1.一種用于一電鍍槽的一高電阻虛擬陽極，其特征在于，包含：
一第一層，包含多個第一孔洞穿透該第一層；以及
一第二層，位于該第一層上，并且包含多個第二孔洞穿透該第二層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電阻虛擬陽極，其特征在于，所述多個第一孔洞的其中一者設(shè)置用以部分或完全重疊所述多個第二孔洞的其中一者，并且該第一層包含一可旋轉(zhuǎn)中央部分及一可旋轉(zhuǎn)周邊部分圍繞該可旋轉(zhuǎn)中央部分，且所述多個第一孔洞的一第一部分穿透該第一層的該可旋轉(zhuǎn)中央部分，所述多個第一孔洞的一第二部分穿透該第一層的該可旋轉(zhuǎn)周邊部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高電阻虛擬陽極，其特征在于，該可旋轉(zhuǎn)周邊部分包含多個可旋轉(zhuǎn)環(huán)形部分共軸圍繞該可旋轉(zhuǎn)中央部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高電阻虛擬陽極，其特征在于，所述多個第一孔洞的該第一部分的其中一者具有一最大深度小于所述多個第一孔洞的該第二部分的其中一者的一最大深度。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的高電阻虛擬陽極，其特征在于，該可旋轉(zhuǎn)中央部分具有一開口率高于該可旋轉(zhuǎn)周邊部分的一開口率。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的高電阻虛擬陽極，其特征在于，該第一層與該第二層的其中一者的中央具有一厚度小于該第一層與該第二層的該者的周邊的一厚度，并且該第一層與該第二層的該者的一厚度自該中央往該周邊逐漸增加。
7.一種用以處理一基板的一表面的一電鍍槽，其特征在于，包含：
一基板支架，用以支撐該基板；
一電鍍浴；
一陽極，位于該電鍍浴內(nèi)；以及
一高電阻虛擬陽極，位于該基板的該表面與該陽極之間，該高電阻虛擬陽極包含：一第一層，包含多個第一孔洞穿透該第一層；以及一第二層，位于該第一層上，并且包含多個第二孔洞穿透該第二層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的電鍍槽，其特征在于，該第一層具有一平坦面及一弧面相對設(shè)置，且該第一層的該弧面面對該陽極，該第一層的該平坦面面對該第二層。
9.一種處理一基板的一表面的方法，其特征在于，包含：
接收一電鍍槽，該電鍍槽包含：一基板支架，用以支撐該基板；一電鍍浴；一陽極，位于該電鍍浴內(nèi)；以及一高電阻虛擬陽極，位于該電鍍浴內(nèi)，該高電阻虛擬陽極包含：一第一層，包含多個第一孔洞穿透該第一層，其中該第一層包含一可旋轉(zhuǎn)中央部分及一可旋轉(zhuǎn)周邊部分圍繞該可旋轉(zhuǎn)中央部分；以及一第二層，位于該第一層上，并且包含多個第二孔洞穿透該第二層；
旋轉(zhuǎn)該可旋轉(zhuǎn)中央部分及該可旋轉(zhuǎn)周邊部分的至少其中一者；
安裝該基板至該基板支架內(nèi)；
放置該基板支架及該基板至該電鍍浴內(nèi)，以使該高電阻虛擬陽極位于該基板的該表面與該陽極之間；以及
產(chǎn)生位于該基板與該陽極之間且穿過該高電阻虛擬陽極的一電流通量，以形塑該電流通量，并形成一電鍍層于該基板的該表面上。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，穿透該高電阻虛擬陽極的中央的該電流通量的一百分比高于穿透該高電阻虛擬陽極的周邊的該電流通量的一百分比，并且旋轉(zhuǎn)該可旋轉(zhuǎn)中央部分及該可旋轉(zhuǎn)周邊部分的該至少其中一者是由一可編程序控制器進行。