C4-C9烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C9烷基，更優(yōu)選C4-C8烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C8烷基，甚至更優(yōu)選C4-C7烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C7烷基，仍更優(yōu)選C4-C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C6烷基，最優(yōu)選C4烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4烷基，或C5烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C5烷基，或C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C6烷基。優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為選自己基糖苷、異戊基糖苷、丁基糖苷、2-乙基己基糖苷及其混合物的烷基糖苷。更優(yōu)選地，至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為選自異戊基糖苷、丁基糖苷及其混合物的烷基糖苷。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為不同鍍鋅浴添加劑的混合物，其中所述混合物優(yōu)選包含丁基葡糖苷和選自包含異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，更優(yōu)選由它們組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含丁基葡糖苷及異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成。或者，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含丁基木糖苷和選自異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含丁基木糖苷及異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘?，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含丁基木糖苷和選自丁基木糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含丁基糖苷及異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘撸煌冧\浴添加劑的混合物包含己基糖苷和選自丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含己基葡糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘?，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含己基木糖苷和選自包含丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含己基木糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘撸煌冧\浴添加劑的混合物包含己基糖苷和選自丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含己基糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘?，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基葡糖苷和選自丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基葡糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘?，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基木糖苷和選自丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基木糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木R苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成?；蛘?，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基糖苷和選自丁基葡糖苷、丁基木糖苷、丁基糖苷、異戊基葡糖苷、異戊基木糖苷、異戊基糖苷及其混合物的另一鍍鋅浴添加劑，優(yōu)選由其組成。例如，不同鍍鋅浴添加劑的混合物包含2-乙基己基糖苷及丁基葡糖苷或丁基木糖苷或丁基糖苷或異戊基葡糖苷或異戊基木糖苷或異戊基糖苷，優(yōu)選由其組成。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑選自烷基葡糖苷、烷基木糖苷及其混合物。例如，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為烷基葡糖苷和/或烷基木糖苷，其中烷基為C4-C10烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C10烷基，優(yōu)選C4-C9烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C9烷基，更優(yōu)選C4-C8烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C8烷基，甚至更優(yōu)選C4-C7烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C7烷基，仍更優(yōu)選C4-C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4-C6烷基，最優(yōu)選C4烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C4烷基，或C5烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C5烷基，或C6烷基，例如取代或未取代的直鏈或支化C6烷基。優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑優(yōu)選選自丁基糖苷、異戊基糖苷、2-乙基己基糖苷、2-丙基己基糖苷、異戊基木糖苷、己基糖苷、2-異丙基-5-甲基己醇糖苷、2-異丙基-5-甲基己醇木糖苷、C8-C10糖苷及其混合物。更優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑選自丁基糖苷、異戊基糖苷、2-乙基己基糖苷、2-丙基己基糖苷、己基糖苷及其混合物。甚至更優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑選自丁基糖苷、異戊基糖苷及其混合物。最優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為丁基糖苷。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑優(yōu)選選自丁基葡糖苷、異戊基葡糖苷、2-乙基己基葡糖苷、2-丙基己基葡糖苷、異戊基木糖苷、己基葡糖苷、2-異丙基-5-甲基己醇葡糖苷、2-異丙基-5-甲基己醇木糖苷、C8-C10葡糖苷及其混合物。更優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑選自丁基葡糖苷、異戊基葡糖苷、2-乙基己基葡糖苷、2-丙基己基葡糖苷、己基葡糖苷及其混合物。甚至更優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑選自丁基葡糖苷、己基葡糖苷及其混合物。最優(yōu)選地，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑為丁基葡糖苷。應(yīng)理解的是，通式(I)的化合物可以以α和/或/β構(gòu)象存在。例如，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑呈α或β構(gòu)象，優(yōu)選呈β構(gòu)象。或者，所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑呈α和β構(gòu)象。如果所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑呈α和β構(gòu)象，則所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑包含優(yōu)選比例(α/β)為10:1-1:10，更優(yōu)選5:1-1:10，甚至更優(yōu)選4:1-1:10，最優(yōu)選3:1-1:10的α和β構(gòu)象。應(yīng)理解的是，通式(I)的化合物是本領(lǐng)域所公知的，且可通過本領(lǐng)域技術(shù)人員公知的方法制備。在本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方案中，通式(I)的化合物以漂白形式或未漂白形式存在，優(yōu)選以漂白形式存在。所述水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含其量為0.1-10.0g/L浴，優(yōu)選0.1-7.5g/L浴，最優(yōu)選0.1-5.0g/L浴的所述至少一種通式(I)的鍍鋅浴添加劑。待用于本發(fā)明方法中的所述至少一種通式(I)鍍鋅浴添加劑的相應(yīng)量基于該至少一種通式(I)鍍鋅浴添加劑的活性量。所述水性堿性電鍍浴可進(jìn)一步包含至少一種選自如下組的常規(guī)添加劑：光亮劑、水溶性聚合物、流平劑、水軟化劑、絡(luò)合劑、氰離子源及其混合物。例如，所述水性堿性電鍍浴可包含已知的光亮劑，其可分為堿性光亮劑和高光澤光亮劑。有利的堿性光亮劑的實(shí)例為聚乙烯亞胺或其衍生物和/或表氯醇與雜環(huán)氮化合物(例如咪唑、1，2，4-三唑或其衍生物)的反應(yīng)產(chǎn)物，例如如美國專利4,166,778中所描述。優(yōu)選地，所述堿性光亮劑為表氯醇與雜環(huán)氮化合物(例如咪唑、1，2，4-三唑或其衍生物)的反應(yīng)產(chǎn)物，例如如美國專利4,166,778中所描述，其公開內(nèi)容通過引用并入本文。所述水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.1-15.0g/L浴，優(yōu)選1.0-10.0g/L浴的堿性光亮劑。一般而言，所述高光澤光亮劑包括選自多種類別的物質(zhì)，例如選自如下組的光亮劑：醛、酮、胺、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、硫化合物、多元胺或雜環(huán)氮化合物及其混合物，例如如美國專利6,652,728B1號和美國專利4,496,439以及WO2007/147603A2中所描述，其公開內(nèi)容通過引用并入本文。優(yōu)選地，所述高光澤光亮劑為煙酸芐基酯。所述水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.01-2.0g/L浴，優(yōu)選0.01-0.5g/L浴的高光澤光亮劑。額外或者替代地，所述水性堿性電鍍浴包含作為極化試劑的已知水溶性聚合物，例如陽離子聚合物、陰離子聚合物、兩性聚合物及其混合物，優(yōu)選陽離子聚合物。有利的極化試劑的實(shí)例為N，N′-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，ω-二鹵烷烴的反應(yīng)產(chǎn)物，例如如美國專利6,652,728B1所描述，其公開內(nèi)容通過引用并入本文。本發(fā)明的水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.1-15.0g/L浴，優(yōu)選1.0-10.0g/L浴的水溶性聚合物。額外或者替代地，所述水性堿性電鍍浴包含已知的流平劑，例如3-巰基-1，2，4-三唑和/或硫脲，優(yōu)選硫脲。本發(fā)明的水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.1-2.0g/L浴，優(yōu)選0.1-1.0g/L浴的流平劑。額外或者替代地，所述水性堿性電鍍浴包含已知的水軟化劑，例如EDTA、硅酸鈉、酒石酸及其混合物。本發(fā)明的水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.1-2.0g/L浴，優(yōu)選0.1-1.0g/L浴的水軟化劑。額外或者替代地，所述水性堿性電鍍浴包含已知的絡(luò)合劑，例如葡糖酸鈉、二乙醇胺、三乙醇胺、聚乙二胺、EDTA、氨基三(亞甲基膦酸)、山梨糖醇、蔗糖及其混合物。本發(fā)明的水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為0.1-100.0g/L浴，優(yōu)選0.1-50.0g/L浴的絡(luò)合劑。額外或者替代地，所述水性堿性電鍍浴包含已知的氰離子源，例如氰化鈉、氰化鉀及其混合物。本發(fā)明的水性堿性電鍍浴優(yōu)選包含總量為25.0-150.0g/L浴，優(yōu)選50.0-100.0g/L浴，最優(yōu)選約75g/L浴的氰離子源。根據(jù)本發(fā)明方法的步驟b)，將金屬基材置于所述水性堿性電鍍浴中，從而在金屬基材上形成鋅或鋅合金涂層。應(yīng)理解的是，本發(fā)明的水性堿性電鍍浴可用于所有種類的金屬基材?？捎玫慕饘倩牡膶?shí)例包括鋼、不銹鋼、鉻-鉬鋼、銅、銅-鋅合金、鑄鐵等。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述金屬基材選自鋼、不銹鋼、鉻-鉬鋼、銅、銅-鋅合金等。在另一實(shí)施方案中，所述金屬基材為鑄鐵。優(yōu)選地，在工藝步驟b)中在金屬基材上電解沉積鋅或鋅合金涂層從而在其上形成鋅或鋅合金涂層在10-40℃，優(yōu)選15-35℃，最優(yōu)選15-30℃，例如大致室溫的溫度下進(jìn)行。額外或者替代地，在工藝步驟b)中在金屬基材上電解沉積鋅或鋅合金涂層從而在其上形成鋅或鋅合金涂層在0.05-15.0A/dm2，優(yōu)選0.1-7.0A/dm2，最優(yōu)選0.1-5.0A/dm2的電流密度下進(jìn)行。在一個(gè)實(shí)施方案中，工藝步驟b)在10-40℃，優(yōu)選15-35℃，最優(yōu)選15-30℃，例如大致室溫的溫度下且在0.05-15.0A/dm2，優(yōu)選0.1-7.0A/dm2，最優(yōu)選0.1-5.0A/dm2的電流密度下進(jìn)行。通過本發(fā)明方法在金屬基材上形成的鋅或鋅合金涂層的厚度優(yōu)選為2.0-30.0μm，更優(yōu)選2.0-25.0μm，最優(yōu)選5.0-25.0μm。應(yīng)理解的是，通過本發(fā)明方法獲得的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有極好的光學(xué)和機(jī)械特性。例如，鋅或鋅合金涂覆的金屬基材表面在低光學(xué)劣化量(例如在本發(fā)明方法期間在鋅或鋅合金涂覆的金屬基材上產(chǎn)生的條帶和/或泡沫痕跡)下具有高光澤度。在一個(gè)實(shí)施方案中，通過本發(fā)明方法獲得的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有高光澤度且不具有光學(xué)劣化，例如在鋅或鋅合金涂覆的金屬基材上產(chǎn)生的條帶和/或泡沫痕跡。此外，鋅或鋅合金涂覆的金屬基材提供了鋅或鋅合金涂層對金屬基材的優(yōu)異粘合性。因此，通過本發(fā)明方法獲得的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有在金屬基材的鋅或鋅合金涂層上具有改善的光學(xué)外觀和/或粘合性。鑒于所獲得的優(yōu)點(diǎn)，本發(fā)明因此進(jìn)一步涉及具有由不等式(I)定義的光澤度的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材：(GU使用)/(GU不使用)≥1.05(I)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。優(yōu)選地，所述鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有由不等式(Ia)定義的光澤度：(GU使用)/(GU不使用)≥1.1(Ia)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。更優(yōu)選地，所述鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有由不等式(Ib)定義的光澤度：(GU使用)/(GU不使用)≥1.3(Ib)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。優(yōu)選地，所述鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有由不等式(Ic)定義的光澤度：(GU使用)/(GU不使用)≥1.5(Ic)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。例如，所述鋅或鋅合金涂覆的金屬基材具有由不等式(Id)定義的光澤度：2.0≤(GU使用h)/(GU不使用)≥1.5(Id)其中：(GU不使用)為在不使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位，(GU使用)為在通過使用如本文所定義的所述至少一種通式(I)的化合物涂覆的金屬基材上測定且在85°測量角下借助光澤度計(jì)測得的光澤度單位。應(yīng)理解的是，光澤度單位使用德國BYKGardner的光澤度計(jì)Micro-Tri-Gloss測量，且為10個(gè)測量值的平均值。在一個(gè)實(shí)施方案中，所述鋅或鋅合金涂覆的金屬基材可通過如本文所定義的將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法獲得。本發(fā)明進(jìn)一步涉及一種可通過本發(fā)明方法獲得的鋅或鋅合金涂覆的金屬基材。此外，本發(fā)明涉及一種如本文所定義的用于將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的水性堿性電鍍浴。此外，本發(fā)明涉及如本文所定義的鍍鋅浴添加劑在將鋅或鋅合金涂層電解沉積至金屬基材上的方法中的用途。此外，本發(fā)明涉及如本文所定義的鍍鋅浴添加劑用于改善金屬基材上的鋅或鋅合金涂層的光學(xué)外觀和/或粘合性的用途。所述金屬基材優(yōu)選選自鋼、不銹鋼、鉻-鉬鋼、銅、銅-鋅合金等。本發(fā)明還涉及一種如本文所定義的用于將鋅或鋅合金涂層電解沉積至鑄鐵基材上的水性堿性電鍍浴。此外，本發(fā)明涉及如本文所定義的鍍鋅浴添加劑在將鋅或鋅合金涂層電解沉積至鑄鐵基材上的方法中的用途。此外，本發(fā)明涉及如本文所定義的鍍鋅浴添加劑用于改善鑄鐵基材上的鋅或鋅合金涂層的光學(xué)外觀和/或粘合性的用途?；谝庥U述本發(fā)明的某些實(shí)施方案且為非限制性的下文實(shí)施例，將更好地理解本發(fā)明的范圍和重要性。實(shí)施例實(shí)施例1在水性堿性電鍍浴中證實(shí)本發(fā)明鍍鋅浴添加劑關(guān)于泡沫形成的性能，為此制備如下表1中所述的電解質(zhì)組合物。表1：水性堿性電鍍浴的電解質(zhì)組合物成分基于浴的量氧化鋅14.94g/L氫氧化鈉130.0g/L碳酸鈉40.0g/L向表1的電解質(zhì)組合物中添加如下表2中所述的其他添加劑。表2：水性堿性電鍍浴的其他添加劑其他添加劑#基于浴的量*極化試劑4.8g/L堿性光亮劑4.4g/L高光澤光亮劑50.0mg/L#：極化試劑為市售的N，N′-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，ω--二鹵烷烴的陽離子反應(yīng)產(chǎn)物，活性物含量為～62重量％；堿性光亮劑為市售的咪唑與表氯醇的共聚物，活性物含量為～45重量％；且高光澤光亮劑為市售的煙酸芐基酯，活性物含量為～48重量％。*：成分的量基于活性物質(zhì)的量。向由表1和2中所述的成分和其他添加劑獲得的水性堿性電鍍浴中添加其量基于活性物質(zhì)為1.0g/L浴的如下表3中所述的鍍鋅浴添加劑。標(biāo)記為(+)的實(shí)施例用于對比。根據(jù)DIN50957，在霍爾槽(hullcell)中實(shí)施鋅涂層在基材上的電沉積。將各浴添加至250mL霍爾槽中，將鋼板在其中在1A下電鍍30分鐘。鋼板(根據(jù)EN10027-2的鋼號1.0330)的尺寸為70×100×0.3mm。在將鋼板置于霍爾槽中之前，通過使用鹽酸(15％)酸清潔該板，將其電解除油并用水沖洗。使用不銹鋼陽極作為陽極。該浴在室溫(約20℃±1℃)下運(yùn)行。下表3中概述了在該工藝期間獲得的鋅涂覆的金屬基材的光學(xué)外觀和泡沫產(chǎn)生。表3：鍍鋅浴添加劑、獲得鋅涂覆的基材的光學(xué)外觀和泡沫產(chǎn)生從表3可知，與不使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材相比，通過使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材顯示出改善的光學(xué)特性。實(shí)施例2在水性堿性電鍍浴中測定本發(fā)明鍍鋅浴添加劑關(guān)于涂覆基材光澤度的性能，為此制備如下表4中所述的電解質(zhì)/添加劑組合物。表4：水性堿性電鍍浴的電解質(zhì)組合物#1：極化試劑為市售的N，N′-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，ω-二鹵烷烴的陽離子反應(yīng)產(chǎn)物，活性物含量為～62重量％；#2：堿性光亮劑為市售的咪唑與表氯醇的共聚物，活性物含量為～45重量％；#3：高光澤光亮劑為市售的煙酸芐基酯，活性物含量為～48重量％。根據(jù)DIN50957，在霍爾槽中進(jìn)行鋅涂層在基材上的電沉積。將浴添加至250mL的霍爾槽中，將鋼板在其中在1A下電鍍40分鐘。鋼板(根據(jù)EN10027-2的鋼號1.03303)的尺寸為70×100×0.3mm。在將鋼板置于霍爾槽中之前，通過使用鹽酸(15％)酸清潔該板，將其電解除油并用水沖洗。使用不銹鋼陽極作為陽極。該浴在室溫(約20℃±1℃)下運(yùn)行。下表5中概述了獲得的鋅涂覆的金屬基材和在不存在丁基葡糖苷下涂覆的參比樣品的光學(xué)外觀。此外，下表5中也概述了通過使用德國BYKGardner的光澤度計(jì)Micro-Tri-Gloss(序列號：9014327)在85°測量角下測得的涂覆有本發(fā)明鍍鋅浴添加劑的金屬基材以及參比樣品(即，在不存在本申請鍍鋅浴添加劑下涂覆的金屬基材)的光澤度單位。根據(jù)光澤度計(jì)Micro-Tri-Gloss的操作說明手冊進(jìn)行設(shè)定。光澤度單位值為10個(gè)測量值的平均值。光澤度單位的標(biāo)準(zhǔn)偏差為±2GU(GU＝光澤度單位)。表5：光學(xué)外觀從表5可知，與不使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材相比，通過使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材顯示出改善的光澤度。實(shí)施例3在水性堿性電鍍浴中證實(shí)通過水泡形成測得的本發(fā)明鍍鋅浴添加劑關(guān)于涂層粘合性的性能，為此制備如下表6中所述的電解質(zhì)組合物。表6：水性堿性電鍍浴的電解質(zhì)組合物成分基于浴的量氧化鋅14.94g/L氫氧化鈉130.0g/L碳酸鈉40.0g/L向表6的電解質(zhì)組合物中添加如下表7中所述的其他添加劑。表7：水性堿性電鍍浴的其他添加劑其他添加劑#基于浴的量*極化試劑3.0g/L堿性光亮劑1.1g/L高光澤光亮劑50.0mg/L#：極化試劑為市售的N，N’-雙[3-(二烷基氨基)烷基]脲與1，ω-二鹵烷烴的陽離子反應(yīng)產(chǎn)物，活性物含量為～62重量％；堿性光亮劑為市售的咪唑與表氯醇的共聚物，活性物含量為～45重量％；高光澤光亮劑為市售的煙酸芐基酯鹽，性物含量為～48重量％。*：成分的量基于活性物質(zhì)的量。向由表6和7中所述的成分和其他添加劑獲得的水性堿性電鍍浴添加其量基于活性物質(zhì)為1.0g/L浴的如下表8中所述的鍍鋅浴添加劑。標(biāo)記為(+)的實(shí)施例用于對比。將各浴添加至平行槽中，在其中將穿孔鋼板在1A/dm2的電流下電鍍兩側(cè)50分鐘，在0.5A/dm2下電鍍75分鐘，或者在3A/dm2下電鍍25分鐘。使用可溶性鋅陽極作為陽極。該浴在室溫(約20℃±1℃)下運(yùn)行。鋼板(根據(jù)EN10027-2的鋼號1.0330)的尺寸為70×100×0.3mm。在相同條件下對各鍍鋅浴添加劑進(jìn)行三次測試。在將鋼板置于平行槽中之前，通過使用鹽酸(15％)酸清潔各鋼板，并用水沖洗。隨后，通過使用如表8中所述的除油水溶液對各鋼板進(jìn)行堿性除油。在堿性除油后，用水沖洗各鋼板，干燥直至水分不再可見，并稱量。表8：除油溶液的組成#1為螯合劑乙二胺四乙酸的四鈉鹽，由德國BASF市售。#2為非離子表面活性劑，由德國BASF市售。通過溶解制備除油水溶液，且在蒸餾水中混合單一成分，從而獲得澄清的溶液。在涂覆后，用水沖洗鋼板，干燥直至水分不再可見并稱量。隨后，將鋼板包覆于箔中，在室溫(約20℃±1℃)下儲存3個(gè)月。隨后，就凹點(diǎn)和起泡形成而言評估鋼板表面。為此，將寬度為至少50mm且粘合強(qiáng)度為6-10N/25mm寬度的壓敏膠帶粘附在各涂覆鋼板的表面上。將膠帶手動(dòng)均勻按壓在鋼板表面上(均勻粘合可通過透過膠帶的鋼板表面顏色控制)，隨后快速從表面移除膠帶。在0.5-1秒內(nèi)以約60°的角度通過從鋼板表面移除膠帶而實(shí)施膠帶移除。在將其施加至鋼板表面后，在5分鐘內(nèi)移除膠帶。所述測試在約23℃±2℃的溫度和50％±5％的濕度下進(jìn)行。在良好照明下，用裸眼評估鋼板表面的所有側(cè)邊。下表9中概括了通過觀察所得鋅涂覆基材上的凹點(diǎn)和起泡形成而測得的涂層粘合性。表9：鍍鋅浴添加劑和所得鋅涂覆基材的涂層粘合性測試鍍鋅浴添加劑3個(gè)月后的涂層粘合性1(+)--形成凹點(diǎn)2丁基葡糖苷無起泡，良好粘合性32-乙基己基葡糖苷無起泡，良好粘合性4異戊基木糖苷無起泡，良好粘合性5正丁基-葡糖苷-木糖苷無起泡，良好粘合性從表9可知，與不使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材相比，通過使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材在凹點(diǎn)和起泡形成方面顯示出改善的性能。因此，可得出結(jié)論：與不使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材相比，通過使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的金屬基材具有改善的涂層粘合性。實(shí)施例4在水性堿性電鍍浴中測定本發(fā)明鍍鋅浴添加劑關(guān)于涂覆鑄鐵的光澤度的性能，為此制備如下表10中所述的該水性堿性電鍍浴的電解質(zhì)組合物。表10：水性堿性電鍍浴的電解質(zhì)組合物成分基于浴的量氧化鋅9.34g/L氫氧化鈉97.0g/L碳酸鈉35.0g/L高光澤光亮劑#150.0mg/L丁基葡糖苷2.0g/L#1：高光澤光亮劑為市售的煙酸芐基酯，其具有～48重量％的活性物含量。根據(jù)DIN50957，在霍爾槽中實(shí)施鋅涂層在鑄鐵上的電沉積。將浴添加至250mL霍爾槽中，將鋼板在其中在3A下電鍍60分鐘。鑄鐵板獲自ASTMA536的鑄鐵等級，且尺寸為48×102×4.5mm。在將鑄鐵板置于霍爾槽中之前，通過使用鹽酸(15％)酸清潔該板，將其電解除油并用水沖洗。使用不銹鋼陽極作為陽極。該浴在室溫(約20℃±1℃)下運(yùn)行。下表11中概述了通過使用德國BYKGardner的光澤度計(jì)Micro-Tri-Gloss(序列號：9014327)在60°和85°測量角下測得的涂覆有本發(fā)明鍍鋅浴添加劑的金屬基材以及參比樣品(即，在不存在本申請鍍鋅浴添加劑下涂覆的金屬基材)的光澤度單位。根據(jù)光澤度計(jì)Micro-Tri-Gloss的操作說明手冊進(jìn)行設(shè)定。光澤度單位值為10個(gè)測量值的平均值。光澤度單位的標(biāo)準(zhǔn)偏差為±2GU(GU＝光澤度單位)。表11：光學(xué)外觀從表11可知，與不使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂布的鑄鐵基材相比，通過使用本發(fā)明鍍鋅浴添加劑制備的鋅涂覆的鑄鐵基材顯示出改善的光澤度。當(dāng)前第1頁1 2 3