專利名稱：將槽底部與槽的其它部分隔開的分離構(gòu)件的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種去除電解槽中產(chǎn)生的固體、將電解槽底部與槽的其它部分隔開的分離構(gòu)件。
在電解過程中，會在設(shè)置于電解槽中的陰極上產(chǎn)生例如銅、鎳和鋅等析出金屬，它們既可以來自正在溶解到電解槽中的金屬陽極，也可以來自已經(jīng)溶解到電解液中的金屬離子。然而，并不是所有的固體都析出到陰極表面上，例如貴金屬和電解液中包含的固體雜質(zhì)。因此，伴隨著金屬精煉過程，在電解槽的底部積累了各種固體，必須隨時將它們從槽中清除出去，原因例如可以是由于固體中含有貴重成分，例如貴金屬，或者是由于較厚的固體積累有害于電解過程所取得的陰極純度。
通常，積累在電解槽中的固體至少是部分非常精細(xì)分離的，并且僅比電解液稍重，因而難以將這些固體從電解液中分離出去。在電解過程中，如果固體從電解槽底部開始循環(huán)是極為有害的，因為，隨后這些固體終止于陰極上的機會特別大，并且這將導(dǎo)致準(zhǔn)備生產(chǎn)的金屬的純度顯著下降。
通常，去除積累在電解槽底部的固體需要中斷整個電解過程，這減少了單位時間的效率，即，電解廠的生產(chǎn)率。因此，去除固體須在電解液，即，陽極和陰極的更換過程部分進(jìn)行，這使得更換復(fù)雜、緩慢，并且限制去除固體只能按由所述更換交替過程所確定的周期進(jìn)行。此外，必須首先從槽中去除大量的電解液，然后再將其倒回到槽中，這通常對電解液的質(zhì)量起著有害的作用，而且?guī)碓S多額外的工作。在固體處理系統(tǒng)中，還要處理大量的電解液，這些電解液必須換成新的，并且可能對固體的進(jìn)一步處理有害。另外，手工清洗電解槽使得該過程明顯地增加了勞動強度，并且例如由于槽的噴濺作用和由于含在飛沫中的成分而對雇員造成健康上的損害。而且，幾乎是不可能對電解液自動處理，由于手工清洗電解槽所需雇員的數(shù)量，進(jìn)一步增加了電解廠中對勞動力的需求。
本發(fā)明的目的是避免現(xiàn)有技術(shù)的缺點，并實現(xiàn)一種先進(jìn)的適用于電解槽的分離構(gòu)件，以便將電解槽的底部與槽的其它部分隔離開，從而基本上無需打亂電解過程便可以將固體從電解槽底部去除。這些本發(fā)明的主要的新特征將從后面所附的權(quán)利要求中清楚可見。
構(gòu)件本發(fā)明，在一個電解槽中，最好在電解槽壁上，安裝支撐構(gòu)件，它們除了提供支撐之外，還對安裝在電解槽中的分離構(gòu)件的路徑進(jìn)行導(dǎo)向。所述分離構(gòu)件基本上沿著電解槽的整個長度安置于其中，大體接近于槽的底部，在去除形成于槽底上的固體時使用，以便分離構(gòu)件將液態(tài)的電解液與沉淀到電解槽底部、準(zhǔn)備去除的固體分開。
根據(jù)本發(fā)明的分離構(gòu)件由柔性連接結(jié)構(gòu)部件制成，這些部件形成基本密封的表面，還可以相互彎曲。因此，無需在槽上制造任何專門的開口，只簡單地通過在液態(tài)電解液的表面并進(jìn)而在表面下大體靠近電解槽的后壁引導(dǎo)分離構(gòu)件，就可將分離構(gòu)件裝入電解槽中。
當(dāng)需要去除積累在電解槽底部上的固體時，首先將本發(fā)明的分離構(gòu)件引到電解槽之上，進(jìn)入位于電解槽后壁和最靠近所述后壁的電極之間的空間，以便分離構(gòu)件的一端有利地大體靠近電解液表面。當(dāng)分離構(gòu)件開始從一個輸送構(gòu)件引入電解槽時，進(jìn)入電解液表面之下，利用加在電解槽中，最好是加在電解槽壁上的支撐和控制構(gòu)件控制分離構(gòu)件在電解液中的路徑上。所述支撐和控制構(gòu)件形成分離構(gòu)件在電解槽中的軌線。加在電解槽底部附近的支撐和控制構(gòu)件被安裝在電解槽中，它相對于電解槽底部的高度為，當(dāng)以輸送構(gòu)件確定的速度移動分離構(gòu)件時，形成于電解槽底部的固體不會由于分離構(gòu)件的運動而引起循環(huán)，從而可防止固體再次混入液態(tài)電解液中。
由于分離構(gòu)件的結(jié)構(gòu)部件可相互彎曲，所以當(dāng)把分離構(gòu)件裝入槽中時，分離構(gòu)件的行進(jìn)方向可以從電解槽后壁附近的基本上垂直的方向變換到電解槽側(cè)壁附近的基本上水平的方向上。因此，分離構(gòu)件的支撐和控制構(gòu)件可被設(shè)置在基本上靠近電解槽的兩個后壁附近，以便可有利地通過一個后壁附近的空間將分離構(gòu)件插入電解槽，并通過另一個后壁附近的空間將其移走。
當(dāng)根據(jù)本發(fā)明的分離構(gòu)件被置于電解槽中時，分離構(gòu)件將位于槽底部的部分與槽的其它部分分開，同時將形成于電解槽底部的固體與電解過程所需的電解液分開。從而，可對留在分離構(gòu)件和電解槽底部之間的空間進(jìn)行固體清理，而不使固體有機會混入槽的其它部分中的液態(tài)電解液。因此，可在電解過程進(jìn)行的同時去除固體，并且與電極處理步驟完全分開。當(dāng)固體已被從電解槽底部去除后，利用加在電解槽中的支撐和控制物件將分離構(gòu)件從槽中移走，并移到一個設(shè)置在槽外的分離構(gòu)件輸送器上移動；所述輸送器將分離構(gòu)件傳送給另一個必須進(jìn)行相同的從電解槽底部去除固體的操作的電解槽。
根據(jù)本發(fā)明的分離構(gòu)件可設(shè)置于電解槽中，以便在分離構(gòu)件和相對的后壁之間留出足夠的空隙，以便分離構(gòu)件不將位于分離構(gòu)件下面的固體和位于其上的電解液分離開。在這種情況下，分離構(gòu)件不會由于其上的電極液的重量而變形，并且由分離構(gòu)件分開的空間因此與容納電解液的空間相連。根據(jù)本發(fā)明的分離構(gòu)件還可被置于電解槽中，以便分開構(gòu)件以一種基本上密封的方式將留在分離構(gòu)件之下包含有固體的空間分開。在這種情況下，分離構(gòu)件最好可設(shè)有例如一個充有某些液態(tài)或氣態(tài)物質(zhì)的密封媒介，該密封媒介用于密封分離構(gòu)件，所述分離構(gòu)件裝入電解槽中并靠著電解槽壁就位。
除了位于槽底部的空間外，分離構(gòu)件還可從電解槽中隔離其它空間，至少可分離出位于后壁之一附近的空間，以便例如當(dāng)去除固體時，可方便地利用所述從后壁附近分離出的空間。
當(dāng)采用根據(jù)本發(fā)明的分離構(gòu)件時，可在電解槽中安裝分離構(gòu)件的支撐和控制構(gòu)件，以便當(dāng)移動分離構(gòu)件時，僅利用位于后壁之一附近的支撐和控制構(gòu)件，在這種情況下分離構(gòu)件做前、后運動；或者支撐和控制構(gòu)件安裝在電解槽的兩個后壁附近，以便分離構(gòu)件穿過位于一個后壁附近的電極和所述后壁之間的空間插入電解槽中，并通過在相對的后壁和位于該后壁附近的電極之間的空間從電解槽中移出，在這種情況下分離構(gòu)件總是在相同方向上運動。
在分離構(gòu)件中，還可連接至少部分電解槽底部洗刷設(shè)備，在這種情況下，洗刷設(shè)備隨分離構(gòu)件進(jìn)入電解槽。與分離構(gòu)件相連的洗刷設(shè)備可包括例如清洗噴嘴或機械固體清除裝置，在這種情況下，在電解槽底部可加入一些例如液態(tài)或氣態(tài)的固體的洗滌劑。
下面將參考附圖對本發(fā)明做更詳細(xì)的說明，其中，

圖1表示本發(fā)明第一個優(yōu)選實施例的局部側(cè)剖視圖，圖2表示從A-A方向觀察的圖1中的實施例，圖3表示本發(fā)明另一個優(yōu)選實施例的局部側(cè)剖視圖，圖4表示本發(fā)明第三個優(yōu)選實施例的局部側(cè)剖視圖。
根據(jù)圖1和圖2，在一個電解槽1中設(shè)置有電極包括以交替地布置的陽極2和陰極3，在電解過程中待生產(chǎn)的金屬利用設(shè)在電解槽1中的電解質(zhì)溶液4析出到陰極3上。在電解過程中，電解槽的底部5上沉淀有固體6，這些固體6必須隨時從槽1中清除。根據(jù)本發(fā)明，在電解槽1的側(cè)壁8和9上裝有支撐和控制構(gòu)件10。在分離構(gòu)件11置入電解槽1并被引入槽1中時，借助所述支撐和控制構(gòu)件10對其進(jìn)行支撐，從而構(gòu)件10形成分離構(gòu)件11的軌線。將含有固體6的電解槽底部12與槽1的其余部分分開的分離構(gòu)件11由相互柔性連接的結(jié)構(gòu)部件13構(gòu)成，當(dāng)分離構(gòu)件11從后壁7附近行進(jìn)到電解液底部5附近時，這些部件13可很好地彎曲分離構(gòu)件11。
在根據(jù)圖1和圖2的實施例中，分離構(gòu)件11設(shè)有噴嘴14，液體或氣體從其中引入底部12，以便促進(jìn)對固體6的清理。固體6和留在底部12中的液體，與通過噴嘴14給入的液體或氣體一起經(jīng)過設(shè)在電解槽底部5上的出口15清除出電解槽1。
圖3的實施例與圖1中的實施例不同，其中，分離構(gòu)件21密封地裝入電解槽1中。因此，借助分離構(gòu)件21從電解槽中分離出的底部22，和留在分離構(gòu)件21和電解槽后壁7之間的空間23一起形成基本封閉的空間，以便通過空間23將固體24和空間22和23中的液體從電解槽中排出。
在圖4中，一個如圖1所示的分離構(gòu)件11被置入電解槽1中，支撐和控制構(gòu)件10被裝入電解槽側(cè)壁8和9，以便保證分離構(gòu)件11例如在后壁7附近，插入電解槽中，并在第二后壁32附近從電解槽中移出。
權(quán)利要求
1.一種去除沉淀到電解槽(1)底部上的固體(6)將電解槽底部與槽的其它部分分開的分離構(gòu)件，其特征在于，在電解槽(1)中，安裝有形成分離構(gòu)件(11，21，31)軌線的支撐和控制構(gòu)件(10)，使分離構(gòu)件(11，21，31)可通過留在電解槽的至少一個后壁(7，32)和最靠近所述后壁的電極(2)之間的空間插入到電解槽(1)中，并可從其中移去。
2.如權(quán)利要求1所述的分離構(gòu)件，其特征在于，分離構(gòu)件(11，21，31)由結(jié)構(gòu)部件(13)制成，它們相互連接，以便所述部件(13)可相互彎曲。
3.如權(quán)利要求1或2所述的分離構(gòu)件，其特征在于，被分離構(gòu)件(11，21，31)分開空間電解槽底部的空間(12)和位于后壁附近的空間(23)形成基本上封閉的空間。
4.如權(quán)利要求3所述的分離構(gòu)件，其特征在于，(分離構(gòu)件11，21，31)在電解槽(1)中形成密封、均勻的表面。
5.如權(quán)利要求1或2所述的分離構(gòu)件，其特征在于，被分離構(gòu)件(11，21，31)分開的空間(12，23)與電解槽含有電解液(4)的空間相連。
6.如前述權(quán)利要求之一所述的分離構(gòu)件，其特征在于，至少部分固體洗刷設(shè)備(14)安裝在分離構(gòu)件(11，21，31)中，以便向電解槽的底部(12)供給洗滌劑。
7.如權(quán)利要求6所述的分離構(gòu)件，其特征在于，所述洗滌劑為液體。
8.如權(quán)利要求6所述的分離構(gòu)件，其特征在于，所述洗滌劑為氣體。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種去除沉淀到電解槽(1)底部上的固體(6)將電解槽底部與槽的其它部分分開的分離構(gòu)件,電解槽(1)中安裝有形成分離構(gòu)件(11,21,31)軌線的支撐和控制構(gòu)件(10),使分離構(gòu)成(11,21,31)可通過留在電解槽的至少一個后壁(7,32)和最靠近所述后壁的電極(2)之間的空間插入到電解槽(1)中,并可從其中移去。
文檔編號C25C7/06GK1268983SQ98808729
公開日2000年10月4日 申請日期1998年8月26日 優(yōu)先權(quán)日1997年8月29日
發(fā)明者湯姆·馬蒂拉 申請人:奧托庫姆普聯(lián)合股份公司