一種Ni-W/SiC復(fù)合鍍層制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明屬于復(fù)合電鍍技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種Ni-W/SiC復(fù)合電鍍工藝。
【背景技術(shù)】
[0002]Ni-W合金具有優(yōu)異的耐蝕性，良好的耐磨性。但是耐磨性在一定環(huán)境下明顯不足， 如在石油井鉆探時存在泥漿砂礫，即易于發(fā)生顆粒磨損。向鍍液中加入硬質(zhì)顆粒如SiC， 獲得復(fù)合鍍層，能夠顯著提高鍍層的耐磨性；如專利（公開號CN1227282A，CN1683600A和 CN101302643A)中獲得了Ni/SiC復(fù)合鍍層，大大提高了鎳鍍層的耐磨性。
[0003] SiC為不溶性固體顆粒，本身不帶有電荷，在電場作用下不會發(fā)生電迀移至電極 上，僅僅在攪拌下擴散到電極表面，與電極碰撞時才有可能與鍍層發(fā)生復(fù)合，所以SiC在金 屬鍍層的含量不高，一般不超過10%。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明的目的旨在制備出具有優(yōu)異耐蝕性和耐磨性的Ni-W/SiC鍍層，其SiC含量 大于10% ;將在機械尤其采油機械、汽車、精密制造和航空航天領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
[0005] 實現(xiàn)本發(fā)明目的的技術(shù)方案是： 選用的復(fù)合電鍍液包含：硫酸鎳10 ~ 60g/L，鎢酸鈉10 ~ 60g/L，檸檬酸鈉10-100g/L和SiC微米顆粒1 ~ 30g/L。改變SiC微米顆粒含量，也可加入硫酸銨，并改變其濃度 都可調(diào)控SiC在鍍層中濃度，10 ~ 35Wt%。
[0006]選用的電鍍工藝：電鍍液的pH值為6 ~ 8,電鍍液的溫度為50 ~ 90°C，電流密度 為 1 ~ 10A/dm2。
[0007] 與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明具有以下突出優(yōu)點： 本發(fā)明制備出Ni-W/SiC復(fù)合鍍層具有異的耐蝕性和耐磨性；鍍層中SiC含量高達10 ~ 35fft% ； 本發(fā)明所提出的電鍍液具有維護方便，易于再生的特點，使用成本低。
【附圖說明】
[0008] 圖1是不同硫酸銨濃度所得Ni-W/SiC復(fù)合鍍層的SEM圖片，（a) 0g/L; (b) 10 g/L; (c) 50g/L。
【具體實施方式】 [0009] 實施例1 先稱取硫酸鎳10g，鎢酸鈉60g，檸檬酸銨70g，放入1L燒杯中，再加去離子水至體 積的4/5，加熱攪拌溶解，最后加入5gSiC微顆粒，攪拌2h。利用氫氧化鈉調(diào)節(jié)溶液pH為7。 電鍍液的溫度控制在70°C，電流密度為2. 5A/dm2,電鍍時間lh，即得Ni-W/SiC復(fù)合鍍層， 其組分見表1中的No. 1，SiC%為24. 69,Ni%為36. 91，W%為38. 41。表觀形貌見圖1 (a)。
[0010] 表1.Ni-W/SiC復(fù)合鍍層的組分。
【主權(quán)項】
1. 一種Ni-W/SiC復(fù)合鍍層制備方法，其特征在于：采用復(fù)合電鍍技術(shù)制備Ni-W/SiC 復(fù)合鍍層；選用的復(fù)合電鍍液包含：硫酸鎳10 ~ 60 g/L，鎢酸鈉10 ~ 60 g/L，檸檬酸鈉 10-100 g/L，硫酸銨1-50 g/L和SiC微米顆粒1 ~ 30 g/L ;選用的電鍍工藝：電鍍液的pH 值為6 ~ 8,電鍍液的溫度為50 ~ 90°C，電流密度為I ~ 10 A/dm2。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述一種Ni-W/SiC復(fù)合鍍層制備方法，其特征在于：Ni-W/SiC復(fù)合 鍍層中SiC的含量在10 ~ 35 Wt%。
【專利摘要】一種Ni-W/SiC復(fù)合鍍層制備方法，其SiC的含量在10 ~ 35 Wt%之間。并公開了Ni-W/SiC復(fù)合鍍層制備工藝，包括電鍍液的濃度和電鍍參數(shù)。將在機械尤其采油機械、汽車、精密制造和航空航天領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用前景。
【IPC分類】C25D3-56, C25D15-00
【公開號】CN104831324
【申請?zhí)枴緾N201510215097
【發(fā)明人】蘇長偉, 白陽, 葉猛超, 侯健萍, 郭俊明, 袁明龍
【申請人】云南民族大學(xué)
【公開日】2015年8月12日
【申請日】2015年4月30日