專利名稱：電鍍液回收再生裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種電鍍回收再生裝置，尤其涉及一種借由除水循環(huán)裝置與電鍍槽連結(jié)循環(huán)的無(wú)污染電鍍液回收再生裝置。
電鍍液是工業(yè)污染的一大禍?zhǔn)?，因其易隨著電鍍物品的洗凈而逐漸流失至第1、2洗凈水槽13、14內(nèi)(如


圖1、2所示)，且針對(duì)低溫的電鍍條件，通常于電鍍槽11內(nèi)加設(shè)有冷卻裝置12，如
圖1所示，因其較室溫低，致使空氣中的水份逐漸深入電鍍槽11內(nèi)，反而加速電鍍液的流失與稀釋，甚至有溢出的污染可能，故洗凈水槽13、14內(nèi)的水液無(wú)法加以回收再使用；另針對(duì)高溫的電鍍條件，通常電鍍槽11內(nèi)的電鍍液液面會(huì)緩緩蒸發(fā)(如圖2所示)，不足以供洗凈水槽13、14內(nèi)的水液回收。
本實(shí)用新型的目的在于提供一種無(wú)污染電鍍液回收再生的裝置，可達(dá)到降溫、冷卻與除水兼具的功效，及可無(wú)污染回收洗凈水槽的電鍍液。
本實(shí)用新型的目的是這樣實(shí)現(xiàn)的，一種電鍍液回收再生的裝置，電鍍槽內(nèi)的電鍍液送至一除水循環(huán)裝置后再注回電鍍槽內(nèi)，其特點(diǎn)在于該除水循環(huán)裝置有一密閉容室，在密閉容室內(nèi)設(shè)置有氣曝元件，氣曝元件入端承接自電鍍槽抽送的電鍍液，而氣曝元件下方設(shè)有回收皿再接回電鍍槽，該密閉容室內(nèi)設(shè)有冷媒循環(huán)裝置的吸熱端部，與氣曝元件的電鍍液隔離，下方的集水皿排出吸熱端部上凝結(jié)滴下的水液。
所述電鍍槽內(nèi)的電鍍液送至去水循環(huán)裝置后再注回電鍍槽內(nèi)，該去水循環(huán)裝置有一密閉容室，在密閉容室內(nèi)設(shè)置有曝灑元件連接自電鍍槽，密閉容室底部呈回收皿再連接回電鍍槽，又曝灑元件下方曝灑范圍架設(shè)冷媒循環(huán)裝置的散熱端部，且散熱端部尾端經(jīng)一膨脹閥后形成吸熱端部，吸熱端部架設(shè)在曝灑元件上方的密閉容室頂部，在吸熱端部與曝灑元件間架組集水排皿，吸熱端部上凝結(jié)滴下的排出水液。
所述除水循環(huán)裝置中冷媒循環(huán)裝置與其吸熱端部，用吸熱作用的冰水管或可循環(huán)吸熱的媒介管路。
所述去水循環(huán)裝置中冷媒循環(huán)裝置的散熱端部與吸熱端部，用具散熱作用的熱水管與具吸熱作用的冰水管。
由于本實(shí)用新型采用上述結(jié)構(gòu)，能夠使電鍍液回收再生裝置兼具降溫、冷卻與除水的功效，達(dá)到洗凈水槽的電鍍液無(wú)污染回收的目的。
配合以下附圖對(duì)實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明
圖1習(xí)用電鍍槽的平面示意圖；圖2另一習(xí)用電鍍槽的平面示意圖；圖3本實(shí)用新型電鍍槽的平面示意圖；圖4本實(shí)用新型除水循環(huán)裝置的平面示意圖；圖5本實(shí)用新型除水循環(huán)裝置的另一平面示意圖；圖6本實(shí)用新型另一電鍍槽的平面示意圖；圖7本實(shí)用新型去水循環(huán)裝置的平面示意圖；圖8本實(shí)用新型去水循環(huán)裝置的另一平面示意圖。
首先，請(qǐng)先參閱圖3所示，本實(shí)用新型提供一種電鍍液回收再生的裝置，電鍍槽11內(nèi)的電鍍液送至一除水循環(huán)裝置22后再注回電鍍槽11內(nèi)，其中該除水循環(huán)裝置22系有一密閉容室23，在密閉容室23內(nèi)(如圖4所示)設(shè)置有氣曝元件24，氣曝元件24入端承接自電鍍槽11抽送的電鍍液，而氣曝元件24下方設(shè)有回收皿25再接回電鍍槽11，該密閉容室23內(nèi)設(shè)有冷媒循環(huán)裝置26的吸熱端部27，與氣曝元件24的電鍍液隔離，下方的集水皿28排出吸熱端部27上凝結(jié)滴下的水液，促使其達(dá)到降溫、冷卻與除水兼具的功效，并可達(dá)到回收洗凈水槽13、14無(wú)污染回收電鍍液的目的；其中亦可將除水循環(huán)裝置22中冷媒循環(huán)裝置26與其吸熱端部27，用吸熱作用的冰水管29或可循環(huán)吸熱的媒介管路(如圖5所示)。
另可將電鍍槽11內(nèi)的電鍍液送至一去水循環(huán)裝置32后再注回電鍍槽11內(nèi)，(如圖6、7所示)該去水循環(huán)裝置32有一密閉容室33，在密閉容室33內(nèi)設(shè)置有曝灑元件34連接自電鍍槽11，密閉容室-33底部呈回收皿再連接回電鍍槽11，又曝灑元件34下方曝灑范圍架設(shè)冷媒循環(huán)裝置35的散熱端部36，且散熱端部36尾端經(jīng)一膨脹閥37后形成吸熱端部38，使吸熱端部38架設(shè)在曝灑元件34上方的密閉容室33頂部，在吸熱端部38與曝灑元件34間架組集水排皿39，吸熱端部38上凝結(jié)滴下的排出水液，得促使其達(dá)到升溫、加熱與加速除水兼具的功效，達(dá)到回收洗凈水槽13、14電鍍液的無(wú)污染回收目的；去水循環(huán)裝置32中冷媒循環(huán)裝置35的散熱端部36與吸熱端部38，用具散熱作用的熱水管40與具吸熱作用的冰水管41，或利用可循環(huán)吸熱與可循環(huán)散熱的媒介管路(如圖8所示)。
上述已將本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)、特征及其組合的相關(guān)位置做一詳述，為使本實(shí)用新型的目的、特征及功效更為卓著，以下茲就其使用情形及預(yù)期達(dá)到的功效、優(yōu)點(diǎn)說(shuō)明如后由本實(shí)用新型除水循環(huán)裝置22的設(shè)置，將電鍍槽11內(nèi)的電鍍液抽至密封容室23的氣曝元件24落下，再由冷媒循環(huán)裝置26的吸熱端部27抽出水液排出并防止污染，同時(shí)將電鍍液降溫、冷卻，滿足低溫電鍍條件的電鍍槽11使用，回收洗凈水槽13、14的廢電鍍液回收至電鍍槽11使用，徹底達(dá)到零污染與降低電鍍成本的實(shí)用目的；又去水循環(huán)裝置32的設(shè)置，將電鍍槽11內(nèi)的電鍍液抽至密封容室33的曝灑元件34，由冷媒循環(huán)裝置35的散熱端部36加熱同時(shí)蒸發(fā)水份，再由上部的吸熱端部38配合集水排皿39將蒸氣凝結(jié)加速分離排出水并防止污染，同時(shí)將電鍍液升溫、加熱，滿足高溫電鍍條件的電鍍槽11使用(如圖5、6所示)，可加速回收洗凈水槽13、14的廢電鍍液回收至電鍍槽11使用，完全達(dá)到零污染與降低電鍍成本的實(shí)用目的。
權(quán)利要求1．一種電鍍液回收再生裝置，電鍍槽內(nèi)的電鍍液送至一除水循環(huán)裝置后再注回電鍍槽內(nèi)，其特征在于該除水循環(huán)裝置有一密閉容室，在密閉容室內(nèi)設(shè)置有氣曝元件，氣曝元件入端承接自電鍍槽抽送的電鍍液，而氣曝元件下方設(shè)有回收皿再接回電鍍槽，該密閉容室內(nèi)設(shè)有冷媒循環(huán)裝置的吸熱端部，與氣曝元件的電鍍液隔離，下方的集水皿排出吸熱端部上凝結(jié)滴下的水液。
2．按照權(quán)利要求1所述的一種電鍍液回收再生裝置，其特征在于，電鍍槽內(nèi)的電鍍液送至一去水循環(huán)裝置后再注回電鍍槽內(nèi)，該去水循環(huán)裝置有一密閉容室，在密閉容室內(nèi)設(shè)置有曝灑元件連接自電鍍槽，密閉容室底部呈回收皿再連接回電鍍槽，又曝灑元件下方曝灑范圍架設(shè)冷媒循環(huán)裝置的散熱端部，且散熱端部尾端經(jīng)一膨脹閥后形成吸熱端部，吸熱端部架設(shè)在曝灑元件上方的密閉容室頂部，在吸熱端部與曝灑元件間架組集水排皿，吸熱端部上凝結(jié)滴下的排出水液。
3．按照權(quán)利要求1所述的一種電鍍液回收再生裝置，其特征在于，所述除水循環(huán)裝置中冷媒循環(huán)裝置與其吸熱端部，用吸熱作用的冰水管或可循環(huán)吸熱的媒介管路。
4．按照權(quán)利要求2所述的一種電鍍液回收再生裝置，其特征在于，在去水循環(huán)裝置中冷媒循環(huán)裝置的散熱端部與吸熱端部，用具散熱作用的熱水管與具吸熱作用的冰水管。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種電鍍液回收再生的裝置。它是將電鍍槽內(nèi)的電鍍液送至除水循環(huán)裝置后再注回電鍍槽內(nèi),其主要包括一密閉容室,及其內(nèi)設(shè)置的氣曝元件、回收皿、冷媒循環(huán)裝置的吸熱端部與集水皿,構(gòu)組成的除水循環(huán)裝置,得促使其達(dá)到降溫、冷卻與除水兼具的功效,或另由一去水循環(huán)裝置替代達(dá)到升溫,加熱與加速除水兼具的功效,以實(shí)現(xiàn)可無(wú)污染回收洗凈水槽電鍍液的目的。
文檔編號(hào)C25D21/16GK2343173SQ9820903
公開日1999年10月13日 申請(qǐng)日期1998年2月26日 優(yōu)先權(quán)日1998年2月26日
發(fā)明者蔡正義 申請(qǐng)人:蔡正義