本申請涉及電鍍，特別涉及一種電鍍設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、硅片暴露在空氣中時，會與空氣中的氧氣反應(yīng)形成氧化層。自然氧化層的形成是一個動態(tài)過程，隨著氧化的進(jìn)行，氧化層會逐漸增厚，但由于氧化過程中氧分子的擴(kuò)散速率會逐漸減小，所以最終會達(dá)到一種平衡狀態(tài)，形成一層固定厚度的氧化層。

2、在電鍍過程中，硅片的自然氧化層在金屬沉積過程中可能會影響相應(yīng)工藝穩(wěn)定性。金屬沉積是將金屬層沉積在硅片表面的過程，如果在金屬沉積之前未去除自然氧化層，金屬將沉積在氧化硅層上，而不是直接在硅片上，這可能會導(dǎo)致金屬與硅之間的接觸不良，影響電鍍效果及電鍍效率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本申請的目的在于提供一種電鍍設(shè)備，利用振動發(fā)生器，使得預(yù)處理槽中的處理液能進(jìn)入柵線槽內(nèi)去除氧化層及其他層狀結(jié)構(gòu)，電鍍槽中的電鍍液及金屬離子能進(jìn)入柵線槽內(nèi)，提高鍍層的均勻性，從而改善電鍍設(shè)備的電鍍效果和提高電鍍設(shè)備的電鍍效率。

2、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請?zhí)峁┮环N電鍍設(shè)備，包括：電鍍槽，用于對待電鍍件進(jìn)行電鍍；預(yù)處理槽，用于對待電鍍件進(jìn)行預(yù)處理；陽極件，設(shè)置于所述電鍍槽中；電鍍電源，電鍍電源的正極連接陽極件；振動發(fā)生器，設(shè)置于所述預(yù)處理槽中，或所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽中；輸送機(jī)構(gòu)，用于沿輸送路徑輸送所述待電鍍件，所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽沿輸送路徑依次設(shè)置；工作狀態(tài)下，所述電鍍槽中盛載有電鍍液，所述陽極件位于所述電鍍液中，所述預(yù)處理槽中盛載有處理液，待電鍍件的待鍍區(qū)域依次浸沒于所述處理液中和所述電鍍液中，當(dāng)待電鍍件位于所述電鍍槽中，所述電鍍電源的負(fù)極連接待電鍍件。

3、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述振動發(fā)生器為超聲波發(fā)生器或振動棒。

4、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽采用以下任一結(jié)構(gòu)：(1)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器和位于所述電鍍槽中的所述振動發(fā)生器均為超聲波發(fā)生器；(2)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器和位于所述電鍍槽中的所述振動發(fā)生器均為振動棒；(3)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器為超聲波發(fā)生器，位于所述電鍍槽中的所述振動發(fā)生器為振動棒；(4)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器為振動棒，位于所述電鍍槽中的所述振動發(fā)生器為超聲波發(fā)生器；(5)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器為振動棒，所述電鍍槽中不設(shè)置所述振動發(fā)生器；(6)位于所述預(yù)處理槽中的所述振動發(fā)生器為超聲波發(fā)生器，所述電鍍槽中不設(shè)置所述振動發(fā)生器。

5、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述電鍍槽中至少有一個所述振動發(fā)生器，所述振動發(fā)生器的數(shù)量為一個時，所述振動發(fā)生器位于所述電鍍槽靠近所述預(yù)處理槽一端，所述振動發(fā)生器為一個以上時，至少有一個所述振動發(fā)生器位于所述電鍍槽靠近所述預(yù)處理槽一端。

6、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述振動發(fā)生器包括殼體，所述殼體固定于所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽的底部，或者固定于上述預(yù)處理槽和所述電鍍槽的外周壁。

7、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述振動發(fā)生器的寬度與待電鍍件的寬度之比為(1～4):1。

8、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述陽極件的數(shù)量具有多個，且多個陽極件間隔排列設(shè)置在所述電鍍槽內(nèi)。

9、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述電鍍設(shè)備還包括：抽液機(jī)構(gòu)，所述抽液機(jī)構(gòu)的第一端連通所述電鍍槽，以接收來自所述電鍍槽的所述電鍍液；消泡機(jī)構(gòu)，所述消泡機(jī)構(gòu)連接所述抽液機(jī)構(gòu)的第二端，以接收來自所述抽液機(jī)構(gòu)的所述電鍍液，并對所述電鍍液進(jìn)行消泡；排液機(jī)構(gòu)，所述排液機(jī)構(gòu)的第一端連通所述消泡機(jī)構(gòu)，且其第二端連通所述電鍍槽，以將經(jīng)過所述消泡機(jī)構(gòu)消泡后的所述電鍍液排入所述電鍍槽，其中，所述消泡機(jī)構(gòu)至少包括以下至少之一結(jié)構(gòu)：加熱機(jī)，通過所述加熱機(jī)對所述電鍍液加熱，以對所述電鍍液進(jìn)行消泡；離心機(jī)，通過所述離心機(jī)對所述電鍍液進(jìn)行離心運(yùn)動，以對所述電鍍液進(jìn)行消泡；真空機(jī)，所述真空機(jī)容納所述電鍍液，對所述電鍍液進(jìn)行抽真空，以對所述電鍍液進(jìn)行消泡。

10、作為上述技術(shù)方案的進(jìn)一步改進(jìn)：所述電鍍設(shè)備還包括補(bǔ)液組件，所述補(bǔ)液組件用于將所述電鍍液噴射于所述電鍍槽中，以及將所述處理液噴射于所述預(yù)處理槽中，所述補(bǔ)液組件包括：管體，通過所述管體輸送所述電鍍液或所述處理液；噴頭，所述噴頭連通所述管體，以將來自所述管體內(nèi)的所述電鍍液或所述處理液噴射至待電鍍件表面，所述噴頭形成有腔體，在所述腔體的頂端形成有噴液孔，通過所述噴液孔將容納在所述腔體的所述電鍍液或所述處理液噴射出；在所述管體和所述腔體內(nèi)設(shè)置有消泡濾網(wǎng)和/或可轉(zhuǎn)動的螺旋消泡槳。

11、為實(shí)現(xiàn)上述目的，本申請?zhí)峁┝硪环N電鍍設(shè)備，包括預(yù)處理槽和電鍍槽，所述預(yù)處理槽和電鍍槽內(nèi)均設(shè)置有振動發(fā)生器，位于所述預(yù)處理槽內(nèi)的振動發(fā)生器為振動棒，位于所述電鍍槽內(nèi)的振動發(fā)生器為振動棒或超聲波發(fā)生器；其中，所述電鍍槽內(nèi)的所述振動發(fā)生器位于靠近所述預(yù)處理槽一端。

12、由此可見，本申請?zhí)峁┑囊环N電鍍設(shè)備，將預(yù)處理槽作為電鍍槽的前置設(shè)備，使得待電鍍件在電鍍前能被預(yù)處理，預(yù)處理槽中設(shè)置有振動發(fā)生器，或預(yù)處理槽和電鍍槽中均設(shè)置有振動發(fā)生器，振動發(fā)生器通過機(jī)械振動將柵線槽中的氣泡振蕩破裂或離開待電鍍件表面，以使得預(yù)處理槽中的處理液能進(jìn)入柵線槽內(nèi)去除氧化層及其他層狀結(jié)構(gòu)，電鍍槽中的電鍍液及金屬離子能進(jìn)入柵線槽內(nèi)，提高鍍層的均勻性。如此，通過對待電鍍件的精細(xì)化預(yù)處理及均勻電鍍，能夠提高電鍍設(shè)備的電鍍效率、改善電鍍設(shè)備的電鍍效果。

技術(shù)特征：

1.一種電鍍設(shè)備，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，所述振動發(fā)生器為超聲波發(fā)生器或振動棒。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽采用以下任一結(jié)構(gòu)：

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，包括：所述電鍍槽中至少有一個所述振動發(fā)生器，所述振動發(fā)生器的數(shù)量為一個時，所述振動發(fā)生器位于所述電鍍槽靠近所述預(yù)處理槽一端，所述振動發(fā)生器為一個以上時，至少有一個所述振動發(fā)生器位于所述電鍍槽靠近所述預(yù)處理槽一端。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，包括：所述振動發(fā)生器包括殼體，所述殼體固定于所述預(yù)處理槽和所述電鍍槽的底部，或者固定于上述預(yù)處理槽和所述電鍍槽的外周壁。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，包括：所述振動發(fā)生器的振動工作面寬度與待電鍍件的寬度之比為(1～4):1。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，包括：所述陽極件的數(shù)量具有多個，且多個陽極件間隔排列設(shè)置在所述電鍍槽內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，所述電鍍設(shè)備還包括：

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的電鍍設(shè)備，其特征在于，所述電鍍設(shè)備還包括補(bǔ)液組件，所述補(bǔ)液組件用于將所述電鍍液噴射于所述電鍍槽中，以及將所述處理液噴射于所述預(yù)處理槽中，所述補(bǔ)液組件包括：

10.一種電鍍設(shè)備，其特征在于，包括預(yù)處理槽和電鍍槽，所述預(yù)處理槽和電鍍槽內(nèi)均設(shè)置有振動發(fā)生器，位于所述預(yù)處理槽內(nèi)的振動發(fā)生器為振動棒，位于所述電鍍槽內(nèi)的振動發(fā)生器為振動棒或超聲波發(fā)生器；

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種電鍍設(shè)備，包括：電鍍槽，用于對待電鍍件進(jìn)行電鍍；預(yù)處理槽，用于對待電鍍件進(jìn)行預(yù)處理；陽極件，設(shè)置于電鍍槽中；電鍍電源，電鍍電源的正極連接陽極件；振動發(fā)生器，設(shè)置于預(yù)處理槽中，或預(yù)處理槽和電鍍槽中；輸送機(jī)構(gòu)，用于沿輸送路徑輸送待電鍍件，預(yù)處理槽和電鍍槽沿輸送路徑依次設(shè)置；工作狀態(tài)下，電鍍槽中盛載有電鍍液，陽極件位于電鍍液中，預(yù)處理槽中盛載有處理液，待電鍍件的待鍍區(qū)域依次浸沒于處理液中和電鍍液中，當(dāng)待電鍍件位于電鍍槽中，電鍍電源的負(fù)極連接待電鍍件。本申請利用振動發(fā)生器，能夠提高待電鍍件的鍍層的均勻性，改善電鍍效果和提高電鍍效率。

技術(shù)研發(fā)人員：黃勇,請求不公布姓名,請求不公布姓名
受保護(hù)的技術(shù)使用者：蘇州太陽井新能源有限公司
技術(shù)研發(fā)日：20240104
技術(shù)公布日：2025/1/9