本發(fā)明涉及氯金酸制備，具體為氯金酸的電解法制備裝置。

背景技術(shù)：

1、氯金酸作為鍍金及納米金制備工藝中一種十分重要的原料，在電子、裝飾及原子能等領(lǐng)域的需求量逐年增加。

2、電解法是一種制備氯金酸的常用方法，該方法中，氯在常溫下采用離子膜電解法制備氯金酸，利用h2o2的輔助氧化作用，期望提高氯金酸的電解速率。對電解液cl–濃度、電解液ph、h2o2含量調(diào)整優(yōu)化，得到最佳工藝條件。

3、但是，現(xiàn)有的制備裝置在槽內(nèi)電壓升至1.30v時，au陽電極的表面會發(fā)生鈍化，此時需取出陽電極對其進行洗刷或抑制處理，影響了電解制備效率，為此，我們提供氯金酸的電解法制備裝置。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、技術(shù)問題：針對現(xiàn)有的制備裝置在槽內(nèi)電壓升至1.30v時，au陽電極的表面會發(fā)生鈍化，此時需取出陽電極對其進行洗刷或抑制處理，影響了電解制備效率的問題，本發(fā)明提出氯金酸的電解法制備裝置。

2、技術(shù)方案：氯金酸的電解法制備裝置，包括制備池，制備池前端下方的兩側(cè)均設(shè)有排液管，所述制備池內(nèi)部的中間位置處設(shè)置有中心隔板，中心隔板的內(nèi)部設(shè)置有法蘭板框，法蘭板框的內(nèi)部設(shè)置有陰離子交換膜，所述陰離子交換膜的一側(cè)設(shè)置有參比電極，所述參比電極的一側(cè)設(shè)置有陽極板，所述陰離子交換膜的另一側(cè)設(shè)置有陰極板，所述陽極板和陰極板的上方均設(shè)有連接架，所述連接架的上端安裝有支撐桿，支撐桿的兩端均通過支架與制備池連接，所述陽極板上方還設(shè)有鈍化清理機構(gòu)；

3、其中，所述鈍化清理機構(gòu)包括設(shè)于陽極板上方的支撐桿的頂端的傳動座，所述傳動座下端的兩側(cè)均設(shè)置有對接頭，所述對接頭的下端安裝有連接頭，所述連接頭的下端安裝有毛刷輥，所述傳動座的上端安裝有異步電機，所述傳動座的一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)軌，所述傳動座通過主動滑塊與導(dǎo)軌傳動連接，所述導(dǎo)軌的一端安裝有伺服電機，所述陽極板的支撐桿兩側(cè)均設(shè)置有噴淋管，所述噴淋管的下端設(shè)置有若干支管，且若干支管等距部分，兩側(cè)所述噴淋管的前端通過u型三通管相連通。

4、進一步的，所述導(dǎo)軌的內(nèi)部安裝有絲桿，且絲桿與主動滑塊傳動連接，所述伺服電機的輸出端貫穿并延伸至導(dǎo)軌的內(nèi)部，且與絲桿傳動連接。

5、進一步的，所述傳動座的另一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)柱，所述導(dǎo)柱的兩端均通過支座與制備池固定連接，所述傳動座通過從動滑塊與導(dǎo)柱滑動連接。

6、進一步的，所述從動滑塊與導(dǎo)柱的連接處安裝有第一軸承。

7、進一步的，所述對接頭的內(nèi)部設(shè)置有對接槽，所述對接頭的兩側(cè)設(shè)置有限位孔，且限位孔與對接頭相連通，所述連接頭兩側(cè)的內(nèi)部均設(shè)置有收縮槽，所述收縮槽的內(nèi)部安裝有彈簧，所述彈簧的端部安裝有卡塊，所述連接頭通過卡塊與對接頭上的限位孔卡接連接。

8、進一步的，所述對接頭的上端貫穿并延伸至傳動座的內(nèi)部，且安裝有從動齒輪，所述異步電機的輸出端貫穿并延伸至傳動座的內(nèi)部，且安裝有主動齒輪，所述異步電機的輸出端通過主動齒輪與從動齒輪嚙合傳動連接，所述對接頭與傳動座的連接處安裝有第二軸承。

9、進一步的，所述支管的內(nèi)側(cè)安裝有若干噴嘴，且若干噴嘴等距分布，所述噴嘴向下傾斜設(shè)置。

10、進一步的，所述陽極板為au，陰極板為石墨，參比電極為飽和甘汞電極。

11、進一步的，所述支撐桿的兩端與支架的連接處安裝有緊固件。

12、進一步的，所述法蘭板框的四角通過螺栓與中心隔板法蘭連接。

13、有益效果：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的顯著特點為：

14、1、本發(fā)明在電解過程中，au陽極板的表面即將鈍化時，可由u型三通管外接泵送裝置，將鹽酸沿u型三通管泵入噴淋管，由噴淋管下方的若干支管噴嘴，將鹽酸液噴淋至au陽極板上，因陽極板鈍化主要形成物為三價晶氧化物，其易溶于鹽酸，在鹽酸的噴淋作用下氧化溶解于制備池中，產(chǎn)生氫離子并與電解液中的氯離子結(jié)合，形成氯化氫，促進生成的同時，對電解液起到了補充的效果。

15、2、本發(fā)明在對au陽極板進行噴淋除鈍處理時，可驅(qū)動伺服電機運行，帶動絲桿旋轉(zhuǎn)，與主動滑塊傳動，使傳動座沿導(dǎo)軌方向移動，移動的過程中，傳動座上方的異步電機驅(qū)動，帶動主動齒輪旋轉(zhuǎn)與兩側(cè)的從動齒輪嚙合傳動，使兩組毛刷輥旋轉(zhuǎn)，配合移動對陽極板兩側(cè)進行刷洗處理，進一步抑制au陽極板鈍化，整個刷洗過程可在制備池中直接進行，無需拆卸取出au陽極板，解決了現(xiàn)有的制備裝置在槽內(nèi)電壓升至1.30v時，au陽電極的表面會發(fā)生鈍化，此時需取出陽電極對其進行洗刷或抑制處理，影響電解制備效率的問題。

技術(shù)特征：

1.氯金酸的電解法制備裝置，包括制備池(1)，制備池(1)前端下方的兩側(cè)均設(shè)有排液管(2)，其特征在于：所述制備池(1)內(nèi)部的中間位置處設(shè)置有中心隔板(3)，中心隔板(3)的內(nèi)部設(shè)置有法蘭板框(4)，法蘭板框(4)的內(nèi)部設(shè)置有陰離子交換膜(5)，所述陰離子交換膜(5)的一側(cè)設(shè)置有參比電極(7)，所述參比電極(7)的一側(cè)設(shè)置有陽極板(8)，所述陰離子交換膜(5)的另一側(cè)設(shè)置有陰極板(9)，所述陽極板(8)和陰極板(9)的上方均設(shè)有連接架(10)，所述連接架(10)的上端安裝有支撐桿(11)，支撐桿(11)的兩端均通過支架(12)與制備池(1)連接，所述陽極板(8)上方還設(shè)有鈍化清理機構(gòu)；

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述導(dǎo)軌(16)的內(nèi)部安裝有絲桿(26)，且絲桿(26)與主動滑塊(27)傳動連接，所述伺服電機(17)的輸出端貫穿并延伸至導(dǎo)軌(16)的內(nèi)部，且與絲桿(26)傳動連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述傳動座(14)的另一側(cè)設(shè)置有導(dǎo)柱(18)，所述導(dǎo)柱(18)的兩端均通過支座(19)與制備池(1)固定連接，所述傳動座(14)通過從動滑塊(20)與導(dǎo)柱(18)滑動連接。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述從動滑塊(20)與導(dǎo)柱(18)的連接處安裝有第一軸承(21)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述對接頭(30)的內(nèi)部設(shè)置有對接槽(36)，所述對接頭(30)的兩側(cè)設(shè)置有限位孔(34)，且限位孔(34)與對接頭(30)相連通，所述連接頭(29)兩側(cè)的內(nèi)部均設(shè)置有收縮槽(37)，所述收縮槽(37)的內(nèi)部安裝有彈簧(38)，所述彈簧(38)的端部安裝有卡塊(35)，所述連接頭(29)通過卡塊(35)與對接頭(30)上的限位孔(34)卡接連接。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述對接頭(30)的上端貫穿并延伸至傳動座(14)的內(nèi)部，且安裝有從動齒輪(32)，所述異步電機(15)的輸出端貫穿并延伸至傳動座(14)的內(nèi)部，且安裝有主動齒輪(31)，所述異步電機(15)的輸出端通過主動齒輪(31)與從動齒輪(32)嚙合傳動連接，所述對接頭(30)與傳動座(14)的連接處安裝有第二軸承(33)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述支管(23)的內(nèi)側(cè)安裝有若干噴嘴(24)，且若干噴嘴(24)等距分布，所述噴嘴(24)向下傾斜設(shè)置。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述陽極板(8)為au，陰極板(9)為石墨，參比電極(7)為飽和甘汞電極。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述支撐桿(11)的兩端與支架(12)的連接處安裝有緊固件(13)。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的氯金酸的電解法制備裝置，其特征在于：所述法蘭板框(4)的四角通過螺栓(6)與中心隔板(3)法蘭連接。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了氯金酸的電解法制備裝置，具體涉及氯金酸制備技術(shù)領(lǐng)域。該氯金酸的電解法制備裝置，包括制備池，制備池前端下方的兩側(cè)均設(shè)有排液管，所述制備池內(nèi)部的中間位置處設(shè)置有中心隔板，中心隔板的內(nèi)部設(shè)置有法蘭板框，法蘭板框的內(nèi)部設(shè)置有陰離子交換膜，所述陰離子交換膜的一側(cè)設(shè)置有參比電極，所述參比電極的一側(cè)設(shè)置有陽極板，所述陰離子交換膜的另一側(cè)設(shè)置有陰極板，所述陽極板和陰極板的上方均設(shè)有連接架，所述陽極板上方還設(shè)有鈍化清理機構(gòu)。通過鈍化清理機構(gòu)解決了現(xiàn)有的制備裝置在槽內(nèi)電壓升至1.30V時，Au陽電極的表面會發(fā)生鈍化，需取出陽電極對其進行洗刷或抑制處理，影響電解制備效率的問題。

技術(shù)研發(fā)人員：王永旗,孫鑫,王偉,呂明
受保護的技術(shù)使用者：太倉滬試試劑有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/1/2