基板鍍敷裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及將基板浸潰在鍍敷液中而在基板表面進行鍍敷的鍍敷裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]以往，已知有在將保持有基板的鍍敷夾具鉛垂地設(shè)置，使鍍敷液由鍍敷槽的底面流入并從上面溢流的半導(dǎo)體基板用鍍敷裝置中，設(shè)置有可在鍍敷夾具與陽極之間往復(fù)運動的槳葉(paddle)，以便在鍍敷處理中將鍍敷液均勻地提供給基板的被鍍敷面的全部區(qū)域。
[0003]在利用這種槳葉的攪拌的情況下，利用鍍敷夾具保持基板，一面使槳葉往復(fù)運動一面進行鍍敷，但是液流的方向與槳葉的行進方向相反，存在由于液流方向交替而無法加速在表面的流速的問題。
[0004]因此，在專利文獻I中公開了一種利用使鍍敷液發(fā)生渦流的渦發(fā)生器，使從鍍敷槽的下部供給的鍍敷液發(fā)生渦流的鍍敷裝置。
[0005]但是，在這種鍍敷裝置的情況下，必須在鍍敷槽外設(shè)置用以將鍍敷液送至渦發(fā)生器的循環(huán)栗，不僅設(shè)置空間會變大，還由于鍍敷液從鍍敷槽的下部供給至渦發(fā)生器，而難以使流速在被鍍敷面的上下均勻。
[0006][專利文獻I]日本特開2004-345066

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007](發(fā)明所要解決的問題)
[0008]因此，本發(fā)明的問題在于提供一種克服現(xiàn)有的鍍敷裝置的上述缺點，無須在鍍敷槽外設(shè)置循環(huán)栗，就可提高鍍敷液的流速，并使流速從鍍敷槽的底部至液面相同，其結(jié)果，可遍及基板全部區(qū)域地，進行鍍敷膜厚均勻且析出速度亦快速的鍍敷處理的鍍敷裝置。
[0009](解決問題的措施)
[0010]本發(fā)明用于解決上述問題，提供一種鍍敷裝置，具備；收容鍍敷液的鍍敷槽；拆裝自如地保持基板的基板保持件；與基板保持件所保持的基板相對置地配置的陽極；以與基板保持件平行的方式架設(shè)在鍍敷槽的上方的軌道部；以及被懸垂支持在該軌道部且可沿軌道部往返移動的槳葉，所述鍍敷裝置的特征在于:在所述槳葉上垂直設(shè)置有以軸部為中心而旋轉(zhuǎn)自如或轉(zhuǎn)動自如的葉片部。
[0011](發(fā)明的效果)
[0012]本發(fā)明的鍍敷裝置在可沿軌道部往返移動的槳葉上設(shè)置旋轉(zhuǎn)自如或轉(zhuǎn)動自如的葉片部，據(jù)此可調(diào)整抵碰于基板的流速或方向，液流平均地抵碰整個基板而無不勻，因此可使鍍敷膜厚均勻。
[0013]此外，在本發(fā)明的鍍敷裝置中，槳葉的葉片部總是以恒定方向旋轉(zhuǎn)，使基板的被鍍敷面附近的液流成為單一方向，而以小的動力就可使液流以高速抵碰于基板表面。
[0014]此外，在本發(fā)明的鍍敷裝置中，將槳葉的葉片部在規(guī)定的角度范圍內(nèi)進行轉(zhuǎn)動(擺動)，使液流垂直地抵碰于基板W的被鍍敷面，并且液流遍及基板W全面地抵碰，因此可均勻地進行鍍敷處理。
【附圖說明】
[0015]圖1為本發(fā)明的鍍敷裝置的概略平面圖。
[0016]圖2為本發(fā)明的鍍敷裝置的概略剖面圖。
[0017]圖3為本發(fā)明的鍍敷裝置中不同的實施方式的概略平面圖。
[0018]圖4為本發(fā)明的鍍敷裝置中不同的實施方式的概略剖面圖。
[0019]圖5的(a)為顯示本發(fā)明的鍍敷裝置的槳葉的一個實施方式的主視圖，(b)為顯示本發(fā)明的鍍敷裝置的槳葉的一個實施方式的剖面圖。
【具體實施方式】
[0020]以下根據(jù)附圖，具體說明本發(fā)明的鍍敷裝置的實施方式。另外，本發(fā)明并不受這些實施方式的任何限制。
[0021]圖1為本發(fā)明的鍍敷裝置的概略平面圖，圖2為本發(fā)明的鍍敷裝置的概略剖面圖。如圖所示，本發(fā)明的鍍敷裝置具備:收容鍍敷液的鍍敷槽I ;拆裝自如地保持基板的基板保持件2 ;與基板保持件2所保持的基板W相對置地配置的陽極3 ;以與基板保持件2平行的方式架設(shè)在鍍敷槽I的上方的軌道部5 ;以及懸垂支持于該軌道部5且可沿軌道部5往返移動的槳葉4。以下說明各構(gòu)件。
[0022]如圖所示，軌道部5以與基板保持件2平行的方式架設(shè)于鍍敷槽I上方且在基板保持件2與陽極3之間。在該軌道部5上懸垂支持有具備用于沿軌道部5左右往返移動的驅(qū)動裝置(未圖標(biāo))的槳葉4。該槳葉4具備作為葉片部41的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動裝置的電機43，并具有與電機43連動而旋轉(zhuǎn)自如地垂直設(shè)置的軸部42。
[0023]在槳葉4的軸部42上形成有分別朝向相反方向突出的2個葉片部41，設(shè)置為在從電機43經(jīng)由軸部42而傳遞的旋轉(zhuǎn)力的作用下旋轉(zhuǎn)自如。在本實施方式中，葉片部41形成為剖面呈矩形，但也可形成為在葉輪的旋轉(zhuǎn)行進方向具有凹面的弧狀。通過設(shè)置這種凹面，葉片部41可效率良好地捕集鍍敷液而使流速提高。此外，關(guān)于葉片部41的個數(shù)，雖無特別限制，但尤其優(yōu)選為2個。此外，關(guān)于葉片部41的寬度(在圖面上為上下方向的長度)優(yōu)選為至少具有可覆蓋基板W的被鍍敷面的高度的寬度。
[0024]本實施方式的槳葉4沿軌道部5而左右往返移動，但是此時，葉片部41始終朝單一方向旋轉(zhuǎn)。例如，在圖1的實施方式中，葉片部41在槳葉4的往返移動中，始終以順時鐘旋轉(zhuǎn)。這樣，無論槳葉4的行進方向如何，都始終使葉片部41的旋轉(zhuǎn)方向恒定，據(jù)此基板W的被鍍敷面附近的液流成為單一方向，以小的動力就可使液流高速地抵碰于基板表面。
[0025]圖3及圖4為顯示本發(fā)明的鍍敷裝置的第二實施方式。該第二實施方式在架設(shè)于鍍敷槽I的上方的軌道部5上懸垂支持的槳葉4可往返移動的方面，與第一實施方式相同。在第二實施方式中，在以下方面具有特征。即，在本實施方式中，槳葉4的葉片部41設(shè)置為在規(guī)定的角度范圍內(nèi)借助于電機43而轉(zhuǎn)動(擺動)自如。具體而言，從軸部42朝向基板W方向突出而設(shè)置的葉片部41如圖中的箭頭所示，相對于基板W從直角的位置朝左右轉(zhuǎn)動。此時，葉片部41的轉(zhuǎn)動角度無特別限制，但是為了以最小的動力而效率良好地產(chǎn)生液流，優(yōu)選設(shè)定在30度?90度(相對于關(guān)于基板W的垂線為單側(cè)15度?45度)的范圍。此外，關(guān)于葉片部41的個數(shù)，亦沒有限制，但是若個數(shù)增加則會產(chǎn)生多余的液流，因此如圖所示優(yōu)選設(shè)置為I個。
[0026]如上所述，在第二實施方式中，葉片部41 一面在規(guī)定的角度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動，一面使槳葉4沿著軌道部5左右往返移動，因此液流會垂直地抵碰于基板W的被鍍敷面，并且液流遍及基板W全面地抵碰，因此可均勻地進行鍍敷處理。
[0027]另外，在第二實施方式的鍍敷裝置中，也可以不使葉片部41轉(zhuǎn)動，而是在相對于槳葉4的行進方向保持恒定角度的同時使槳葉4移動。通過這種方法，可有效率地使液流抵碰于基板W的被鍍敷面，因此以小的動力就可均勻地進行鍍敷處理。
[0028]此外，在第二實施方式的鍍敷裝置中，也可以將葉片部41保持為自由轉(zhuǎn)動的方式，并且在槳葉4上設(shè)置用于將葉片部41的轉(zhuǎn)動角度限制在規(guī)定范圍內(nèi)的止動件。通過這種方式，液體對于葉片部41的阻力會與槳葉4的行進方向相對應(yīng)而改變，因此葉片部41的方向及角度可按照槳葉4的移動而變更、保持。據(jù)此，可使液流效率良好地抵碰于基板W的被鍍敷面，因此可以以小的動力而均勻地進行鍍敷處理。
[0029]圖5為顯示本發(fā)明的鍍敷裝置的槳葉的不同的實施方式。本實施方式的槳葉被稱為所謂的交叉流葉輪的類型，在上下的圓板狀支持部44之間，2個葉片部41隔著旋轉(zhuǎn)軸部分而對稱地垂直設(shè)置。這種葉片部41設(shè)置為以連續(xù)設(shè)置在上部的支持部44上的軸部42為旋轉(zhuǎn)軸而旋轉(zhuǎn)自如。此外，在本實施方式的槳葉4上，沿著與陽極3側(cè)相對置的側(cè)面，設(shè)置有以半圓形彎曲的覆蓋部45。如上所述，通過將本發(fā)明的鍍敷裝置的槳葉形成為交叉流葉輪類型，液流遍及基板W全面地進行抵碰，因此可均勻地進行鍍敷處理。
[0030](附圖標(biāo)記的說明)
[0031]1:鍍敷槽;2:基板保持件;3:陽極;4:槳葉;5:軌道部;41:葉片部;
[0032]42:軸部；43:電機部；44:支持部；45:覆蓋部。
【主權(quán)項】
1.一種鍍敷裝置，具備； 收容鍍敷液的鍍敷槽；拆裝自如地保持基板的基板保持件；與基板保持件所保持的基板相對置地配置的陽極；以與基板保持件平行的方式架設(shè)在鍍敷槽的上方的軌道部；懸垂支持于所述軌道部且可沿軌道部往返移動的槳葉， 其特征在于:在所述槳葉上垂直設(shè)置有以軸部為中心旋轉(zhuǎn)自如或轉(zhuǎn)動自如的葉片部。2.如權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，所述葉片部借助于驅(qū)動裝置而總是以單一方向旋轉(zhuǎn)。3.如權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，所述葉片部借助于驅(qū)動手段而在規(guī)定的角度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動。4.如權(quán)利要求1所述的鍍敷裝置，其特征在于，在所述槳葉上，垂直設(shè)置在上下的圓板狀的支持部之間的一組葉片部被形成為以連續(xù)設(shè)置在上部的支持部上的軸部為旋轉(zhuǎn)軸而旋轉(zhuǎn)自如的方式。5.如權(quán)利要求4所述的鍍敷裝置，其特征在于，在所述槳葉上，設(shè)置有沿側(cè)面彎曲成半圓形的覆蓋部。
【專利摘要】本發(fā)明的目的在于提供一種鍍敷裝置，其無須在鍍敷槽外設(shè)置循環(huán)泵，而可提高鍍敷液的流速，并可使流速從鍍敷槽的底部至液面相同，其結(jié)果，可遍及基板全部區(qū)域地，進行鍍敷膜厚均勻且析出速度快速的鍍敷，鍍敷裝置具備：收容鍍敷液的鍍敷槽；拆裝自如地保持基板的基板保持件；與基板保持件所保持的基板相對置地配置的陽極；以與基板保持件平行的方式架設(shè)在鍍敷槽的上方的軌道部；以及懸垂支持于該軌道部且可沿軌道部往返移動的槳葉，其特征在于；在該槳葉上垂直設(shè)置有以軸部為中心旋轉(zhuǎn)自如或轉(zhuǎn)動自如的葉片部。
【IPC分類】C25D21/10
【公開號】CN105209670
【申請?zhí)枴緾N201480026900
【發(fā)明人】吉岡潤一郎, 村山隆史
【申請人】株式會社杰希優(yōu)
【公開日】2015年12月30日
【申請日】2014年3月27日
【公告號】US20160138181, WO2014185159A1