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同質(zhì)異構(gòu)三層微裂紋鍍鉻的制作方法

文檔序號(hào):92089閱讀:481來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:同質(zhì)異構(gòu)三層微裂紋鍍鉻的制作方法
本發(fā)明是屬于電鍍的方法。
英國(guó)安美達(dá)化學(xué)公司1409059專利所公開的鍍鉻方法已成為普遍采用的方法。這種方法的缺點(diǎn)是鍍層結(jié)合力,防腐蝕能力和耐磨性均差,而且鍍層有脆性,其脫落的碎片或微粒經(jīng)常造成整個(gè)工作機(jī)構(gòu)出現(xiàn)故障,例如液壓機(jī)構(gòu)卡滯、燒蝕,影響整機(jī)的使用和壽命。
本發(fā)明的目的是給運(yùn)動(dòng)著的零件表面提供具有內(nèi)韌外堅(jiān)。“磨合”性優(yōu)良,并具有極好的防腐蝕能力、耐高溫、耐磨損和潤(rùn)滑性能優(yōu)良的鉻鍍層。
我們提供一種在金屬材料基體上鍍鉻的方法是采用改進(jìn)鍍液配方與改變電化學(xué)工藝參數(shù)等條件達(dá)到改變鍍層結(jié)構(gòu)來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)耐磨要求高,防高溫?zé)g等工件,如活柱、缸體、液壓元件等進(jìn)行特殊的快速同槽過(guò)渡的電鍍新方法。
根據(jù)本發(fā)明,我們提供一種在所有金屬材料基體上鍍鉻的工藝。
本發(fā)明的基礎(chǔ)工藝配方為鉻酐 CrO380~450克/升硫酸 H2SO40.8~4.8克/升混合GB添加劑
(亞硫酸鹽、硼酸和氧化鎂等的混合物) 2~10.0克/升電鍍工藝條件與參數(shù)
使用本發(fā)明電鍍的產(chǎn)品,鍍層外觀好。鍍層結(jié)晶致密、平整、光滑,零件光潔度可由鍍鉻前機(jī)加▽8提高到▽10,鍍層結(jié)合力好。經(jīng)過(guò)300℃加熱急冷,引伸試驗(yàn),劇烈沖擊以及折斷試驗(yàn)均無(wú)剝落與起皮現(xiàn)象,特別是經(jīng)過(guò)2800℃以上瞬時(shí)高溫條件下工作,鍍層無(wú)燒蝕與龜裂現(xiàn)象。
鍍層抗腐蝕性能強(qiáng),與基體結(jié)合的軟層在15微米時(shí),孔隙度為零,中性鹽霧試驗(yàn)均優(yōu)于雙層鉻與青銅/套鉻工藝,達(dá)到七個(gè)周期。3%~5%氯化鈉鹽水浸泡,其抗蝕性能優(yōu)于常規(guī)工藝18小時(shí)以上。
環(huán)境暴曬試驗(yàn),將活柱等零件懸掛在化學(xué)排氣塔下五年多,表面仍然光潔,無(wú)生銹與脫皮現(xiàn)象,而青銅/套鉻和雙層鉻工藝加工的零件,一年后就變色生銹。
鍍層韌性好,具有內(nèi)韌外堅(jiān)的特殊功能,基體顯微硬度300~400,軟鍍層400~600、過(guò)濾層600~800、功能層900~1200。
表層具有300~720條微裂紋/厘米2,有儲(chǔ)油功能,克服了干摩擦現(xiàn)象,儲(chǔ)油量為100毫克/米2左右;防燒蝕能力強(qiáng),可經(jīng)受瞬時(shí)高溫沖刷、不脫層、不燒蝕。
本發(fā)明,鍍液穩(wěn)定、電鍍效率高。采用“GB”等作添加劑、可細(xì)化結(jié)晶、整平表面、降低邊緣效應(yīng),金屬沉積速度較常規(guī)工藝提高50%以上。
本發(fā)明最重要的工業(yè)應(yīng)用之一是用于鍍覆要求耐磨損。防燒蝕的零件。使用本發(fā)明能使咬住和燒蝕減少到最低限度,同時(shí)大大地減少磨損,得到了在潮濕環(huán)境下抗化學(xué)氣體腐蝕的最佳性能。
本發(fā)明的最佳實(shí)例掩護(hù)支架活柱、缸體電鍍1、拋光工藝磷酸 H3SO450%硫酸 H2SO450%硫脲衍生物 0.01克/升溫度(℃) 15~50陽(yáng)極(DK) 10~20安培/分米2時(shí)間(分) 12~30
2、活化鉻酐 CrO380~450克/升硫酸 H2SO40.8~4.8克/升GB添加劑(鎂鹽等混合物) 3.5~8.8克/升陰極(DK) 5~8安培/分米2溫度(℃) 27~75時(shí)間(分) 2~153、除膜直接在活化液中進(jìn)行陽(yáng)極(DK) 25~35安培/分米2溫度(℃) 27~75時(shí)間(分) 1~84、同槽過(guò)渡電鍍鉻
權(quán)利要求
1.本發(fā)明是屬于電鍍的方法,其特征是零件經(jīng)過(guò)前處理電化學(xué)拋光,再采用改進(jìn)鍍液配方與添加劑及改變電化學(xué)工藝參數(shù),對(duì)零件進(jìn)行同槽過(guò)渡的電鍍。
2.根據(jù)權(quán)利要求
第1條所述的方法,前處理電化學(xué)拋光的特征是采用磷酸、硫酸與硫脲衍生物的混合物,進(jìn)行陽(yáng)極電解。
3.根據(jù)權(quán)利要求
第1條所述的方法,改進(jìn)鍍液配方與添加劑的特征是降低鉻酐與硫酸濃度,加入“GB”型光亮平整劑。
4.根據(jù)權(quán)利要求
第1條所述的方法,改變電化學(xué)工藝參數(shù)的特征是按照不同鍍層的顯微結(jié)構(gòu)及硬度將電流、溫度控制在35~100安培/分米245~80℃范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求
的第1條所述的方法,同槽過(guò)渡電鍍的特征是在鉻酐80~450克/升,硫酸0.8~4.8克/升,混合光亮平整劑在2~10克/升的條件下,不換鍍槽一次性的電鍍出三層微裂紋鉻層。
專利摘要
本發(fā)明是屬于電鍍的方法。利用改進(jìn)鍍液配方與添加劑及改變電化學(xué)工藝參數(shù)條件,對(duì)零件進(jìn)行同槽過(guò)渡的電鍍。使零件鍍層結(jié)構(gòu)改變。提高零件的“磨合”性,并具備有極好的防腐蝕能力與耐磨。耐高溫?zé)g。潤(rùn)滑性能優(yōu)良的鉻鍍層生產(chǎn)工藝。
文檔編號(hào)C25D5/14GK85104141SQ85104141
公開日1986年11月26日 申請(qǐng)日期1985年5月27日
發(fā)明者嚴(yán)欽元, 余介, 周君煜, 周道友, 游一太 申請(qǐng)人:國(guó)營(yíng)望江機(jī)器制造廠導(dǎo)出引文BiBTeX, EndNote, RefMan
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