1.一種滾鍍槽錫鋅合金電鍍裝置，包括電鍍槽、滾桶，其特征在于：還包括至少兩個電源整流器、及分別與電源整流器的正極相電連的陽極組件、與所述電源整流器的負(fù)極相電連的陰極工件；所述陽極組件和陰極工件相對設(shè)置于電鍍槽內(nèi)；所述陽極組件包括至少一組可溶性陽極、至少一組不溶性陽極；所述可溶性陽極選自錫板、錫鋅板中的一種或兩種。
2.如權(quán)利要求1所述的一種滾鍍槽錫鋅合金電鍍裝置，其特征在于：所述不溶性陽極選自石墨陽極、碳基陽極、鈦陽極、鍍鉑鈦陽極、陶瓷涂覆陽極中的一種或兩種以上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的一種滾鍍槽錫鋅合金電鍍裝置，其特征在于：還包括至少兩組導(dǎo)電桿，所述導(dǎo)電桿與陰極工件呈平行相對設(shè)置，且與電源整流器的正極相電連，所述可溶性陽極和不溶性陽極分別懸掛于靠近陰極工件的內(nèi)側(cè)導(dǎo)電桿和外側(cè)導(dǎo)電桿上。
4.如權(quán)利要求3所述的一種滾鍍槽錫鋅合金電鍍裝置，其特征在于：還包括導(dǎo)電頭，所述導(dǎo)電頭一端與陰極工件電連，另一端與電源整流器的負(fù)極電連。
5.一種使用如權(quán)利要求1‐4任一項所述的一種滾鍍槽錫鋅合金電鍍裝置進(jìn)行的錫鋅合金電鍍工藝，其特征在于：對工件進(jìn)行預(yù)處理之后，使用下述條件下的鍍浴實施電鍍處理:
pH：6.2‐7.0；
二價錫：0.8‐3.5g/L；
二價鋅：15‐36g/L；
可溶性陽極電流：100‐250A；
不溶性陽極電流：10‐150A；
陰極電流密度為0.5‐2.0A/dm2；
鍍浴溫度為18‐30℃。