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一種電鍍設備所用的防逆流裝置的制作方法

文檔序號:40426363發(fā)布日期:2024-12-24 14:59閱讀:21來源:國知局
一種電鍍設備所用的防逆流裝置的制作方法

本技術屬于及水平電鍍設備,涉及電鍍設備所用的防逆流裝置。


背景技術:

1、在太陽能基板表面生成金屬電極是生產(chǎn)太陽能電池流程中關鍵的一環(huán),采用電鍍工藝是在太陽能基板表面生成金屬電極的方法之一。相對于物理沉積金屬的工藝,或者絲網(wǎng)印刷工藝,電鍍工藝不僅具有工藝簡單,而且還具有可以選擇性沉積金屬的優(yōu)點。因此電鍍工藝的生產(chǎn)成本可以被控制的很低,從而可以大幅度降低生產(chǎn)晶體硅太陽能電池的成本。

2、專利cn117758347a公開了一體式水平電鍍設備及一體式水平電鍍方法,一體式水平電鍍設備,包括電鍍槽,電鍍槽內間隔設置回收槽,電鍍槽和回收槽內分別設置非導電滾輪和導電陰極滾輪,通過供液設備向電鍍槽內噴涌電鍍液,由于電鍍槽內部各處均連通,使得電鍍槽內電鍍液各處液面齊平,保證基板底面電鍍厚度足夠,電鍍厚度均勻,提高基板電鍍效果。

3、但是該方法中,電鍍槽內電鍍液隨著基板的移動而移轉至導電陰極滾輪,從而在導電陰極滾輪上生成不必要的電鍍層,影響基板的電鍍效果。


技術實現(xiàn)思路

1、本實用新型的目的在于提供一種電鍍設備所用的防逆流裝置,能解決上述的問題,從而可以避免在導電陰極滾輪上生成不必要的電鍍層。

2、按照本實用新型提供的技術方案:一種電鍍太陽能電池設備所用的防逆流裝置,所述的防逆流裝置中的電鍍槽的溢流壁與導電陰極滾輪之間設有引流板,所述的引流板頂部高度不低于溢流壁頂部高度。

3、作為本實用新型的進一步改進,電鍍槽內設有陽極,陽極及導電陰極滾輪連通電鍍電源正負極;電鍍槽連接進液管,進液管連接供液設備,供液設備通過進液管向電鍍槽內泵送電鍍液。

4、作為本實用新型的進一步改進,溢流壁頂部高度不高于導電陰極滾輪最高處。

5、作為本實用新型的進一步改進,引流板為豎直設置,引流板頂部高度不高于導電陰極滾輪最高處。

6、作為本實用新型的進一步改進,本裝置還包括轉動非導電滾輪,非導電滾輪轉動設置于電鍍槽;非導電滾輪和導電陰極滾輪頂部高度齊平。

7、作為本實用新型的進一步改進,電鍍槽側面頂部均布溢流缺口。

8、作為本實用新型的進一步改進,溢流缺口可以為v型缺口或者圓弧缺口。

9、本申請的積極進步效果在于:

10、本實用新型可以避免了電鍍液流至導電陰極滾輪,避免在導電陰極滾輪上發(fā)生電鍍,提高了基板電鍍質量,通過設置溢流缺口使電解液溢流均勻,保證基板底面電鍍厚度足夠,電鍍厚度均勻,提高基板電鍍效果。



技術特征:

1.一種電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,所述的防逆流裝置中的電鍍槽(100)的溢流壁(110)與導電陰極滾輪(200)之間設有引流板(300),所述的引流板(300)頂部高度不低于溢流壁(110)頂部高度。

2.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,電鍍槽(100)內設有陽極(600),陽極(600)及導電陰極滾輪(200)連通電鍍電源正負極;電鍍槽(100)連接進液管,進液管連接供液設備,供液設備通過進液管向電鍍槽(100)內泵送電鍍液。

3.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,溢流壁(110)頂部高度不高于導電陰極滾輪(200)最高處。

4.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,引流板(300)為豎直設置,引流板(300)頂部高度不高于導電陰極滾輪(200)最高處。

5.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,本裝置還包括轉動非導電滾輪(500),非導電滾輪(500)轉動設置于電鍍槽(100);非導電滾輪(500)和導電陰極滾輪(200)頂部高度齊平。

6.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,電鍍槽(100)側面頂部均布溢流缺口(120)。

7.如權利要求1所述的電鍍設備所用的防逆流裝置,其特征在于,溢流缺口(120)可以為v型缺口或者圓弧缺口。


技術總結
本技術涉及一種電鍍設備所用的防逆流裝置,所述的防逆流裝置中的電鍍槽的溢流壁與導電陰極滾輪之間設有引流板,所述的引流板頂部高度不低于溢流壁頂部高度,電鍍槽內設有陽極,陽極及導電陰極滾輪連通電鍍電源正負極;電鍍槽連接進液管,進液管連接供液設備,供液設備通過進液管向電鍍槽內泵送電鍍液。本技術避免了電鍍液流至導電陰極滾輪,從而可以避免在導電陰極滾輪表面發(fā)生電鍍,提高了電鍍質量。同時,通過設置溢流缺口使電解液溢流均勻,保證基板底面電鍍厚度足夠,電鍍厚度均勻,提高基板電鍍效果。

技術研發(fā)人員:覃榆森,季靜佳,陸一波,周國華
受保護的技術使用者:江蘇祥環(huán)科技有限公司
技術研發(fā)日:20240422
技術公布日:2024/12/23
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